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EuGa2S4와 Eu2Ga2S5 형광체의 발광 특성 (Photoluminescent Properties of EuGa2S4 and Eu2Ga2S5 Phosphors)

  • 조영식;장민경;허영덕
    • 대한화학회지
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    • 제67권4호
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    • pp.236-240
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    • 2023
  • Eu2+ 활성제 이온의 농도가 100% 이므로 농도 소광 효과가 없는 EuGa2S4와 Eu2Ga2S5 형광체를 800~1050 ℃의 온도 범위에서 고상법으로 합성하였다. EuGa2S4와 Eu2Ga2S5 형광체의 최대 발광 세기의 파장(λmax)은 각각 546과 581 nm이다. X-선 회절 패턴 및 발광 특성을 조사한 결과 EuGa2S4와 Eu2Ga2S5 형광체는 각각 낮은 온도 범위(800~900 ℃)와 높은 온도 범위(1000~1050 ℃)에서 형성됨을 확인하였다.

Hot wall epitaxy(HWE)법에 의한 $AgGaS_2$ 단결정 박막 성장과 열처리 효과 (Growth and effect of thermal annealing for $AgGaS_2$ single crystal thin film by hot wall epitaxy)

  • 문종대
    • 한국결정성장학회지
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    • 제15권1호
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    • pp.1-9
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    • 2005
  • AgGaS₂ 단결정 박막을 수평 전기로에서 합성한 AgGaS₂ 다결정을 증발원으로하여, hot wall epitaxy(HWE) 방법으로 증발원과 기판(반절연성-GaAs(100))의 온도를 각각 590℃, 440℃로 고정하여 성장하였다. 이때 단결정 박막의 결정성은 광발광 스펙트럼과 이중결정 X-선 요동곡선(DCRC)으로 부터 구하였다. AgGaS₂의 광흡수 스펙트럼으로부터 구한 온도에 의존하는 에너지 밴드갭 E/sub g/(T)는 Varshni 공식에 fitting한 결과 E/sub g/(T) = 2.7284 eV - (8.695×10/sup -4/ eV/K)T²/(T + 332 K)를 잘 만족하였다. 성장된 AgGaS₂ 단결정 박막을 Ag, Ga, S 분위기에서 각각 열처리하여 10K에서 photoluminescience(PL) spectrum을 측정하여 점 결함의 기원을 알아보았다. PL 측정으로 부터 얻어진 V/sub Ag/, V/sub s/, Ag/sub int/, 그리고 S/sub int/는 주개와 받개로 분류되어졌다. AgGaS₂ 단결정 박막을 Ag 분위기에서 열처리하면 n형으로 변환됨을 알 수 있었다. 또한, Ga 분위기에서 열처리하면 열처리 이전의 PL 스펙트럼을 보이고 있어서. AgGaS₂ 단결정 박막에서 Ga은 안정된 결합의 형태로 있기 때문에 자연 결함의 형성에는 관련이 없음을 알았다.

광발광 측정법에 의한 $AgGaS_2$ 단결정 박막의 점결함 연구 (Study on Point Defect for $AgGaS_2$ Single Crystal Thin film Obtained by Photoluminescience Measurement Method)

  • 홍광준;김경석
    • 비파괴검사학회지
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    • 제25권2호
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    • pp.117-126
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    • 2005
  • [ $AgGaS_2$ ] 단결정 박막을 수평 전기로에서 합성한 $AgGaS_2$ 다결정을 증발원으로하여, hot wall epitaxy(HWE) 방법으로 증발원과 기판 (반절연성 -GaAs (100))의 온도를 각각 $590^{\circ}C,\;440^{\circ}C$로 고정하여 성장하였다. 이때 단결정 박막의 결정성은 광발광 스펙트럼과 이중결정 X-선 요동곡선 (DCRC)으로 부터 구하였다. $AgGaS_2$의 광흡수 스펙트럼으로부터 구한 온도에 의존하는 에너지 밴드갭 $E_g(T)$는 Varshni. 공식에 fitting한 결과 $E_g(T)=2.7284 eV-(8.695{\times}10^{-4}eV/K)T^2/T(T+332K)$를 잘 만족하였다. 성장된 $AgGaS_2$, 단결정 박막을 Ag, Ga, S분위기에서 각각 열처리하여 10K에서 photoluminescience(PL) spectrum을 측정하여 점 결함의 기원을 알아보았다. PL 측정으로부터 얻어진 $V_{Ag},\;V_s,\;Ag_{int}$, 그리고 $S_{int}$는 주개와 받개로 분류되어졌다. $AgGaS_2$ 단결정 박막을 Ag분위기에서 열처리하면 n형으로 변환됨을 알 수 있었다. 또한, Ca 분위기에서 열처리하면 열처리 이전의 PL스펙트럼을 보이고 있어서, $AgGaS_2$ 단결정 박막에서 Ga은 안정된 결합의 형태로 있기 때문에 자연 결함의 형성에는 관련이 없음을 알았다.

