Etch rate, surface roughness and microstructure as plasma resistance were evaluated for six kinds of oxide glass with different compositions. Borosilicate glass (BS) was found to be etched at the highest etch rate and zinc aluminum phosphate glass (ZAP) showed a relatively lower etch rate than borosilicate. On the other hand, the etching rate of calcium aluminosilicate glass (CAS) was measured to be similar to that of sintered alumina while yttrium aluminosilicate glass (YAS) showed the lowest etch rate. Such different etch rates by mixture plasma as a function of glass compositions was dependent on whether or not fluoride compounds were formed on glass and sublimated in high vacuum. Especially, in view that $CaF_2$ and $YF_3$ with high sublimation points were formed on the surface of CAS and YAS glasses, both CAS and YAS glasses were considered to be a good candidate for protective coating materials on the damaged polycrystalline ceramics parts in semi-conductor and display processes.
The lead element or its salts are good radiation shielding materials. However, their toxic effects are high. Due to less toxicity of bismuth salts, the radiation shielding properties of the bismuth salts have been investigated and compared to that of lead salts to establish them as a better alternative to radiation shielding material to the lead element or its salts. The transmission geometry was utilized to measure the mass attenuation coefficient (${\mu}/{\rho}$) of different salts containing lead and bismuth using a high-resolution HPGe detector and different energies (between 81 and 1333 keV) emitted from point sources of $^{133}Ba$, $^{57}Co$, $^{22}Na$, $^{54}Mn$, $^{137}Cs$, and $^{60}Co$. The experimental ${\mu}/{\rho}$ results are compared with the theoretical values obtained through WinXCOM program. The theoretical calculations are in good agreement with their experimental ones. The radiation protection efficiencies, mean free paths, effective atomic numbers and electron densities for the present compounds were determined. The bismuth fluoride ($BiF_3$) is found to have maximum radiation protection efficiency among the selected salts. The results showed that present salts are more effective for reducing the intensity of gamma photons at low energy region.
Lim, Chae Ryeong;Lee, Ha young;Uhm, Ki-Nam;Kim, Hyung Kwoun
Journal of Microbiology and Biotechnology
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제32권5호
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pp.672-679
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2022
Microbial lipases are used widely in the synthesis of various compounds due to their substrate specificity and position specificity. 4-Ethyl malate (4-EM) made from diethyl malate (DEM) is an important starting material used to make argon fluoride (ArF) photoresist. We tested several microbial lipases and found that Photobacterium lipolyticum M37 lipase position-specifically hydrolyzed DEM to produce 4-EM. We purified the reaction product through silica gel chromatography and confirmed that it was 4-EM through nuclear magnetic resonance analysis. To mass-produce 4-EM, DEM hydrolysis reaction was performed using an enzyme reactor system that could automatically control the temperature and pH. Effects of temperature and pH on the reaction process were investigated. As a result, 50℃ and pH 4.0 were confirmed as optimal reaction conditions, meaning that M37 was specifically an acid lipase. When the substrate concentration was increased to 6% corresponding to 0.32 M, the reaction yield reached almost 100%. When the substrate concentration was further increased to 12%, the reaction yield was 81%. This enzyme reactor system and position-specific M37 lipase can be used to mass-produce 4-EM, which is required to synthesize ArF photoresist.
S. W. Kwon;Lee, B. J.;B. G. Ahn;Kim, E. H.;J. H. Yoo
한국방사성폐기물학회:학술대회논문집
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한국방사성폐기물학회 2004년도 Proceedings of the 4th Korea-China Joint Workshop on Nuclear Waste Management
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pp.165-169
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2004
It was studied on the reductive extraction between the eutectic salt and Bi metal phases. The solutes were zirconium and the rare earth elements, where zirconium was used as the surrogate for the transuranic(TRU) elements. All the experiments were performed in a glove box filled with argon gas. Two types of experimental conditions were used -high and low initial solute concentrations in salt. Li-Bi alloy was used as a reducing agent to reduce the high chemical activity of Li. The reductive extraction characteristics were examined using ICP, XRD and EPMA analysis. Zirconium was successfully separated from the rare earth elements by the reductive extraction method. The LiF-NaF-KF system was favorable among the fluoride salt systems, whereas the LiCl-KCl system was favorable among the chloride salt systems. When the solute concentrations were high, intermetallic compounds were found near the salt-metal interface.
