• 제목/요약/키워드: InGaAlP/GaAs

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InAlGaAs/InGaAs HBT의 Monte carlo 해석 (Monte carlo analysis of InAlGaAs/InGaAs HBT)

  • 황성범;김용규;송정근
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 1998년도 하계종합학술대회논문집
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    • pp.405-408
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    • 1998
  • Due to the large conduction band discontinuity between emitter base, OmGaAs HBT has an advantge to enable the hot electrons to inject into the base. In this paper, InAlGaAs/InGaAs HBT with the various emitter junction gradings and the modified collectors are simulated and analyzed by HMC(hybrid monte carlo) simulator in order to find a optimal structure for the shortest transit time. A minium base transit time (.tau.$_{b}$ ) of 0.21 ps was obtained for HBT with the grading layer, which is parabolically graded from x=1.0 to x=0.5. The minimum collector transit time (.tau.$_{c}$ ) of 0.31ps was found when the collector was modified by inserting p$^{[-10]}$ and p$^{+}$ layers. Thus HBT in combination with the emitter grading and the modified collector layer showed the cut-off frequency (f$_{T}$) of 183GHz.z.z.

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SiCl$_4$와 Cl$_2$가스에 의한 InP, InGaAs 및 InAIAs의 반응성 이온 식각: 가스유량, rf 전력, 공정압력, Ar 첨가의 영향 (Reactive Ion Etching of InP, InGaAs and InAIAs by SiCl$_4$ and Cl$_2$ Gases: Effects of Gas Flow Rate, rf Power, Process Pressure and Ar Addition)

  • 유재수;송진동;배성주;정지훈;이용탁
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 2001년도 하계종합학술대회 논문집(2)
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    • pp.25-28
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    • 2001
  • In this paper, we have investigated the effects of gas flow rate, rf power, process pressure and Ar addition on reactive ion etching of InP, InGaAs and InAlAs using Sic14 and Cl$_2$ gases. The etch rates were measured by using a surface profiler. The etched profiles, sidewall roughness, and surface morphology were observed by scanning electron microscopy and by atomic force microscopy. The selective etching of InGaAs to InP and InAlAs was studied by varying the etching parameters. It was found that Cl$_2$ gas is more efficient for the selective etching of InGaAs to InAlAs than SiCl$_4$ gas. The etch selectivity of InGaAs to InAlAs is strongly dependent on the rf power and the process pressure.

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둥근 어깨 자세를 가진 자의 등세모근 위 섬유의 압통점에 975-nm GaAlAs 저출력레이저 적용에 대한 즉각적인 효과 (The Immediate Effects of 975-nm GaAlAs Low-level Laser Therapy on Myofacial Triger Point of Upper Trapezius Muscle in Subjects with Rounded Shoulder Posture)

  • 김병조;이정훈
    • 대한물리의학회지
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    • 제9권4호
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    • pp.433-438
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    • 2014
  • PURPOSE: The purpose of our study was to compare a 975-nm, 500-mW GaAlAs low-level laser therapy versus placebo low-level laser therapy with regard to the immediate changes on the myofascial trigger point of the dominant upper trapezius muscle in subjects with rounded shoulder posture. METHODS: Thirty-two male college students with rounded shoulder posture and shoulder pain consented to participate in the experiment. The subjects were randomly assigned to a 2-minute procedure with either an active GaAlAs low-level laser or a placebo GaAlAs low-level laser. The pressure-pain threshold and visual analog scale on tenderness at 3 kg were measured with an algometer before and after the laser treatments. RESULTS: The active GaAlAs low-level laser group showed significant changes in pressure-pain threshold and visual analog scale on tenderness at 3 kg (p<0.05). The placebo GaAlAs low-level laser group showed no significant changes in either pressure-pain threshold or visual analog scale on tenderness at 3 kg (p>0.05). CONCLUSION: An immediate effect was observed in pressure-pain threshold and visual analog scale on tenderness at 3 kg following a 2-minute application ($857.14J/cm^2$) of a 975-nm, 500-mW GaAlAs low-level laser to the myofascial trigger point of the dominant upper trapezius muscle in patients with rounded shoulder posture.

