Recently, micro-speakers have attracted much attention due to their increasing demand in mobile devices. Micro-speakers use polymer diaphragms, which are manufactured from thin polymer film by the thermoforming process. The diaphragm is generally designed to be a circular membrane with a cross section consisting of a double dome structure, and a number of corrugations are located in the outer region to produce better sound quality. In the current study, a finite element (FE) analysis is performed for thermoforming, and the resulting thickness reduction in the corrugation regions is estimated. The estimated thickness distribution is used in further structural and modal FE analyses, from which the effects of local thickness reduction on the stiffness and vibration characteristics are determined.
Titanium (Ti) is a bioinert material and has lower elastic coefficient and better strength/volume property than other metals. Ferroelectric materials show alignment of positive and negative charges by poling treatment. This study was purposed to develop a new implant system by combining the advantages of Ti and ferroelectric property of $BaTiO_3$ (BTO). It was performed with the assumption that the $Ca^{2+ }$ ions would be easily attracted on negatively charged surface and the attracted cation might behave as nuclei for bone-like crystal growth in biological solutions. A ferroelectric BTO thin film on Ti was fabricated and the effect of poling treatment on the improvement of calcium phosphate (Ca-P) formation in biological solutions was evaluated. After immersion in Eagle’s minimum essential media (MEM) solution, NaCl was formed on Ti, and Ca-P layer containing NaCl was formed on Ti-O. Weak and sparse Ca-P layers were formed on BTO, while thick, homogeneous, and dense Ca-P layer was formed on negatively polarized BTO (N-BTO), which was confirmed by FE-SEM and EDX. In summary, these results demonstrate that poling the ferroelectric BTO surface negatively is effective for the formation of Ca-P layer in MEM solution, and that N-BTO coating on Ti could be used as a possible alternative method for enhancing the osseointegration of the implants.
Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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2006.10a
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pp.166-169
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2006
A promising capacitor, which has conformable step coverage and good uniformity of thickness and composition, is needed to manufacture high-density non-volatile FeRAM capacitors with a stacked cell structure. In this study, ferroelectric $Bi_{3.61}Nd_{0.39}Ti_3O_{12}$ (BNT) thin films were prepared on $Pt(111)/Ti/SiO_2/Si$ substrates by the liquid delivery system MOCVD method. In these experiments, $Bi(ph)_3$, $Nd(TMHD)_3$ and $Ti(O^iPr)_2(TMHD)_2$ were used as the precursors and were dissolved in n-butyl acetate. The BNT thin films were deposited at a substrate temperature and reactor pressure of approximately $600^{\circ}C$ and 4.8 Torr, respectively. The microstructure of the layered perovskite phase was observed by XRD and SEM. The remanent polarization value (2Pr) of the BNT thin film was $31.67\;{\mu}C/cm^2$ at an applied voltage of 5 V.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.15
no.12
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pp.1016-1020
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2002
Ru thin films were etched using CF/$_4$O$_2$ plasma in an ICP (inductively coupled plasma etching) system. The maximum etch rate of Ru thin films was 168 nm/min at a CF$_4$/O$_2$ gas mixing ratio of 10 %. The selectivity of SiO$_2$ over Ru was 1.3. From the OES (optical emission spectroscopy) analysis, the optical emission intensity of the O radical had a maximum value at 10% CF$_4$ gas concentration and drcrease with further addition of CF4 gas, but etch slope was enhanced. From XPS (x-ray photoelectron spectroscopy) analysis, the surface of the etched Ru thin film in CF$_4$/O$_2$ chemistry shows Ru-F bonds by the chemical reaction of Ru and F. RuF$_{x}$ compounds were suggested as a surface passivation layer that reduces the chemical reactions between Ru and O radicals. From a FE-SEM (field emission scanning electron microscope) micrograph, we had an almost perpendicular taper angle of 89$^{\circ}$.>.
Kim, Gi-Bum;Hwang, Yun-Sik;Kim, Yeung-Shik;Park, Jang-Sick
Journal of the Semiconductor & Display Technology
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v.7
no.1
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pp.29-34
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2008
In this paper, the DE(double erosion) cathode for the reactive magnetron sputtering system is developed for high deposition rate and high target utilization efficiency. The utilization efficiency of the developed DE cathode is 22% higher than that of normal SE(single erosion) cathode. Sputtering process for the nickel oxide thin films with the DE cathode is performed under the following conditions; power with $1kW{\sim}3kW$, pressure with 4mtorr and 8mtorr, oxygen flow ratio with $0%{\sim}80%$. As a result, the hysteresis phenomenon of discharge voltage in 4mtorr is lower than that in 8mtorr and the hysteresis phenomenon of discharge voltage is getting lower as the applied power is getting higher. The structure of cross section and surface roughness of the thin films are observed by FE-SEM and AFM. The structure of cross section of the thin films is columnar and the average surface roughness under oxygen flow ratio of 0%, 52.5% and 65.0% are $2.08{\AA}$, $2.20{\AA}$ and $0.854{\AA}$, respectively.
