• 제목/요약/키워드: InGaAs/InAlAs

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전해질 첨가제가 알루미늄-공기전지의 성능에 미치는 영향 (Effect of Electrolyte-Additives on the Performance of Al-Air Cells)

  • 박권필;전해수
    • 공업화학
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    • 제9권1호
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    • pp.52-57
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    • 1998
  • 알루미늄-공기전지의 4M KOH전해질에 아연화합물과 같은 첨가제를 넣어 수소발생 및 알루미늄의 부식에 미치는 영향을 검토하였다. 첨가제중의 아연화합물은 수소발생과전압을 증가시키고, TPC(tripotasium citrate)와 CaO는 알루미늄표면에 치밀한 막을 형성하여 수소발생속도와 알루미늄부식속도를 감소시켰다. 이들 첨가제들에 의해 고순도알루미늄(순도, 99.999%)의 개회로전위는 양의 방향으로, 알루미늄 No 1050(순도, 99.5%)의 개회로전위는 음의 방향으로 약간 이동했다. 개회로전위에서 첨가제는 수소발생속도와 알루미늄 부식속도를 감소시켰으며, 과전압이 증가할수록 수소발생속도가 감소하여 알루미늄의 이용율이 증가하였다. 높은 전류밀도$(>100mA/cm^2)$에서는 TPC/CaO/ZnO 첨가제에 의해 고순도 알루미늄의 이용율이 In,Ga,Tl 합금 알루미늄의 이용율과 비슷하였다.

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RF 마그네트론 스퍼터링 법으로 사파이어 기판 위에 성장시킨 ZnO: Ga 박막의 RTA 처리에 따른 photoluminescence 특성변화 (Enhancement of photoluminescence and electrical properties of Ga doped ZnO thin film grown on $\alpha$-$Al_2O_3$(0001) single crystal substrate by RE magnetron sputtering through rapid thermal annealing)

  • 조정;나종범;오민석;윤기현;정형진;최원국
    • 한국진공학회지
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    • 제10권3호
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    • pp.335-340
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    • 2001
  • RF마그네트론 스퍼터링법으로 사파이어 기판 위에 Ga을 1 wt% 첨가한 ZnO 박막(GZO)을 기판온도 $550^{\circ}C$에서 성장시켜 다결정 박막을 제조하였다. 이러한 박막은 불충분한 전기적 특성이나 PL(Photoluminescence) 특성을 보이고 있다. 이러한 전하농도, 이동도 그리고 PL특성 등과 같은 전기적 광학적 특성을 향상시키고자 질소분위기하에서 RTA(Rapid Thermal Annealing) 법으로 $800^{\circ}C$$900^{\circ}C$에서 각각 3분씩 후열처리 하였다. RTA법으로 후열처리한 GZO박막의 비저항은 $2.6\times10^{-4}\Omega$/cm 였으며 전자농도와 이동도는 각각 $3.9\times10^{20}/\textrm{cm}^3$과 60 $\textrm{cm}^2$/V.s 였다. 이러한 물리적 성질들의 향상은 열처리시 원자 크기가 비슷한 도핑된 Ga 원자들이 일부 휘발되는 Zn 빈자리로 치환하면서 침입자리 보다는 치환자리로의 전이에 기인한 것으로 생각된다.

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플립칩 본딩 구조의 표면방출레이저 어레이에 대한 열 해석 (Thermal analysis of a VCSEL array with flip-chip bond design)

  • 김선훈;김태언;김상택;기현철;양명학;김효진;고항주;김회종
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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    • pp.415-416
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    • 2008
  • The finite element model was used to simulate the temperature distribution of a arrayed vertical-cavity surface-emitting laser (VCSEL). In this work, the dimension of AlGaAs/GaAs based VCSEL array was $50{\mu}m$ active diameter and $250{\mu}m$ pitch, and AuSn solder of 80wt%Au-20wt%Sn was included to flip-chip bond. The results of the thermal simulation will be applied to predict the thermal cross-talk in high speed parallel optical interconnects.

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태양전지 성능향상을 위한 하향변환 형광체의 합성 및 특성평가 (Synthesis and Characteristic Evaluation of Downward Conversion Phosphor for Improving Solar Cell Performance)

