• Title/Summary/Keyword: FET-Hall Sensor

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Semiconductor magnetic field sensors (화합물 반도체 자기센서)

  • 차준호;김남영
    • Electrical & Electronic Materials
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    • v.9 no.5
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    • pp.512-517
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    • 1996
  • 본 고는 반도체 재료가 갖는 자기효과를 이용하여 자기센서의 종류 및 특성등에 대하여 서술하였다. 반도체 LSI의 응용분야가 확대됨에 따라서 반도체 센서를 이용한 극소형화, 고성능화, 저가격화, 다기능화등이 가능하게 되었다. 이러한 상황에서 반도체를 이용한 홀 소자나 자기저항 소자와 같은 자기센서 등을 주변회로와 일체화시킨 초소형 시스템에 대한 연구가 활발하다. 특히 화합물 반도체는 자기센서에 적합한 물리적인 특성을 갖고 있기 때문에, 자기센서로 효율을 나타내고 있다. 반도체의 미세가공기술의 발전과 LSI제조기술의 발전을 이용하여 센서의 집적화, 저가격화를 가능하게 하였으며, 다른 종류의 반도체 센서들을 자기센서와 함께 하나의 칩위에 장착할 수 있는 응용집적센서(Application-specific Integrated Sensor)가 더욱 중요한 역할을 할 것이다.

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Magnetic Sensitivity Improvement of 2-Dimensional Silicon Vertical Hall Device (2 차원 Si 종형 Hall 소자의 자기감도 개선)

  • Ryu, Ji-Goo
    • Journal of Sensor Science and Technology
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    • v.23 no.6
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    • pp.392-396
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    • 2014
  • The 2-dimensional silicon vertical Hall devices, which are sensitive to X,Y components of the magnetic field parallel to the surface of the chip, are fabricated using a modified bipolar process. It consists of the thin p-layer at Si-$SiO_2$ interface and n-epi layer to improve the sensitivity and influence of interface effect. Experimental samples are a sensor type K with and type J without $p^+$ isolation dam adjacent to the center current electrode. The results for both type show a more high sensitivity than the former's 2-dimensional vertical Hall devices and a good linearity. The measured non-linearity is about 0.8%. The sensitivity of type J and type K are about 66 V/AT and 200 V/AT, respectively. This sensor's behavior can be explained by the similar J-FET model.

Magnetic Sensitivity Improvement of Silicon Vertical Hall Device (Si 종형 Hall 소자의 자기감도 개선)

  • Ryu, Ji-Goo;Kim, Nam-Ho;Chung, Su-Tae
    • Journal of Sensor Science and Technology
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    • v.20 no.4
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    • pp.260-265
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    • 2011
  • The silicon vertical hall devices are fabricated using a modified bipolar process. It consists of the thin p-layer at Si-$SiO_2$, interface and n-epi layer without $n^+$buried layer to improve the sensitivity and influence of interface effects. Experimental samples are a sensor type I with and type H without p+isolation dam adjacent to the center current electrode. The experimental results for both type show a more high current-related sensitivity than the former's vertical hall devices. The sensitivity of type H and type I are about 150 V/AT and 340 V/AT, respectively. This sensor's behavior can be explained by the similar J-FET model.