The purpose of this study is to investigate the effect of annealing conditions on physical and magnetic properties of Fe-Hf-N thin films. When the thin films were annealed in $N_2$ gas, a surface oxide layer, comprised of Fe$_2$O$_3$ and Fe$_3$O$_4$, was formed at the surface of the thin films and a Fe-Hf-O-N layer was also formed under this surface oxide layer. It was found that the thicknesses of the surface oxide layer and the Fe-Hf-O-N layer increased, as the annealing temperature increased. It was also found that if the thickness of the surface oxide layer was excluded in the property calculation, the soft magnetic properties of the annealed thin films were not much different from those of the as-deposited thin films. Therefore, it was suggested that the Fe-Hf-O-N layer formed under the surface oxide layer did not lose significantly the soft magnetic properties of the Fe-Hf-N films and the Fe-Hf-N films annealed in $N_2$gas showed the soft magnetic properties of the Fe-Hf-N and Fe-Hf-O-N multi-layers.
In order to investigate electronic and magnetic properties of $Fe_{16}N_{2}$ ferromagnet, we have performed electronic structure calculations employing the self-consistent local density functional LMTO(linearized muffin tin orbital) band method. We have obtained the ground state parameters, such as band structures, density of states, Stoner parameters, and magnetic moments. Based on these results, we have investigated microscopically the magnetic structure and the enhancement of Fe magnetic moments in this compound. Magnetic moments of 3 types of Fe(Fe I, Fe II and Fe III) in $Fe_{16}N_{2}$ are 2.13, 2.50, and $2.85\;{\mu}_{B}$, respectively. Large enhancement of Fe magnetic moment is observed in Fe II and Fe III, which are located rather far from N. This implies that local environment is very important in determining the Fe magnetic moments in this compound. Our value of average magnetic moment per Fe atom. $2.50\;{\mu}_{B}$, is a bit smaller than the reported estimate, $-3.0\;{\mu}_{B}$, from the experiment.
Nano-magnetic materials such as iron-nitrides have been actively studied as an alternative to the application of high density, high performance needs for next generation information storage and also alternative to the rare earth and neodymium magnet. $Fe_4N$ is the basic materials for magnetic storage media and is one of the important magnetic materials in focus because of its higher magnetic recording density and chemical stability. Single phase ${\gamma}^{\prime}-Fe_4N$ nanoparticles have been prepared by a PAD (Plasma Arc Discharge) method and nitriding in a $NH_3-H_2$ mixed gases at temperature, $400^{\circ}C$ for 4 hrs. Also $Fe_{17}Sm_2N_x$ powders were synthesized by nitriding after reduction/diffusion of $Fe_{17}Sm_2$ to compare the magnetic properties with nano-sized $Fe_4N$ particles. The saturation magnetization of $Fe_4N$ and $Fe_{17}Sm_2N_x$ were 149 and 117 emu/g, respectively, but the coercive force was considerably smaller than that of bulk or acicular $Fe_4N$.
The microstructure and magnetic properties of Fe-Nb-B-N thin film alloys, which produced by rf magnetron sputtering method in $Ar+N_2$ mixed gas atmosphere, were investigated. The $Fe_{70}Nb_{14}B_{11}N_5$ films, annealed at 59$0^{\circ}C$, exhibit soft magnetic properties: $4{\pi}M_s=16.5kG$ , $H_c=0.13Oe$ and ${\mu}_{eff}$ (1~10 MHz)=5, 000. The frequency stability of the Fe-Nb-B-N films has also been found to be good up to 10 MHz. The Fe-Nb-B-N thin film alloys annealed at 59$0^{\circ}C$ consist of three phase; fine crystalline $\alpha$-Fe phase with grain size of about 5~10 nm, Nb-B rich amorphous phase and Nb-nitride precipitates with the size of less than 3 nm. Annealed Fe-Nb-B films have two phases; $\alpha$-Fe grains with the size of about 10 nm and Nb-B rich amorphous phase. The addition of N decreased $\alpha$-Fe grain size due to the precipitation of NbN. The good magnetic properties of the Fe-Nb-B-N film alloys are due to fine $\alpha$-Fe grains resulting from the precipitation of NbN.
Electronic and magnetic properties of the novel rare-earth permanent magnet, $Sm_{2}Fe_{17}N_{3}$, are investigated by performing self-consistent local density functional electronic structure calculations. Employing the LMTO(Linearized Muffin-Tin Orbital) band method, we have obtained the electronic band structures for both paramag-netic and ferromagnetic phases of $Sm_{2}Fe_{17}N_{3}$. Based on the energy band structures, we have studied bonding ef-fects among Sm, Fe, and N atom as well as electronic and magnetic structures. It is found that the N atom sub-stantially reduces the magnetic moment of neighboring Fe atoms through the hybridization interaction and also plays a role in stabilizing the structure. the average magnetic moment of Fe atoms in the ferromagnetic phase of $Sm_{2}Fe_{17}N_{3}$ is estimated to be $2.33{\mu}_B$, which is ~8% larger than the magnetic moment of $Sm_{2}Fe_{17}$, $2.16{\mu}_B$. The Fe I (c) atom, which is located farthest from the N atom and surrounded by 12 Fe nearest neighbors, has the largest magnetic moment ($2.65{\mu}_B$), while the Fe III (f), whose hybridization interaction with N atom is very strong, has the smallest magnetic moment($1.96{\mu}_B$).