Kim Yun-Jae;An Joong-Hyok;Park Jun-Hyub;Kim Sang-Joo;Kim Young-Jin;Lee Young-Ze
Tribology and Lubricants
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v.21
no.2
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pp.71-76
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2005
This paper compares of mechanical tensile properties of 6 kinds of copper foil. The beam lead made with copper foil. Different from other package type such as plastic package, Chip Size Package has a reliability problem in beam lead rather than solder joint in board level. A new tensile loading system was developed using voice-coil actuator. The new tensile loading system has a load cell with maximum capacity of 20 N and a non-contact position measuring system based on the principle of capacitance micrometry with 0.1nm resolution for displacement measurement. Strain was calculated from the measured displacement using FE analysis. The comparison of mechanical properties helps designer of package to choose copper for ensuring reliability of beam lead in early stage of semiconductor development.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.309-309
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2012
Heteroepitaxial growth remains as one of the continuously growing interests, because the heterogeneous crystallization on different substrates is a common feature in the fabrication processes of many semiconductor materials and devices, such as molecular beam epitaxy, pulsed laser deposition, sputtering, chemical bath deposition, chemical vapor deposition, hydrothermal synthesis, vapor phase transport and so on [1,2]. By using the R.F. sputtering system, ZnO thin films were deposited on graphene 4 and 6 mono layers, which is grown on 400 nm and 600 nm $SiO_2$ substrates, respectively. The ZnO thin layer was deposited at various temperatures by using a ZnO target. In this experimental, the working power and pressure were $3{\times}10^{-3}$ Torr and 50 W, respectively. The base pressure of the chamber was kept at a pressure around $10^{-6}$ Torr by using a turbo molecular pump. The oxygen and argon gas flows were controlled around 5 and 10 sccm by using a mass flow controller system, respectively. The structural properties of the samples were analyzed by XRD measurement. The film surface and carrier concentration were analyzed by an atomic force microscope and Hall measurement system. The surface morphologies were observed using field emission scanning electron microscope (FE-SEM).
Ferromagnetic resonance (FMR) measurement is an important experimental technique for the study of magnetic dynamics. We designed and set up the vector network analyzer ferromagnetic resonance (VNA-FMR) measurement system with home made coplanar waveguides (CPW). We examined 10-, 20-, 40-nm thick Py thin films to test the performance of the VNA-FMR measurement system. We measured S-parameter (transmission/reflection coefficient) of Py thin films on a CPW. Resonance frequency is investigated from 2.5 to 7 GHz for a field range from 0 to 490 Oe. The VNA-FMR data shows the resonance frequency increment when the external magnetic field increases. We also investigated Gilbert damping constant of Py thin film using resonance frequency (${\omega}_r$) and linewidth ($\Delta\omega$). After investigating dependence of thickness, we find that an decrease in S-parameter intensity as Py thin film thickness decreases. And the FMR results show that the effective saturation magnetization, $M_{eff}$, increase from 7.205($\pm$0.013) kOe to 7.840($\pm$0.014) kOe, while the film thickness varies from 10 to 40 nm.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.336-336
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2011
Over the past decades, organic semiconductors have been investigated intensely for their potential in a wide range of optoelectronic device applications since the organic materials have advantages for very light, flexible and low cost device fabrications. In this study, we fabricated small-molecule organic solar cells (OSCs) based on chloro[subphthalocyaninato]boron(III) (SubPc) as an electron donor and $C_{60}$ as an electron acceptor material. Recently SubPc, a cone-shaped molecule with $14{\pi}$-electrons in its aromatic system, has attracted growing attention in small-molecule OSC applications as an electron-donating material for its greater open-circuit voltage (VOC), extinction coefficient and dielectric constant compared to conventional planar metal phthalocyanines. In spite of the power conversion efficiency (PCE) enhancement of small-molecule OSC using SubPc and $C_{60}$, however, the study on the interface between donor-acceptor heterojunction of this system is limited. In this work, SubPc thin films at various thicknesses were deposited by organic molecular beam deposition (OMBD) and the evolution of surface morphology was observed using atomic force microscopy (AFM) and field emission scanning electron microscopy (FE-SEM). We also investigated the influence of film thickness and surface morphology on the PCE of small-molecule OSC devices.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.11a
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pp.127-127
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2009
The most important part of the fabrication solar cells is the anti-reflection coating when excludes the kinds of silicon substrates (crystalline, polycrystalline, or amorphous), patterns and materials of electrodes. Anti-reflection coatings reduce the reflection of sunlight and at last increase the intensity of radiation to inside of solar cells. So, we can obtain increase of solar cell efficiency about 10% using anti-reflection coating. There are many kinds of anti-reflection film for solar cell, such as SiN, $SiO_2$, a-Si, and so on. And, they have two functions, anti-reflection and passivation. However such materials could not perfectly prevent reflection. So, in this work, we investigated the anti-reflection coating with the columnar structure ZnO thin film. We synthesized columnar structure ZnO film on glass substrates. The ZnO films were synthesized using a RF magnetron sputtering system with a pure (99.95%) ZnO target at room temperature. The anti-reflection coating layer was sputtered by argon and oxygen gases. The angle of target and substrate measures 0, 20, 40, 60 degrees, the working pressure 10 mtorr and the 250 W of RF power during 40 minutes. The confirm the growth mechanism of ZnO on columnar structure, the anti-reflection coating layer was observed by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM). The optical trends were observed by UV-vis and Elleso meter.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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