We studied the optical and structural properties of conventional and ion-beam-assisted-deposition (IBAD) Nb$_2$O$_{5}$ films which were evaporated by an electron beam gun. The vacuum-to-air spectral shift and the cross sectional SEM images of the Nb$_2$O$_{5}$ films were investigated. The results show that the IBAD Nb$_2$O$_{5}$ films have a higher packing density than the conventional Nb$_2$O$_{5}$ films. The average refractive index of IBAD Nb$_2$O$_{5}$ films was increased, while the extinction coefficient was decreased compared with the conventional films. As the oxygen flow was increased, the average refractive index and extinction coefficient of the conventional and IBAD films decreased. Both the conventional and IBAD Nb$_2$O$_{5}$ films showed inhomogeneity in refractive index, and the degree of inhomogeneity of the IBAD Nb$_2$O$_{5}$ films became larger as the ion current density was increased. All Nb$_2$O$_{5}$ films were found to be amorphous by x-ray diffraction (XRD) analysis, and hence the crystal structure of Nb$_2$O$_{5}$ films was not changed by IBAD.
A novel technique for fine particle beam focusing under the atmospheric pressure is introduced using a radiation pressure assisted aerodynamic lens. To introduce the radiation pressure in the aerodynamic focusing system, a 25 mm plano-convex lens having 2.5 mm hole at its center is used as an orifice. The particle beam width is measured for various laser power, particle size, and flow velocity. In addition, the effect of the laser characteristics on the beam focusing is evaluated comparing an Ar-Ion continuous wave laser and a pulsed Nd-YAG laser. For the pure aerodynamic focusing system, the particle beam width was decreased as increasing particle size and Reynolds number. For the particle diameter of 0.5 ${\mu}m$, the particle beam was broken due to the secondary flow at Reynolds number of 694. Using the Ar-Ion CW laser, the particle beam width becomes smaller than that of the pure aerodynamic focusing system about 16 %, 11.4 % and 9.6 % for PSL particle size of 2.5 ${\mu}m$, 1.0 ${\mu}m$, and 0.5 ${\mu}m$ respectively at the Reynolds number of 320. Particle beam width was minimized around the laser power of 0.2 W. However, as increasing the laser power higher than 0.4 W, the particle beam width was increased a little and it approached almost a constant value which is still smaller than that of the pure aerodynamic focusing system. The radiation pressure effect on the particle beam width is intensified as Reynolds number decreases or particle size increases relatively. On the other hand, using 30 Hz pulsed Nd-YAG laser, the effect of the radiation pressure on the particle beam width was not distinct unlike Ar-Ion CW laser.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.16
no.12
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pp.8679-8683
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2015
Using a surface modification technique, ion beam assisted deposition (IBAD) of Ti thin film it becomes possible to prepare an active ceramic surface to braze $Al_2O_3$-STS304 with conventional Ag-Cu eutectic composition filler metal. Researches on bonding formations at interfaces of ceramic joints were mainly related on the development of filler metals to ceramic, the process parameters, and clarifications of reaction products. From the results, the reactive brazing is a very convenient technique compared to the conventional Mn-Mo method. However melting point of reactive filler is still higher than that of Ag-Cu eutectic and it forms the brittle inter metallic compound. Recently several new approaches are introduced to overcome the main shortcomings of the reactive metal brazing in ceramic-metal, metal vapor vacuum arc ion source was introduced to implant the reactive element directly into the ceramics surface, and sputter deposition with sputter etching for the deposition of active material.
We investigate the dependence of indium tin oxide (ITO) thin films on the mixing ratio of Ar:O$_2$ produced by an ion-gun and $O_2$ injected inside the divergence angle of the ion-beam to optimize their sheet resistance and transmittance. The substrate is placed outside the divergence angle, and the films are grown by ion mixing with ITO evaporated at room temperature. From the XRD measurement ITO films are found to be amorphous. ITO thin films show the highest transmittance of 85% at 3$\times$10$^{-5}$ Torr of 0$_2$ and Ae:O$_2$ ratio of 40:60, and the smallest sheet resistance of 132 $\Omega$/$\square$at 1$\times$10$^{-5}$ Torr of $O_2$ and As:O$_2$ ratio of 40:60.