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.32
no.3
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pp.312-316
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1999
The interfacial structure of duplex treated AISI 4140 consisting of iron nitride and TiN layer was characterized by optical microscope, SEM and XRD. A black layer was formed from the decomposition of iron nitride during Ti ion bombardment. The black layer was characterized as an a-Fe phase transformed from the iron nitride by XRD. In order to identify the formation mechanism of the black layer, a thermal analysis of iron nitride undertaken by DSC method. As an iron nitride was mostly consisted of ${\gamma}$'-Fe$_4$N and $\varepsilon$-$Fe_3$N phase after plasma nitriding, in this study, a ${\gamma}$'$-Fe_4$N and $\varepsilon$-$Fe_3$N powders were separately prepared by the different processing conditions of gas nitriding of iron powder in the fluidized bed. From the DSC thermal analysis, the phase transformation of ${\gamma}$'$-Fe_4$N, $\varepsilon$-$Fe_3$N was followed the path of transformation; $ \Upsilon{'}-Fe_4$Nlongrightarrow${\gamma}$-Felongrightarrowa-Fe and of $\varepsilon$-$Fe_3$Nlongrightarrow$\varepsilon$-$Fe_{2.5}$ /N+${\gamma}$'$-Fe_4$Nlongrightarrow${\gamma}$'-Fe$_4$Nlongrightarrow${\gamma}$longrightarrowFelongrightarrowalongrightarrowFe, respectively. It explains the reason why the $\varepsilon$$-Fe_3$N phase disappeared in the first time and then ${\gamma}$'-Fe$_4$N in the formation of the black layer in the duplex coating.
Fe/Co and FeN/CoN multilayer films were prepared by using RF and DC magnetron sputter^ ing technique with Ar or a mixture of Ar and $N_{2}$ gas. Annealing treatment was carried out in a vacuum at temperatures between $100^{\circ}C$ and $500^{\circ}C$ for lhour. Saturation magnetization (MS) and coercivity (Hc) of Fe/Co mutilayer films were investigated as a function of Fe layer thickness and annealing temperature. Permeability ($\mu$) was also examined. Saturation magnetization of 1.8T and coercivity of 1.80e were obtained for the as-deposited Fe/Co($70 \AA /15 \AA$) multilayer film. The Coercivity(Hc) did not change from 1.8 Oe till the annealing temperature $250^{\circ}C$ and then increased rapidly at higher annealing temperatures above $300^{\circ}C$. Coercivity(Hc) measured for the as-deposited FeN/CoN multilayer film was 5 Oe. It decreased gradually with annealing up to $250^{\circ}C$, and then increased rapidly at higher tempera tures.
Magnetic properties of FeTaN and FeTaC films deposited by DC magnetron reactive sputter were investigated, and correlated with their microstructures. The optimum magnetic properties of Hc : 0.25 Oe, Bs : 14.5 kG, and ${\mu}'$ : 4000 (5MHz) are observed in the $Fe_{78.8}Ta_{8.5}N_{12.7}$ film, and Hc : 0.25 Oe, Bs : 14.5 kG, and ${\mu}'$ : 2700 (5MHz) in the $Fe_{75.6}Ta_{8.1}C_{16.3}$ film. In both FeTaN and FeTaC films with minimum grain size show the best soft magnetic properties. Thermal stability of the soft magnetic properties of FeTaN is found to be higher than FeTaC for similar compositons. TaN and TaC particles form to retard the growth of $\alpha$-Fe grains. TaN particles in FeTaN show higher efficiency in retarding the grain growth during heat treatments resulting the higher thermal stability, compared to TaC particles in FeTaC films.
For determination the optimum manufacturing condition Fe4N powder for magnetic recording media, we have studied the following important conditions : the effect of particle size of metal powder on the nitridation, the condition of nitridation on the formation and magnetic properties of Fe4N, and stability of Fe4N powder against temperature and change on standing. The results can be summarized as : 1) Single phase Fe4N is formed at 50v/o of ammonia concentration during the nitridation reaction, 2) Single phase Fe4N is formed above 40$0^{\circ}C$, 15min regardless of the metal powder sizes, 3) Coercivity and saturation magnetization of Fe4N powder almost constant value until 20 day-passing from preparation date.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.10
no.9
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pp.1663-1670
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2006
Single crystal Fe thin films were grown directly onto n-Si(111) substrates by pulsed electrodeposition. Cyclic Voltammogram(CV) indicated that the $Fe^{2+}/n-Si(111)$ interface shows a good diode behavior by forming a Schottky barrier. From Mott-Schottky (MS) relation, it is found that the flat-band potential of n-Si(111) substrate and equilibrium redox potential of $Fet^{2+}$ ions are -0.526V and -0.316V, respectively. The nucleation and growth kinetics at the initial reaction stages of Fe/n-Si(111) substraste was studied by current transients. Current transients measurements have indicated that the deposition process starts via instantaneous nucleation and 3D diffusion limited growth. After the more deposition, the deposition flux of Fe ions was saturated with increase of deposition time. from the as-deposited sample obtained using the potential pulse of 1.4V and 300Hz, it is found that Fe nuclei grows to three dimensional(3D) islands with the average size of about 100nm in early deposition stages. As the deposition time increases, the sizes of Fe nuclei increases progressively and by a coalescence of the nuclei, a continuous Fe films grow on the Si surface. In this case, the Fe films show a highly oriented columnar structure and x-ray diffraction patterns reveal that the phase ${\alpha}-Fe$ grows on the n-Si(111) substrates.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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