충치는 사람의 구강질환 중 가장 흔한 질환으로 Streptococcus mutans (S. mutans)균이 초기 충치를 형성하는데 매우 중요한 역할을 담당한다. Porphyromonas gingivalis (P. gingivalis)는 대표적인 구취 유발균으로 구취 형성에 중요한 휘발성 황화합물을 생성하는데 관여한다. 치주질환은 치은결체조직과 치조골의 파괴를 유발하여 치아의 상실을 초래할 수 있는 만성 염증성 질환으로 Prevotella intermedia (P. intermedia)가 원인균이다. 이번 연구에서는 cetylpyridinium chloride (CPC), sodium fluoride (NaF), 녹차 추출액, 솔잎 추출액을 유효성분으로 하는 마우스워시 제품을 사용하여 S. mutans 균을 포함, 구강질환 균으로 널리 알려진 P. gingivalis, P. intermedia 대해 항균 효과를 확인하고자 하였다. 그 결과 시험군의 경우 S. mutans, P. gingivalis 에 대해 30 s 내에 4.00 Log, 4.68 Log의 사멸력을 확인하였고, P. intermedia의 경우 30 s 2.40 Log, 60 s 2.70 Log 사멸력을 확인하였다. 또한 Dentocult SM Strip mutans (SM Strip) 염색방법을 적용하여 S. mutans 균의 감소여부를 시각적 자료로 쉽게 확인할 수 있었다. 이와 같은 결과를 통해 CPC, NaF, 녹차 추출액, 솔잎 추출액을 포함한 마우스워시 제품은 구강균 사멸을 통해 충치 및 구취와 같은 구강질환 예방에 효과가 있을 것으로 기대한다.
울출공업단지주변지역중(蔚出工業團地周邊地域中) 대기오염(大氣汚染)의 영향(影響)을 많이 받고있는 특정지역(特定地域)에 방풍막(放風幕)을 설치(設置)하여 배출원(排出源)에서 방출(放出)되는 대기오염물(大氣汚染物)의 영향(影響)을 줄이고, 피해원인(被害原因)을 구명(究明)하기위해 방풍막(放風幕) 앞뒤의 오염도(汚染度)와 수도(水稻)의 생육상태(生育狀態)를 조사(調査), 검토(檢討)한 결과(結果)는 다음과 같다. 1. 방풍막(放風幕) 후면(後面) 3m지점(地點)의 대기중(大氣中) $SO_2$ 및 HF농도(濃度)와 엽내유황(葉內硫黃) 및 불소함량(弗素含量)은 다른 조사지점(調査地點)보다 낮았으며, 대기중(大氣中) $SO_3$농도(濃度)와 엽내유황함량(葉內硫黃含量), 대기중(大氣中) HF농도(濃度)와 엽내불소함량간(葉內弗素含量間)에 정(正)의 상관(相關)을 보여주었다. 그리고 막후면(幕後面) 3m지점(地點)의 수량(收量)과 수량구성요소(收量構成要素)는 다른 조사지점(調査地點)보다 현저히 높은 수치(數値)를 보였다. 2. 대기중(大氣中) $SO_2$ 및 HF농도(濃度)보다는 엽내유황(葉內硫黃) 및 불소함량(弗素含量)이 수도(水稻)의 수량(收量) 및 수량구성요소(收量構成要素)와의 높은 상관(相關)이 인정(認定)되었다.
광학 윈도우, 프리즘, 렌즈 등에 사용되는 CaF2 단결정은 3개의 부격자를 가진 face-centered cubic(FCC) 구조를 가지고 있으며 밴드갭(12 eV)이 크고 넓은 파장영역에서 투과율이 우수하고 굴절률이 낮다는 특징이 있다. CaF2 단결정 성장은 대표적으로 높은 생산효율과 큰 결정을 만들 수 있는 초크랄스키(Czochralski) 방법으로 생산되고 있다. 이 연구에서는 초크랄스키 방법으로 성장한 일본의 Nikon 사와 미국의 M TI 사 (100)면, (111)면의 CaF2 단결정 상용화 웨이퍼의 결정성과 결함밀도를 분석하기 위해 X선 회절(XRD), XRC(X-ray rocking curve) 측정 및 Chemical Etching을 수행하였고 푸리에 변환 적외선 분광법(FT-IR)과 UV-VIS-NIS을 이용하여 CaF2 결정의 광학적 특성을 분석하였다. 다양한 분석 결과를 통해 CaF2 단결정의 다양한 분야에서의 응용가능성을 체계적으로 살펴보았다.