InGaAlP 레이저다이오드를 적용한 Rat의 착상 치유에서 면역조직화학적 연구 (A Study on the Immunohistology in Injury Cure of Rat by using InGaAlP Laser Diode)

  • 유성미;박용필;천민우
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제22권5호
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    • pp.431-435
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    • 2009
  • The apparatus has been fabricated using the laser diode and microprocessor unit. The apparatus used a InGaAlP laser diode for laser medical therapy and was designed for a pulse width modulation type to increase stimulation effects. To raise the stimulus effect of the human body, the optical irradiation frequency could be set up. The study has executed in-vivo experiment by employing our own developed laser diode irradiation system to investigate the effects of the InGaAlP laser diode irradiation on the wound healing as a preliminary study aimed at the application of InGaAlP laser diode to wound healing of human skin injury. The study cut out whole skin layers of Sprague-Dawley rat on the back part in 1 cm circle and observed developing effects after executing light irradiation for 9 days, and in result it is found that the light irradiation rat showed earlier wound healing than non-irradiation rat during the experimental period. In addition, there are some differences found regarding the healing process between laser diode irradiated rats and non-irradiated ones.

InP 기판에 형성한 InAs/InAlGaAs 양자점의 광학적 특성

  • 이하민;조병구;최일규;박동우;이관재;이철로;김진수;한원석;임재영
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2015년도 제49회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.194.2-194.2
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    • 2015
  • 본 논문에서는 InP 기판에 자발형성법 (Self-assembled Mode)으로 성장한 InAs/InAlGaAs 양자점(Quantum Dots)의 외부 열처리 온도에 따른 광학적 특성을 논의한다. 분자선증착기 (Molecular Beam Epitaxy, VH80MBE)로 5주기 적층구조를 갖는 InAs/InAlGaAs 양자점 시료 (기준시료)를 성장 후 온도 의존성 및 여기광세기 의존성 포토루미네슨스 (photoluminescence, PL) 분광법으로 기본특성을 평가하였다. 양자점 시료를 $500{\sim}800^{\circ}C$에서 열처리를 수행하고 광학적 특성을 열처리 전과 비교하여 분석하였다. $550^{\circ}C$에서 열처리한 InAs/InAlGaAs 양자점 시료의 저온 (11K) PL 파장은 1465 nm를 보였으며, 이는 열처리를 하지 않은 기준시료의 1452 nm 보다 13 nm 장파장으로 이동하였다. 열처리 온도가 $700^{\circ}C$ 이상인 경우, 양자점 PL 파장이 다시 단파장으로 이동하는 현상을 보였지만 여전히 열처리하지 않은 기준시료보다 장파장을 나타내었다. $700^{\circ}C$에서 열처리한 양자점 시료의 저온 PL 광세기는 기준시료보다 15.5배 더 크게 나타났으며, 주변 온도가 증가할수록 더디게 감소하는 것을 확인할 수 있었다. 온도의존성 PL로부터 구한 활성화에너지 (Activation Energy)는 $700^{\circ}C$ 열처리 온도의 경우 175.9 meV를 나타내었다. InAs/InAlGaAs 양자점 시료의 열처리 온도에 따른 광특성 변화를 InAs 양자점과 InAlGaAs 장벽층 계면에서 III족 원소인 In, Al 및 Ga의 상호확산과 결함이 완화되는 현상으로 해석할 수 있다.

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Fabrication and Characterization of $0.2\mu\textrm{m}$ InAlAs/InGaAs Metamorphic HEMT's with Inverse Step-Graded InAlAs Buffer on GaAs Substrate

  • Kim, Dae-Hyun;Kim, Sung-Won;Hong, Seong-Chul;Paek, Seung-Won;Lee, Jae-Hak;Chung, Ki-Woong;Seo, Kwang-Seok
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • 제1권2호
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    • pp.111-115
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    • 2001
  • Metamorphic InAlAs/InGaAs HEMT are successfully demonstrated, exhibiting several advantages over conventional P-HEMT on GaAs and LM-HEMT on InP substrate. The strain-relaxed metamorphic structure is grown by MBE on the GaAs substrate with the inverse-step graded InAlAs metamorphic buffer. The device with 40% indium content shows the better characteristics than the device with 53% indium content. The fabricated metamorphic HEMT with $0.2\mu\textrm{m}$T-gate and 40% indium content shows the excellent DC and microwave characteristics of $V_{th}-0.65V,{\;}g_{m,max}=620{\;}mS/mm,{\;}f_T120GHZ{\;}and{\;}f_{max}=210GHZ$.