  • 김재호;김가람;최진토;김수종
    • 문화기술의 융합
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    • 제9권5호
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    • pp.523-528
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    • 2023
  • 금속염 수용액과 고분자 매개체를 출발물질로 사용한 액상합성법으로 적색 파장을 방출하는 형광체를 합성하여, 태양전지 성능향상을 위한 소재로서의 적용 가능성을 검토하였다. Ca, Zn, Al, Eu 등 금속의 질산염을 사용하여 수용액을 제조하고 이것을 식물성 고분자인 전분에 함침시킨 전구체를 소결하여 CaZnAlO:Eu 형광체 분말을 합성하였다. 합성한 CaZnAlO:Eu 형광체 분말의 표면구조 및 성분분석을 주사전자현미경(SEM)과 에너지분산형 X-선분광법(EDS)으로 분석하였다. PL측정 결과 650-780nm의 근적외선영역의 발광파장을 가지는 적색형광체가 성공적으로 합성되었다. XRD 분석결과 단일상을 가진 순수한 CZA:Eu3+ 형광체가 합성된 것을 확인하였다. SEM, EDS 분석 결과 합성한 Ca14Zn6Al9.93O35:Eu3+0.07 형광체 분말의 입도가 균일하며, 부활제로 사용한 Eu 이온이 존재하고 있는 것을 알 수 있다. 합성된 CZA:Eu3+ 형광체는 자외선이나 가시광선을 근적외선영역의 파장으로 하향변환하여 태양전지의 광 흡수효율을 높일 수 있는 소재로 활용될 수 있다.

초임계 유체법에 의한 SrTiO3: Pr3+ 형광체 분말 제조 및 발광특성 (Preparation of SrTiO3: Pr3+ Phosphors Using Supercritical Fluid Method and its Luminescence Properties)

  • 최근묵;홍석형;임대영;노준석;조승범
    • 한국세라믹학회지
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    • 제39권11호
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    • pp.1023-1027
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    • 2002
  • 본 연구에서는 초임계 mixing을 이용하여 $SrTiO_3:\;Pr^{3+}$ 형광체 분말을 제조하였으며, 일반적 제조 방법인 고상법으로 제조된 분말과 발광특성을 비교하였다. 초임계 mixing에 의해 제조된 $SrTiO_3:\;Pr^{3+}$ 형광체 분말은 단상의 perovskite 구조를 갖으며, 형상은 구형인 좁은 입도분포를 보인다. 발광특성의 증대를 sensitizer인 $Al^{3+}$$Ga^{3+}$을 첨가하여 형광체의 발광특성을 관찰하였다.

더덕 ( 사삼 )의 재배방법별 일반성분 및 무기성분에 관한 연구 ( Proximate and Mineral of Dried Wild and Cultivated Codonopsis lanceolata Benth , et Hook , Fil , of Different Cultivated Groups )

  • 신수철
    • 한국자원식물학회지
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    • 제4권2호
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    • pp.39-45
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    • 1991
  • Proximate compositions of the roots of cultured and wild Codonopsis lanceolata were examined as tile basic reasearch for the study of their source of processed foods.No significant difference in the contents was found between the wild root and thecultivated at 3$0^{\circ}C$ in biotronroom. In view of the results to have measured mineralswhich is included in 14 sorts of Codonopsis lanceolata and surveyed their distribution.12 kinds of minerals including T1, Co, Ge, Sm, Mo, Sc, Be, Cd, As, Ga, Bi, ph are ne-vel or little included in almost source. Other twenty-one sorts of minerals (Ni, Se,Ba, Sb, Si, Ti, B, Li, Ifs, Ca, Sr, Mn, Fe, Cu, Zn, p, Al, Na, V, Cr, K) are more or less in-cluded in all source and Ca, Mg, p, K, and Fe are metals that are included in large qu-entities in comparison with others. No minerals difference in the contents was foundbetween the cultivated temperature. The content of elements of inorganic metal differsaccording to the part of C. lanceolata.

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Cu 기판위에 성장한 MgO, $MgAl_2O_4$$MgAl_2O_4/MgO$ 박막의 집속이온빔을 이용한 스퍼터링수율 측정과 이차전자방출계수 측정 (Sputtering Yield and Secondary Electron Emission Coefficient(${\gamma}$) of the MgO, $MgAl_2O_4$ and $MgAl_2O_4/MgO$ Thin Film Grown on the Cu Substrate by Using the Focused Ion Beam)