This work investigated the potential of curcumin (CCM) and (-)-epigallocatechin gallate (EGCG) to inhibit N-acyl homoserine lactone (AHL)-mediated biofilm formation in gram-negative bacteria from membrane bioreactor (MBR) activated sludge. The minimum inhibitory concentrations (MICs) of CCM alone against all the tested bacteria were 200-350 μg/ml, whereas those for EGCG were 300-600 μg/ml. Biofilm formation at one-half MICs indicated that CCM and EGCG alone respectively inhibited 52-68% and 59-78% of biofilm formation among all the tested bacteria. However, their combination resulted in 95-99% of biofilm reduction. Quorum sensing inhibition (QSI) assay with known biosensor strains demonstrated that CCM inhibited the expression of C4 and C6 homoserine lactones (HSLs)-mediated phenotypes, whereas EGCG inhibited C4, C6, and C10 HSLs-based phenotypes. The Center for Disease Control biofilm reactor containing a multispecies culture of nine bacteria with one-half MIC of CCM (150 μg/ml) and EGCG (275 μg/ml) showed 17 and 14 μg/cm2 of extracellular polymeric substances (EPS) on polyvinylidene fluoride membrane surface, whereas their combination (100 μg/ml of each) exhibited much lower EPS content (3 μg/cm2). Confocal laser scanning microscopy observations also illustrated that the combination of compounds tremendously reduced the biofilm thickness. The combined effect of CCM with EGCG clearly reveals for the first time the enhanced inhibition of AHL-mediated biofilm formation in bacteria from activated sludge. Thus, such combined natural QSI approach could be used for the inhibition of membrane biofouling in MBRs treating wastewaters.
Etching behaviors of ferroelectric $YMnO_3$ thin films were studied by an inductively coupled plasma (ICP). Etch characteristic on ferroelectric $YMnO_3$ thin film have been investigated in terms of etch rate, selectivity and etch profile. The maximum etch rate of $YMnO_3$ thin film is $300{\AA}/min$ at $Ar/Cl_2$ of 2/8, RF power of 800W, dc bias voltage of 200V, chamber pressure of 15mTorr and substrate temperature of $30^{\circ}C$. Addition of $CF_4$ gas decrease the etch rate of $YMnO_3$ thin film. From the results of XPS analysis, YFx compounds were found on the surface of $YMnO_3$ thin film which is etched in $Ar/Cl/CF_{4}$ plasma. The etch profile of $YMnO_3$ film is improved by addition of $CF_4$ gas into the $Ar/Cl_2$ plasma. These results suggest that fluoride yttrium acts as a sidewall passivants which reduce the sticking coefficient of chlorine on $YMnO_3$.
본 연구에서는 글라스를 $100{\mu}m$ 이하의 두께로 박판화하기 위한 새로운 습식 에칭방법 및 에칭 용액을 검토하였다. $NH_4F$ 또는 $NH_4HF_2$를 주성분으로 황산 또는 질산을 첨가한 경우 에칭 용액의 불산 함유량을 저감하는 데에 효과가 있었다. 혼산 용액의 조성과 온도의 영향을 검토하였으며, 음이온계 계면활성제의 첨가는 에칭반응에 의해 생성되는 슬러지의 부착을 억제해주는 효과가 있었다. 수류 발생부를 가지는 새로운 파일럿 장비를 사용하여 상용 무알칼리 글라스와 소다라임 글라스의 에칭 실험을 실시하였다. $640{\mu}m$ 두께의 무알칼리 글라스를 $45{\mu}m$ 두께로 $500{\mu}m$ 두께의 소다라임 글라스를 $100{\mu}m$ 두께로 박판화하였으며, 에칭 후의 표면 조도는 $0.01{\sim}0.02{\mu}m$를 유지하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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