Tin-doped indium oxide(ITO) thin films were deposited on polyethylene terephthalate(PET) at room temperature by oxygen ion beam assisted evaporator system and the effects of oxygen gas flow rate on the properties of room temperature ITO thin films were investigated. Plasma characteristics of the ion gun such as oxygen ions and atomic oxygen radicals as a function of oxygen flow rate were investigated using optical emission spectroscopy(OES). Faraday cup also used to measure oxygen ion density. The increase of oxygen flow rate to the ion gun generally increase the optical transmittance of the deposited ITO up to 6sccm of $O_2$ and the further increase of oxygen flow rate appears to saturate the optical transmittance. In the case of electrical property, the resistivity showed a minimum at 6 sccm of $O_2$ with the increase of oxygen flow rate. Therefore, the improved ITO properties at 6 sccm of $O_2$ appear to be more related to the incorporation of low energy oxygen radicals to deposited ITO film rather than the irradiation of high energy oxygen ions to the substrate. At an optimal deposition condition, ITO thin films deposited on PET substrates showed the resistivity of $6.6{\times}10^{-4}$${\Omega}$ cm and optical transmittance of above 90%.
We deposited the ion assisted ${Ta_2}{O_5}$ films and conventional thermal evaporated ${Ta_2}{O_5}$ films by using electron beam gun, and measured the optical properties and mechanical properties of the fabricated films according to the evaporation conditions. In the case of the TazOs films by oxygen ion assisted deposition with the anode voltage of 120 V, and current density of $50~500\muA/cm^2$, the refractive index exhibited 2.15 which was higher than the conventionally deposited film index 1.94 and the tensile stress exhibited $5.0\times10^8 dyne/cm^2$ which was lower than $7.0\times10^8 dyne/cm^2$. This properties coincided with the optical and mechanical properties of the films deposited at the elevated substrate temperature of $230^{\circ}C$. In the case of the argon ion assisted films the tensile stress was decreased but the absorption existed at the short wavelength in the visible spectral region. And all the fabricated films were found to be amorphous by the X-ray diffraction analysis. lysis.
Ion beam assisted deposition system was used to deposit CNx coatings with various thickness on the substrates of high-frequency induction hardened steels. Rolling contact fatigue tests were performed using Polymet RCF-1 machine with a constant supply of lubricant. Rolling contact fatigue life was substantially different in the steels with various thickness of CNx coatings. The optimum thickness of CNx coating was found to be $8.9{\mu}m$, showing the longest fatigue life, mainly caused by higher resistance to initiation of cracks and protective overcoat remaining to the surface failure during rolling contact fatigue. Cracks were initiated in the substrates under the surface of wear track and propagated to the surface, which eventually resulted in the failure. The reduction of fatigue life observed in the specimen with elimination of CNx coating during rolling contact fatigue was explained by the substrates deformation.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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v.8
no.3
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pp.62-67
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2009
Pt thin films on Cr or Ti interlayer were deposited onto a tungsten carbide(WC) substrate by the ion beam assisted DC magnetron sputtering. The various atomic percent of Cr and Ti underneath of the Pt films were prepared to examine the total thin film characteristics. The microstructure and surface analysis of the specimen were conducted by using the SEM, XRD and AFM. Mechanical properties such as hardness and adhesion strength of Pt thin film also were examined. The interlayer of pure Ti was formed with 40 nm thickness while that of pure Cr was done with 50 nm as standard reference. The growth rate of either Cr or Ti thin film was almost same under the same deposition conditions. The SEM images showed that anisotropic grain of Pt thin films consisting of dense columnar structures irrespectively grew from the different target compositions. The values of hardness and adhesion strength of Cr/Pt thin film coated on a WC substrate were higher than those of Ti/Pt thin film.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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