Process window for infinitely high etch selectivity of TEOS oxide to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled $C_4F_8/CH_2F_2/O_2$ /Ar plasmas
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- 한국진공학회:학술대회논문집
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- 한국진공학회 2009년도 제37회 하계학술대회 초록집
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- pp.410-410
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- 2009