MEMS 적용을 위한 thermal CVD 방법에 의해 증착한 SiC막의 etching 특성 평가 (Reactive ion etching characterization of SiC film deposited by thermal CVD method for MEMS application)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.2
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- pp.868-871
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- 2003