• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
• /
• 한국전기전자재료학회 1993년도 추계학술대회 논문집
• /
• pp.131-133
• /
• 1993

Plasma polymerized thin films were prepared using an interelectrode capacitively coupled gas flow type reactor. Hexamethyldisiloxane was chosen as the monomer to be used. The dielectric properties of the thin films have been investigated with the changes of discharge power, heat treatment temperature and frequency. The relative dielectric constant was increased with an increasing of discharge power, but was decreased with an increasing of heat treatment temperature.

• 한국전기전자재료학회논문지
• /
• 제14권1호
• /
• pp.43-47
• /
• 2001

Plasma polymerized hexamethyldisiloxane thin film was fabricated by employing an inter-electrode capacitively coupled type apparatus under the following conditions : carrier gas flow rate of 11 sccm, reaction pressure of 0.1 torr, discharge frequency of 13.56 MHz and discharge power of 30∼90 W. Polymerization rate of thin film fabricated at the discharge power of 90W is 32.5nm/min. Relative dielectric constant and dielectric loss tangent of thin film shows 3.2∼3.8 and 2.6x10$\^$-3/∼4.51x10$\^$-3/ respectively in the frequency range of 1 kHz∼1 MHz. As the annealing temperature is increased, the relative dielectric constant gradually decreases while the dielectric loss tangent increases. The current density increase gradually with increasing annealing temperature and electric field. The electric conduction of the heaxamethyldisiloxane thin film shows Schottky effect.

• 한국산학기술학회논문지
• /
• 제19권3호
• /
• pp.699-706
• /
• 2018

플라즈마 고분자의 영구기체(He, $H_2$, $O_2$, $N_2$, $CH_4$) 및 응축성 증기($CO_2$, $C_2H_4$, $C_3H_8$)에 대한 투과 특성을 조사하였다. 플라즈마 고분자는 마이크로파 방전과 라디오파 방전을 이용하여 제조하였으며 플라즈마 중합의 단량체(monomer)로는 hexamethyldisiloxane(HMDS)을 사용하였다. 마이크로파를 이용하여 제조한 HMDS 플라즈마 고분자막의 투과도계수는 투과 기체의 분자지름에 의존하는 경향을 나타내었으며 라디오파를 이용하여 제조한 플라즈마 고분자막보다 높은 산소/질소 투과선택도를 나타내었다. 반면에 라디오파를 이용하여 제조한 HMDS 플라즈마 고분자막의 투과도계수는 투과기체의 임계온도에 의존하는 경향을 나타내었으며 질소에 대한 에틸렌 및 프로판의 투과선택도가 우수한 특성을 나타내었다. 마이크로파로 중합시킨 고분자막은 가교결합도가 높기 때문에 기체의 투과도계수가 주로 확산계수(또는 분자지름)에 의존하게 된다. 그러나 라디오파의 에너지 밀도는 마이크로파의 에너지 밀도보다 낮기 때문에 라디오파로 중합시킨 플라즈마 고분자막의 구조는 마이크로파로 중합시킨 고분자 막에 비하여 가교결합도가 떨어지게 되며 이 막을 통한 투과도계수는 분자크기 보다는 기체의 임계온도에 의존하는 경향을 나타내었다. 따라서 라디오파를 이용하여 중합시킨 HMDS 플라즈마 고분자막은 영구기체 보다는 공기 중의 유기물질을 제거하는데 보다 효과적으로 이용될 수 있을 것으로 생각된다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
• /
• 제9권6호
• /
• pp.407-408
• /
• 1988

• E2M - 전기 전자와 첨단 소재
• /
• 제11권10호
• /
• pp.66-71
• /
• 1998

Plasma polymerized hexamethyldisiloxane (PPHMDSO) thin films were produced using an electrode capacitively coupled apparatus. Fourier transform infrared spectroscopy analysis indicated that the thin film spectra are composed not only of the corresponding monomer bands but also of several new bands. Auger electron spectroscopy analysis indicated that the permeation depth of aluminum into the films is ca. 30nm when top electrode is deposited by evaporation aluminum. The increase of relative dielectric constant and decrease of dielectric loss tangent with the discharge power is originated from high cross-link of the films.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2007년도 제33회 하계학술대회 초록집
• /
• pp.167-167
• /
• 2007

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2007년도 제32회 학술대회 초록집
• /
• pp.125-125
• /
• 2007

• 대한전기학회:학술대회논문집
• /
• 대한전기학회 1995년도 하계학술대회 논문집 C
• /
• pp.1168-1170
• /
• 1995

The purpose of this thesis is to fabricate the hexamethyldisiloxane thin film by plasma polymerization method, and to investigate the electric conduction characteristics of plasma polymerized thin film. Current density was measured in being changed annealing temperature(room temperature${\sim}125[^{\circ}C]$) and electric field intensity($10^5{\sim}1.2{\times}10^6$[V/cm]). The current density of thin films fabricated at discharge power of $30{\sim}90$[W] showed $1.3{\times}10^{-11}{\sim}3.1{\times}10^{-12}[A/cm^2]$ after 10 minutes of permission of electric field. The current density increased gradually with increasing of annealing temperature and electric field intensity. The electric conduction type of thin films fabricated in discharge power of 90[W] agreed with Schottky type.

• Korean Chemical Engineering Research
• /
• 제51권2호
• /
• pp.214-220
• /
• 2013

본 연구에서는 실리케이트계 황색 형광체($Sr_2SiO_4:Eu^{2+}$)의 신뢰성 향상을 위하여 대기압 유전체장벽방전 플라즈마를 이용하여 hexamethyldisiloxane (HMDSO, $C_6H_{18}OSi_2$)을 형광체 분말에 코팅하였다. 플라즈마 코팅 후의 형광체 분말특성은 주사전자현미경(scanning electron microscope), 투과전자현미경(transmission electron microscope), 형광분광광도계(fluorescence spectrophotometer) 및 접촉각측정기(contact angle analyzer)를 이용하여 조사되었다. 형광체 분말의 플라즈마 코팅 후 접촉각이 $133.0^{\circ}$(물)와 $140.5^{\circ}$(글리세롤)로 증가하여 표면이 소수성으로 변화되었음을 확인하였으며, 광발광(photoluminescence)은 최대 7.8%의 향상을 나타냄을 알 수 있었다. 플라즈마 코팅 후 형광체 표면의 주사전자현미경 및 투과전자현미경 사진을 통해 낟알형상의 표면조직이 박막 코팅 층으로 덮여 있고, 코팅 층은 31~46 nm 가량의 두께로 형성되어 있음을 확인하였다. 발광다이오드(3528 1 칩 LED)에 형광체를 실장한 후 $85^{\circ}C$와 85% 상대습도에서 1,000시간 동안 신뢰성 테스트(85-85 Test)를 수행한 결과 코팅이 되지 않은 경우와 비교하여 코팅후의 형광체가 광도 저하율에서도 개선 효과를 보이는 것으로 나타났다. 본 연구의 유전체장벽방전 플라즈마 코팅 방법은 불규칙한 입자 형태의 형광체 분말 표면을 입체적으로 코팅하여 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 방법으로 판단된다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2007년도 제33회 하계학술대회 초록집
• /
• pp.263-263
• /
• 2007