• 제목/요약/키워드: Fabrication Technique

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밀링 및 3D 프린팅 방법으로 제작된 임플란트 보철물을 이용한 심한 우식 환자의 완전 구강 회복 증례 (Full mouth rehabilitation of patient with severe dental caries with implant fixed prosthesis fabricated with milling and 3D printing method: A case report)

  • 김태윤;이준석;홍성진;김형섭;권긍록
    • 대한치과보철학회지
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    • 제57권3호
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    • pp.288-295
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    • 2019
  • 임플란트 지지 보철물의 'passive fit'은 보철물의 장기적인 성공과 합병증의 최소화에 핵심적인 요소이다. 그리고 이 요소는 보철물의 제작과정에 의해 대부분 결정된다. 전통적인 주조 방식은 금속의 수축 변형이 발생하여 광범위한 임플란트 보철물에 적용하는데 제한이 있었다. 그러나 Computer-aided design/Computer-aided manufacture (CAD/CAM) 밀링 방식과 3D 프린팅 방식을 사용하면 이러한 한계점을 극복할 수 있다. 본 증례는 광범위한 임플란트 보철물을 사용한 완전 구강 회복 증례이다. 가철성 임시 보철물을 제작하여 심미와 기증을 평가하고 임플란트 식립을 위한 가이드로 사용하였다. 임플란트 식립 후, 임플란트 고정성 임시 보철물이 장착되었다. 추가적인 평가와 조정 후, 최종 보철물이 CAD를 사용하여 설계되었고, CAM을 사용하여 제작되었다. 전치부 임플란트의 나사 유지형 상부구조물은 밀링되어 제작되었고, 전치부 및 구치부 금속도재관의 금속구조물은 3D 프린팅되어 제작되었다. 보철물은 양호한 적합도를 보였고 술자와 환자 모두 증례의 최종 결과에 심미적, 기능적으로 만족하였다.

적절한 전방 유도 재현을 위해 수정된 Dahl 원리 및 CAD/CAM 복제 기법을 이용하여 전치부의 기능 및 심미성을 개선한 보철 수복 증례 (Functional and esthetic improvement through reconstruction of anterior guidance using the modified Dahl principle and copy-milled technique of CAD/CAM system: A case report)

  • 김성호;최유성
    • 대한치과보철학회지
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    • 제57권2호
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    • pp.160-170
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    • 2019
  • 상악 전치부와 같은 기능 및 심미성의 개선이 조화롭게 요구되는 부위의 치료 시에는 다른 부위보다 더 많은 지식과 기술을 필요로 한다. 특히 전방 유도(anterior guidance)를 결정하는 상악 전치부 설면 외형을 제대로 형성하지 못하면, 기능적인 불편감과 함께 전체 치열의 불안정성을 야기한다. 적절한 원리를 이용하여 전방유도를 설정한 후 임시 수복물 제작 및 조정을 통해 조화로운 전방 유도를 확보했다면 임시 수복물의 설면 외형을 최종 보철물로 정확하게 재현하는 방법에 대해 주의 깊게 고려해야 할 필요가 있다. 본 증례에서는 체계적인 진단 및 치료를 위하여 수정된 Dahl 원리(modified Dahl principle) 및 computer-aided design/computer-aided manufacturing (CAD/CAM) 시스템의 복제 기법(copy-milled)을 이용하여 적절한 전방 유도를 설정하고, 지대치의 디지털 이미지와 임시 수복물의 디지털 이미지를 중첩시켜 보다 정확하게 보철물 형태를 재현하고자 하였다. 이에 기능적, 심미적 개선을 도모하여 환자와 술자 모두에게 만족스러운 치료결과 및 예후를 얻었기에 보고하는 바이다.

마찰대전 기반의 에너지 하베스팅에서 다층박막적층법의 응용 (Application of Layer-by-Layer Assembly in Triboelectric Energy Harvesting)