SrGa2S4 형광체의 합성과 발광 특성 (Synthesis of SrGa2S4 Phosphor and Its Luminescent Properties)

  • 허영덕;심재훈;도영락
    • 대한화학회지
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    • 제46권2호
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    • pp.164-168
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    • 2002
  • $SrGa_2S_4$:Eu는 녹색을 발광하는 형광체로 전계 방출 디스플레이, 음극선 발광 분야에 널리 응용되고 있다. 일반적으로 $SrGa_2S_4$:Eu의 합성은 $SrCO_3$,$Ga_2O_3$, 그리고 $Eu_2O_3$$H_2S$ 와 Ar 가스를 흘려주면서 고온에서 소송하는 고상반응법으로 합성하였다. 본 연구에서는 SrS, Eu 착물, 그리고 Ga 착물의 분해 반응을 통해서 $SrGa_2S_4$:Eu 형광체를 합성하였다. 이 방법의 장점은 Ar 가스 뿐 만 아니라 독성의 $H_2S$를 사용하지 않는 것이다. $SrGa_2S_4$:Eu 형광체의 합성 조건과 발광 특성을 검토하였다.

HWE 방법에 의한 AgGaS$_2$/GaAs 단결정 박막 성장과 광학적 특성 (Growth and optic characteristics of AgGaS$_2$/GaAs single crystal thin film by hot wall epitaxy)

  • 이상열;홍광준;정준우
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2002년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.281-287
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    • 2002
  • The stochiometric composition of AgGaS$_2$ polycrystal source materials for the AgGaS$_2$/GaAs epilayer was prepared from horizontal furnace. From the extrapolation method of X-ray diffraction patterns it was found that the polycrystal AgGaS$_2$ has tetragonal structure of which lattice constant a$\sub$0/ and c$\sub$0/ were 5.756 ${\AA}$ and 10.305 ${\AA}$, respectively. AgGaS$_2$/GaAs epilayer was deposited on throughly etched GaAs(100) substrate from mixed crystal AgGaS$_2$ by the Hot Wall Epitaxy (100) system. The source and substrate temperature were 590$^{\circ}C$ and 440$^{\circ}C$ respectively. The crystallinity of the grown AgGaS$_2$/GaAs epilayer was investigated by the DCRC (double crystal X-ray diffraction rocking curve). The optical energy gaps were found to be 2.61 eV for AgGaS$_2$/GaAs epilayer at room temperature. The temperature dependence of the photocurrent peak energy is well explained by the Varshni equation, then the constants in the Varshni equation are given by ${\alpha}$ : 8.695${\times}$10$\^$-4/ eV/K, and ${\beta}$ = 332 K. From the photocurrent spectra by illumination of polarized light of the AgGaS$_2$/GaAs epilayer, we have found that crystal field splitting ΔCr was 0.28 eV at 20 K. From the PL spectra at 20 K, the peaks corresponding to free and bound excitons and a broad emission band due to D-A pain are identified. The binding energy of the free excitons are determined to be 0.2676 eV and 0.2430 eV and the dissociation energy of the bound excitons to be 0.4695 eV.