  • 정강원;이혜정;정원희;오현주;박철우;최은하;서윤호;강승언
    • 한국진공학회지
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    • 제15권4호
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    • pp.395-403
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    • 2006
  • [ $MgAl_2O_4$ ] 막은 MgO 보호막 보다 단단하며 수분 흡착 오염 문제에 상당히 강한 특성을 가진다. 본 연구에서 AC-PDP 의 유전체보호막으로 사용되는 MgO 보호막의 특성을 개선하기 위해 $MgAl_2O_4/MgO$ 이중층 보호막을 제작하여 특성을 조사하였다. 전자빔 증착기를 사용하여 Cu 기판에 MgO 와 $MgAl_2O_4$을 각각 $1000\AA$ 두께로 증착, $MgAl_2O_4/MgO$$200/800\AA$ 두께로 적층 증착 후, 이온빔에 의한 충전현상을 제거하기 위해 Al 을 $1000\AA$ 두께로 증착하였다. 집속 이온빔 (focused ion beam: FIB) 장치를 이용하여 10 kV 에서 14 kV 까지 이온빔 에너지에 따라 MgO는 $0.364{\sim}0.449$ 값의 스퍼터링 수율에서 $MgAl_2O_4/MgO$ 을 적층함으로 $24{\sim}30 %$ 낮아진 $0.244{\sim}0.357$ 값의 스퍼터링 수율이 측정되었으며, $MgAl_2O_4$는 가장 낮은 $0.088{\sim}0.109$ 값의 스퍼터링 수율이 측정되었다. g-집속이온빔 (g-FIB) 장치를 이용하여 $Ne^+$ 이온 에너지를 50 V 에서 200 V 까지 변화시켜 $MgAl_2O_4/MgO$ 와 MgO 는 $0.09{\sim}0.12$의 비슷한 이차 전자방출 계수를 측정하였다. AC- PDP 셀의 72 시간 열화실험 후 SEM 및 AFM으로 열화된 보호막의 표면을 관찰하여 기존의 단일 MgO 보호막과 $MgAl_2O_4/MgO$의 적층보호막의 열화특성을 살펴보았다.

Effects of Interfacial Dielectric Layers on the Electrical Performance of Top-Gate In-Ga-Zn-Oxide Thin-Film Transistors

  • Cheong, Woo-Seok;Lee, Jeong-Min;Lee, Jong-Ho;KoPark, Sang-Hee;Yoon, Sung-Min;Byun, Chun-Won;Yang, Shin-Hyuk;Chung, Sung-Mook;Cho, Kyoung-Ik;Hwang, Chi-Sun
    • ETRI Journal
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    • 제31권6호
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    • pp.660-666
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    • 2009
  • We investigate the effects of interfacial dielectric layers (IDLs) on the electrical properties of top-gate In-Ga-Zn-oxide (IGZO) thin film transistors (TFTs) fabricated at low temperatures below $200^{\circ}C$, using a target composition of In:Ga:Zn = 2:1:2 (atomic ratio). Using four types of TFT structures combined with such dielectric materials as $Si_3N_4$ and $Al_2O_3$, the electrical properties are analyzed. After post-annealing at $200^{\circ}C$ for 1 hour in an $O_2$ ambient, the sub-threshold swing is improved in all TFT types, which indicates a reduction of the interfacial trap sites. During negative-bias stress tests on TFTs with a $Si_3N_4$ IDL, the degradation sources are closely related to unstable bond states, such as Si-based broken bonds and hydrogen-based bonds. From constant-current stress tests of $I_d$ = 3 ${\mu}A$, an IGZO-TFT with heat-treated $Si_3N_4$ IDL shows a good stability performance, which is attributed to the compensation effect of the original charge-injection and electron-trapping behavior.

치은 섬유아세포(Gingival fibroblast)에 대한 저출력 레이저광의 효과에 관한 실험적 연구 (AN EXPERIMENTAL STUDY ON THE EFFEITS OF LOW POWER DENSITY LASER ON THE HUMAN GINGIVAL FIBROBLAST)

  • 김기석;김생곤
    • Journal of Oral Medicine and Pain
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    • 제12권1호
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    • pp.17-26
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    • 1987
  • In order to investigate the biostimulatory effect of low power density laser radiation in vitro, human gingival fibroblasts were cultured in MEM in which experiment groups respectively were made to 30 sec, 60 sec and 90 sec group. The experiments were performed by cell count, DNA and protein content measurements after experimental groups were irradiated with GaAlAs laser every day by forth day and then control group and experimental groups were compared. The results were as follows: 1. Cell counts of experimental groups were increased with exposure time, but showed no significance (P>0.05). 2. When the protein contents were compared, there was a very significant increase in 90 sec. experimental group (P<0.01). 3. When the DNA contents were compared, there was a significant difference only between control and 70 sec. group (P<0.05).

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타켓 종류에 따른 대향타겟 스퍼터링 장치의 방전 특성 (Discharge Characteristics of Facing Targets Sputtering Apparatus with Targets Species)

  • 금민종;손인환;신성권;가출현;박용서;김경환
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
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    • pp.620-623
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    • 2004
  • In this study, the discharge characteristic of FTS (Facing Targets Sputtering) apparatus was investigated using metal target paramagnetic and ceramic targets such as Zn, Al, $ZnO:Al(Al_2O_3)$, ITO. Threshold voltage and stable stage of discharge show different with target species. Compare with commercial sputtering apparatus, the FTS apparatus is a high-speed sputter method that promotes ionization of sputter gas by screw and reciprocate moving high-speed ${\gamma}$electrons which arrays two targets facing each other, inserts plasma arresting magnetic field to the parallel direction of the center axis of both targets, discharged from targets and accelerated at the cathode falling area. Especially, we notice that the FTS method using ceramic target has stable discharge characteristic even by DC power source.

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