  • 합타무 게베예후 멩게;박용태
    • Composites Research
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    • 제35권6호
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    • pp.371-377
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    • 2022
  • 마찰대전 나노발전기(triboelectric nanogenerator, TENG) 장치는 최근 몇 십여년 동안 많은 관심을 불러일으켰다. 주변에서 버려지는 에너지 중 기계적 에너지를 수확하는 기술 중 하나인 TENG 기술은 정전기 유도 및 마찰 대전의 이중 효과로 얻어진다. 특히, 나노 로봇이나 마이크로 전자기계 장치와 같은 초소형 전자 장치의 급속한 발전으로 초박막 장치에 대한 수요가 크게 증가했다. TENG 기술의 급속한 성장과 함께 높은 전기 출력 성능과 저렴한 제조 기술을 갖춘 적절한 마찰대전 재료를 선택하는 것은 지속 가능한 나노발전기 작동에 필수적이다. 최근 이러한 문제를 극복하기 위한 하나의 방법으로 다층박막적층법 (혹은 층상자기조립법, layer-by-layer (LbL)self-assembly technique)이 고려되고 있다. 이 LbL 자기조립 기술은 TENG의 성능 향상 및 응용 분야에서 두께 문제를 성공적으로 극복할 뿐만 아니라 저비용, 친환경 공정을 제시했으며 대규모 생산에 사용할 수 있다. 본 리뷰에서는 TENG 장치를 위한 LbL 기반의 소재 개발에 있어 최근의 연구들을 검토하였으며, 현재까지 검토된 에너지 수확 장치 분야에서의 잠재력을 살펴보았다. LbL 기술을 적용하여 제작한 TENG 장치의 이점에 대해 논의하고, 마지막으로 다양한 초박형 TENG 구현을 위한 본 제작 기술의 방향과 관점을 간략하게 제시하였다.

임시 의치와 이중 디지털 스캐닝 기법을 활용한 전악 고정성 임플란트 수복 증례 (Full mouth rehabilitation with fixed implant-supported prosthesis using temporary denture and double digital scanning technique: a case report)

  • 신석현;박찬익;강세하;문지은;오민석;박철민;전우진;한성구;김선재;최수진
    • 대한치과보철학회지
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    • 제61권3호
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    • pp.245-256
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    • 2023
  • 임플란트 고정성 보철물 제작 시 디지털 시스템을 이용하여 수복할 때, 3차원적인 임플란트 위치의 구내 스캔과 임시 의치 혹은 임시 보철물 장착 후 구내 스캔을 이용한 이중 디지털 스캐닝(double digital scanning) 기법이 필요하다. 구내 스캔 시, 스캔 바디를 안정적인 랜드마크로 이용하면 다지털 인상의 정확도 향상과 기공과정이 효율적이고 단순화될 수 있다. 본 증례는 완전 디지털 시스템을 활용하여 맞춤형 치과용 임플란트 지대주 및 임시 보철물, 최종 보철물을 계획하고 제작하였다. 임플란트 식립 후, 임플란트에 체결한 구내 스캔 바디와 임시 의치 조직면에 인기 된 구내 스캔 바디의 스캔 영역을 중첩하였다. 중첩된 파일에서 임시 의치의 수직 고경에 맞는 맞춤형 치과용 임플란트 지대주와 임시 보철물을 제작하여 환자에게 시적 하였고, 임시 보철물을 토대로 최종 보철물을 제작하였다. 임시 의치 제작 시 설정한 수직 고경, 중심위 등을 최종 보철물까지 활용하여 기능 및 심미적으로 만족할 만한 결과를 얻어 이를 보고하고자 한다.

진공 내 상대론적인 영역의 전자빔을 이용한 플라즈마 항적장 가속기 기반 체렌코프 방사를 통한 결맞는 고출력 전자파 발생 기술 연구 (Study of Coherent High-Power Electromagnetic Wave Generation Based on Cherenkov Radiation Using Plasma Wakefield Accelerator with Relativistic Electron Beam in Vacuum)

  • 민선홍;권오준;사토로프마틀랍;백인근;김선태;홍동표;장정민;라나조이;조일성;김병수;박차원;정원균;박승혁;박건식
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제29권6호
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    • pp.407-410
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    • 2018
  • 일반적으로 전자파의 동작 주파수가 높아짐에 따라 최대 출력이 작아지고, 파동의 파장도 작아지기 때문에, 회로의 크기도 작아질 수밖에 없다. 특히, kW급 이상의 고출력 테라헤르츠파 주파수 대역의 회로를 제작하려면, ${\mu}m{\sim}mm$ 규모의 회로 크기 문제 때문에 제작에 한계점이 있다. 이러한 한계점을 극복하기 위해 본 논문에서는 회로의 지름이 2.4 cm 정도의 원통형으로, 0.1 THz~0.3 GW급의 발생원 설계 기술을 제안한다. 판드로모티브 힘이 생기는 플라즈마 항적장 가속원리와 인위적인 유전체 활용한 체렌코프방사 발생 기술 기반의 고출력 전자파 발생원의 최적화된 설계를 위해 모델링 및 전산모사를 수행하였다. 객관적인 검증 과정을 통해 회로의 크기에 제한을 덜 받도록 하는 대구경 형태의 고출력 테라헤르츠파 진공소자 제작이 용이하도록 효과적인 설계의 가이드라인을 제시하였다.