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HWE 방법에 의한 $AgGaS_2$ 박막성장과 광학적특성 (Growth and optical properties for $AgGaS_2$ epilayer by hot wall epitaxy)

  • 윤석진;홍광준
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2004년도 춘계학술대회 논문집 반도체 재료 센서 박막재료 전자세라믹스
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    • pp.56-59
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    • 2004
  • The stochiometric composition of $AgGaS_2$ polycrystal source materials for the $AgGaS_2/GaAs$ epilayer was prepared from horizontal furnace. From the extrapolation method of X-ray diffraction patterns it was found that the polycrystal $AgGaS_2$ has tetragonal structure of which lattice constant $a_0$ and $c_0$ were 5.756 ${\AA}$ and 10.305 ${\AA}$, respectively. $AgGaS_2/GaAs$ epilayer was deposited on throughly etched GaAs (100) substrate from mixed crystal $AgGaS_2$ by the Hot Wall Epitaxy (HWE) system. The source and substrate temperature were $590^{\circ}C$ and $440^{\circ}C$ respectively. The crystallinity of the grown $AgGaS_2/GaAs$ epilayer was investigated by the DCRC (double crystal X-ray diffraction rocking curve). The optical energy gaps were found to be 2.61 eV for $AgGaS_2/GaAs$ epilayer at room temperature. The temperature dependence of the photocurrent peak energy is well explained by the Varshni equation, then the constants in the Varshni equation are given by ${\alpha}=8.695{\times}10^{-4}eV/K$, and $\beta$=332 K. From the photocurrent spectra by illumination of polarized light of the $AgGaS_2/GaAs$ epilayer, we have found that crystal field splitting $\Delta$ Cr was 0.28 eV at 20 K. From the PL spectra at 20 K, the peaks corresponding to free and bound excitons and a broad emission band due to D-A pairs are identified. The binding energy of the free excitons are determined to be 0.2676 eV and 0.2430 eV and the dissociation energy of the bound excitons to be 0.4695 eV.

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$({NH_4})_2{S_x}$ 용액 처리된 GaAs의 대기중 노출;GaAs 표면산화기구 및 안정성 (Air-exposure of GaAs Treated with $({NH_4})_2{S_x}$ Solution; the Oxidation Mechanism and the Stability of GaAs surface)

  • 강민구;사승훈;박형호;서경수;오경희;이종람
    • 한국재료학회지
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    • 제6권12호
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    • pp.1270-1278
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    • 1996
  • 고진공하에서 벽개된 GaAs를 대기중 노출시킨후, 결합상태 및 조성의 변화를 정량적으로 연구하여 Ga의 우선적 산화경향 및 결합의 붕괴에 기인한 원소상태 Ga 및 As의 생성을 관찰하였다. 대기중 노출시, 초기 Ga/As 비(=0.01)는 Ga의 우선적 산화에 의해 증가하였으며 원소상태 As의 증가와 더불어 일정값(=1.25)으로 유지되었다. 습식세정된 GaAs와 유황처리된 (S-passivated)GaAs를 각각 대기중에 노출시켜, 각각의 표면상태 변화를 비교, 관찰하였다. 유황처리된 GaAs는 습식세정처리만한 GaAs에 비해 산화막 성장이 크게 억제되었고, 이는 (NH4)2Sx 용액 처리로 형성된 Ga-S 및 As-S 겹합의 표면보호 효과에 기인한 것이다. 특히 대기중 노출에 따른 유황처리된 GaAs 표면조성 및 결합상태 변화의 정량적 관찰을 통하여, 유황보호막(S-passivation layer) 및 GaAs 표면과 대기중 산소와의 반응 기구를 규명할 수 있었다. 대기중 노출에 따라, 표면의 Ga-S 및 As-S 결합은 대기중 산소와 반응하여 점차 붕괴, 감소하는 경향을 나타냈으며, 이와 동시에 unpassivated 상태의 GaAs가 산소와 반응하여 Ga-O 결합을 형성함을 관찰할 수 있었다. 본 연구에서는 X-선 광전자 분광기를 사용하여 GaAs 표면 조성 및 결합상태의 변화를 관찰하였다.