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평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs/AlGaAs 및 GaAs/InGaP 의 선택적 및 비선택적 건식식각의 비교 (Comparison of Selective and Non-Selective Dry Etching of GaAs/AlGaAs and GaAs/InGaP using Planar Inductively Coupled Plasmas)

  • 박민영;최충기;류현우;노호섭;문준희;유승열;임완태;이제원;조관식;전민현;송한정;백인규;권민철;박건수;윤진성
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2005년도 춘계학술발표대회 및 제8회 신소재 심포지엄 논문개요집
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    • pp.73-73
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    • 2005
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Photoluminescence Up-conversion in GaAs/AlGaAs Heterostructures

  • Cheong, Hyeonsik M.
    • Journal of Korean Vacuum Science & Technology
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    • 제6권2호
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    • pp.58-61
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    • 2002
  • Photoluminescence up-conversion in semiconductor heterostructures is a phenomenon in which luminescence occurs at energies higher than that of the excitation photons. It has been observed in many semiconductor heterostructure systems, including InP/AnALAs, CdTe/CdMgTe, GaAs/ordered-(Al)GalnP, GaAs/AIGaAs, and InAs/GaAs. In this wort, GaAs/AIGaAs heterostructures are used as a model system to study the mechanism of the up-conversion process. This system is ideal for testing different models because the band offsets are quite well documented. Different heterostructures are designed to study the effect of disorder on the up-converted luminescence efficiency. In order to study the roles of different types of carriers, the effect of doping was investigated. It was found that the up-converted luminescence is significantly enhanced by p-type doping of the higher-band-gap material.

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850 nm GaAs/AlGaAs MQW LD의 Lateral-mode 특성 연구 (Analysis of Lateral-mode Characteristics of 850-nm MQW GaAs/(Al,Ga)As Laser Diodes)

  • 양정택;곽정근;최안식;김태경;최우영
    • 한국광학회지
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    • 제32권2호
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    • pp.55-61
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    • 2021
  • 850 nm 대역의 발진 파장을 갖는 GaAs/AlGaAs 다중양자우물 레이저 다이오드의 lateral-mode 특성과 이 특성이 출력 광파워 kink에 미치는 영향을 조사하였다. 이를 위해 전기적-열적-광학적 시뮬레이션을 self-consistent하게 수행하고, 제작된 레이저 다이오드 소자들을 측정하였다. 연구 결과를 바탕으로 높은 출력 파워에서도 single lateral-mode를 유지해서 좋은 beam quality를 유지할 수 있는 최적의 P-cladding 두께를 결정하였다.

새로운 발룬 회로를 이용한 40 ㎓ 대역 MMIC 이중 평형 Star 혼합기의 설계 및 제작 (Design and Fabrication of 40 ㎓ MMIC Double Balanced Star Mixer using Novel Balun)

  • 김선숙;이종환;염경환
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제15권3호
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    • pp.258-264
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    • 2004
  • 본 논문에서는 40 ㎓ 대역 MMIC(Monolithic Microwave Intergrated Circuit) 이중평형 star 혼합기를 비아 공정이 있는 GaAs substrate(두께 4 mil)상에서 설계 및 제작, 측정하였다. 이중평형 star 혼합기를 구현하기 위해 발룬회로와 다이오드 설계가 필요했다. 발룬회로는 microstrip과 CPS(Coplanar Strip)를 이용하여 새로운 구조를 제안하여, 2 ㎓ 대역으로 주파수를 낮추어 새로운 구조의 발룬 성능을 PCB로 제작하여 확인한 바 있다. 이를 바탕으로 40 ㎓에서 MMIC 발룬을 설계하였다. 제안된 발룬은 비아 공정이 포함된 MMIC 회로에 적 합하며, 이중평형 혼합기 구현에 쉽게 적용 가능하다는 특징이 있다. 다이오드는 p-HEMT를 사용하는 밀리미터파 대역의 다른 MMIC 회로들과의 호환성을 고려하여, p-HEMT 공정을 기반으로 한 쇼트키 다이오드를 설계하였다. 이를 이용 제안한 발룬회로와 다이오드를 조합하여, 이중평형 star 혼합기를 구현하였다. 혼합기의 측정 결과 LO전력이 18 ㏈m일 때, 변환손실 약 30 ㏈를 얻었다. 이는 p-HEMT의 AlGaAs/InGaAs 층에 의한 다이오드 때문이며, p-HEMT구조에서 AlGaAs층을 식각하여 단일 접합 다이오드를 만들면 혼합기의 성능이 개선될 것으로 예상된다.