나노임프린트 공정에서 실란커플링제 기상증착을 이용한 표면처리 효과 (The Surface Treatment Effect for Nanoimprint Lithography using Vapor Deposition of Silane Coupling Agent)

  • 이동일;김기돈;정준호;이응숙;최대근
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제45권2호
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    • pp.149-154
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    • 2007
  • 나노임프린트 공정기술은 나노구조물이 패턴된 스템프(혹은 몰드)를 이용하여 적절한 기판 위에 나노구조물을 복제하여 패턴을 전사하는 기술이다. 효과적인 나노임프린트 공정을 위해서는 몰드의 이형처리뿐 아니라 반대쪽의 기질과 레지스트 사이에 접착력 증가(adhesion promoter) 처리가 매우 중요한 역할을 한다. 본 연구에서는 자기조립 실란커플링제의 기상증착을 이용하여 나노임프린트 공정에서 사용되는 접착 증가막 및 표면처리 방법을 비교 분석 하였다. 이를 위해서 평탄화층(DUV-30J), 산소 플라즈마 처리, 실란커플링제 자기조립막이 비교되었다. 실란커플링제 자기조립막이 형성된 실리콘 표면은 전체적으로 나노 두께의 균일한 막이 형성되며 임프린트시 구조물들을 정밀하게 전사하였으며 3-acryloxypropyl methyl dichlorosilane(APMDS)을 이용한 자기조립막(SAMs) 처리가 평탄화층과 산소 플라즈마 처리보다 강한 접착력을 가지고 있어 나노임프린트 공정에 적합함을 알 수 있었다.

InAs/GaSb 응력초격자를 이용한 적외선검출소자의 제작 및 특성 연구 (Fabrication and Device Characteristics of Infrared Photodetector Based on InAs/GaSb Strained-Layer Superlattice)

  • 김준오;신현욱;최정우;이상준;김창수;노삼규
    • 한국진공학회지
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    • 제18권2호
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    • pp.108-115
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    • 2009
  • 150 주기의 InAs/GaSb (8/8-ML) 제2형 응력초격자 (SLS)를 활성층에 탑재한 초격자 적외선검출소자 (SLIP) 구조를 MBE 방법으로 성장하고, 직경 $200{\mu}m$의 개구면을 가지는 SLIP 개별소자를 시험 제작하였다 고분해능 투과전자현미경 (TEM) 이미지의 휘도분포와 X선회절 (XRD) 곡선의 위성피크의 분석 결과는 SLS 활성층은 균일한 층두께와 주기적 응력변형을 유지하는 급격한 계면의 초격자임을 입증하였다. 흑체복사 적외선 광원을 이용하여 측정한 입사파장 및 인가전압에 따른 반응도 (R)와 검출률 ($D^*$)로부터, 차단파장은 ${\sim}5{\mu}m$이고 최대 R과 $D^*$ ($\lambda=3.25{\mu}m$)는 각각 ${\sim}10^3mA/W$ (-0.6 V/13 K)와 ${\sim}10^9cm.Hz^{1/2}/W$ (0 V/13 K)임을 보였다. 반응도의 온도의존성으로부터 분석한 활성화에너지 275 meV는 광반응 과정에 개입되어 있는 가전대 및 전도대 부준위 사이의 에너지 간격 (HH1-C)과 잘 일치하였다.

S확산에 의한 $n^+-p^+$ InP 태양전지의 제작 (The Fabrication of $n^+-p^+$ InP Solar Cells by the Diffusion of Sulphur)

  • 정기웅;김선태;문동찬
    • 태양에너지
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    • 제10권3호
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    • pp.60-65
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    • 1990
  • [ $p^+$ ]형의 InP 기판($p=4{\times}10^{18}cm^{-3}$)에 일정 온도에서 S를 열 확산시켜 $n^+-p^+$ 접합을 형성하고, $n^+$형 측에 사진식각법으로 폭 $20{\mu}m$의 표면 격자상 전극을 $300{\mu}m$ 간격으로 형성한 후, 반사방지(AR) 막으로 $600{\AA}$ 두께의 SiO 박막을 증착시켜 크기 $5{\times}5{\times}0.3mm^3$$n^+-p^+$ InP 동종접합 태양전지를 제작하였다. S의 접합깊이는 약 $0.4{\mu}m$이었으며, 제작된 태양전지는 확산시간이 증가함에 따라 단락전류($J_{sc}$)가 증가하였고, 충진율(F.F)이 감소하였으며, 직렬저항($R_s$)과 에너지 변환효율(${\eta}$)이 증가하는 경향을 나타냈다. $5,000-9,000{\AA}$의 파장 영역에서 양호한 분광감도 특성을 나타냈으며, 단락전류, 개방전압($V_{oc}$), 충진율, 에너지 변환효율이 각각 $13.16mA/cm^2$, 0.38V, 53.74%, 10.1%인 태양전지를 제작하였다.