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$Sr_{1-x}Ca_xGa_2S_4:Ce,Na$ 형광체의 합성과 발광 특성 (Synthesis and luminescence properties of $Sr_{1-x}Ca_xGa_2S_4:Ce,Na$ phosphors)

  • 성혜진;허영덕
    • 한국결정성장학회지
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    • 제16권6호
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    • pp.267-272
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    • 2006
  • 일련의 $Sr_{1-x}Ca_xGa_2S_4:Ce,Na$ 형광체를 고상법으로 합성하였다. $Sr_{1-x}Ca_xGa_2S_4:Ce,Na$의 구조와 발광 특성을 조사하였다. $Sr_{1-x}Ca_xGa_2S_4:Ce,Na$은 보라색 발광 다이오드의 발광 파장인 400 nm에서 강한 흡수가 있다. $SrGa_2S_4:Ce,Na$의 발광 봉우리는 448 nm와 485 nm에 있다. $Sr_{1-x}Ca_xGa_2S_4:Ce,Na$에서 Sr이 Ca으로 부분 치환되면 발광 파장이 장파장으로 이동된다. 다파장 백색 LED를 제작할 때 $Sr_{1-x}Ca_xGa_2S_4:Ce,Na$은 보라색 LED로 여기하여 청색 발광 형광체로 사용 될 수 있다.

mm파 AlGaAs/InGaAs/GaAs Power PM-HEMT 제작 연구 (Fabrication of AlGaAs/InGaAs/GaAs Pseudomorphic HEMT's for mm waves.)

  • 이성대;허종곤이일형이진구
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 1998년도 추계종합학술대회 논문집
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    • pp.633-636
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    • 1998
  • In this study, power AlGaAs/InGaAs/GaAs PM-HEMT's for mm wave's were fabricated using Electron beam lithography and air-bridge techniques, and so on. DC and AC characteristics of the fabricated power PM-HEMTs were measured under the various bias conditions. For example, DC and RF characteristics such as S21 gain of 3.6 dB at 35 ㎓, current gain cut-off frequencies of 45 ㎓ and maximum oscillation frequencies of 100 ㎓ were carefully analyzed for design methodology of sub-mm wave power devices.

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HWE 방법에 의한 $AgGaS_2$/GaAs epilayer 성장과 특성 (Study of characteristics of $AgGaS_2$/GaAs epilayer by hot wall epitaxy)

  • 홍광준;정준우;방진주;진윤미;김소형;여회숙;양해정
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2002년도 제4회 영호남학술대회 논문집
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    • pp.84-91
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    • 2002
  • The stochiometric composition of $AgGaS_2$/GaAs polycrystal source materials for the $AgGaS_2$/GaAs epilayer was prepared from horizontal furnace. From the extrapolation method of X-ray diffraction patterns it was found that the polycrystal $AgGaS_2$/GaAs has tetragonal structure of which lattice constant an and Co were 5.756 $\AA$ and 10.305 $\AA$, respectively. $AgGaS_2$/GaAs epilayer was deposited on throughly etched GaAs(100) substrate from mixed crystal $AgGaS_2$/GaAs by the Hot Wall Epitaxy (HWE) system. The source and substrate temperature were $590^{\circ}C$ and $440^{\circ}C$ respectively. The crystallinity of the grown $AgGaS_2$/GaAs epilayer was investigated by the DCRC (double crystal X-ray diffraction rocking curve). The optical energy gaps were found to be 2.61 eV for $AgGaS_2$/GaAs epilayer at room temperature. The temperature dependence of the photocurrent peak energy is well explained by the Varshni equation, then the constants in the Varshni equation are given by $\alpha=8.695{\times}10^{-4}$ eV/K, and $\beta=332K$. From the photocurrent spectra by illumination of polarized light of the $AgGaS_2$/GaAs epilayer, we have found that crystal field splitting ${\Delta}Cr$ was 0.28 eV at 20 K. From the PL spectra at 20 K, the peaks corresponding to free and bound excitons and a broad emission band due to D-A pairs are identified. The binding energy of the free excitons are determined to be 0.2676 eV and 0.2430 eV and the dissociation energy of the bound excitons to be 0.4695 eV.

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