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Noble metal catalytic etching법으로 제조한 실리콘 마이크로와이어 태양전지 (The Si Microwire Solar Cell Fabricated by Noble Metal Catalytic Etching)

  • 김재현;백성호;최호진
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2009년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.278-278
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    • 2009
  • A photovoltaic device consisting of arrays of radial p-n junction wires enables a decoupling of the requirements for light absorption and carrier extraction into orthogonal spatial directions. Each individual p-n junction wire in the cell is long in the direction of incident light, allowing for effective light absorption, but thin in orthogonal direction, allowing for effective carrier collection. To fabricate radial p-n junction solar cells, p or n-type vertical Si wire cores need to be produced. The majority of Si wires are produced by the vapor-liquid-solid (VLS) method. But contamination of the Si wires by metallic impurities such as Au, which is used for metal catalyst in the VLS technique, results in reduction of conversion efficiency of solar cells. To overcome impurity issue, top-down methods like noble metal catalytic etching is an excellent candidate. We used noble metal catalytic etching methods to make Si wire arrays. The used noble metal is two; Au and Pt. The method is noble metal deposition on photolithographycally defined Si surface by sputtering and then etching in various BOE and $H_2O_2$ solutions. The Si substrates were p-type ($10{\sim}20ohm{\cdot}cm$). The areas that noble metal was not deposited due to photo resist covering were not etched in noble metal catalytic etching. The Si wires of several tens of ${\mu}m$ in height were formed in uncovered areas by photo resist. The side surface of Si wires was very rough. When the distance of Si wires is longer than diameter of that Si nanowires are formed between Si wires. Theses Si nanowires can be removed by immersing the specimen in KOH solution. The optimum noble metal thickness exists for Si wires fabrication. The thicker or the thinner noble metal than the optimum thickness could not show well defined Si wire arrays. The solution composition observed in the highest etching rate was BOE(16.3ml)/$H_2O_2$(0.44M) in Au assisted chemical etching method. The morphology difference was compared between Au and Pt metal assisted chemical etching. The efficiencies of radial p-n junction solar Cells made of the Si wire arrays were also measured.

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Fabrication of Schottky Device Using Lead Sulfide Colloidal Quantum Dot

  • Kim, Jun-Kwan;Song, Jung-Hoon;An, Hye-Jin;Choi, Hye-Kyoung;Jeong, So-Hee
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제43회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.189-189
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    • 2012
  • Lead sulfide (PbS) nanocrystal quantum dots (NQDs) are promising materials for various optoelectronic devices, especially solar cells, because of their tunability of the optical band-gap controlled by adjusting the diameter of NQDs. PbS is a IV-VI semiconductor enabling infrared-absorption and it can be synthesized using solution process methods. A wide choice of the diameter of PbS NQDs is also a benefit to achieve the quantum confinement regime due to its large Bohr exciton radius (20 nm). To exploit these desirable properties, many research groups have intensively studied to apply for the photovoltaic devices. There are several essential requirements to fabricate the efficient NQDs-based solar cell. First of all, highly confined PbS QDs should be synthesized resulting in a narrow peak with a small full width-half maximum value at the first exciton transition observed in UV-Vis absorbance and photoluminescence spectra. In other words, the size-uniformity of NQDs ought to secure under 5%. Second, PbS NQDs should be assembled carefully in order to enhance the electronic coupling between adjacent NQDs by controlling the inter-QDs distance. Finally, appropriate structure for the photovoltaic device is the key issue to extract the photo-generated carriers from light-absorbing layer in solar cell. In this step, workfunction and Fermi energy difference could be precisely considered for Schottky and hetero junction device, respectively. In this presentation, we introduce the strategy to obtain high performance solar cell fabricated using PbS NQDs below the size of the Bohr radius. The PbS NQDs with various diameters were synthesized using methods established by Hines with a few modifications. PbS NQDs solids were assembled using layer-by-layer spin-coating method. Subsequent ligand-exchange was carried out using 1,2-ethanedithiol (EDT) to reduce inter-NQDs distance. Finally, Schottky junction solar cells were fabricated on ITO-coated glass and 150 nm-thick Al was deposited on the top of PbS NQDs solids as a top electrode using thermal evaporation technique. To evaluate the solar cell performance, current-voltage (I-V) measurement were performed under AM 1.5G solar spectrum at 1 sun intensity. As a result, we could achieve the power conversion efficiency of 3.33% at Schottky junction solar cell. This result indicates that high performance solar cell is successfully fabricated by optimizing the all steps as mentioned above in this work.

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