The band-gap opening in graphene is a key factor in developing graphene-based field effect transistors. Although graphene is a gapless semimetal, a band-gap opens when graphene is formed into a graphene nanoribbon (GNR). Moreover, the band-gap energy can be manipulated by the width of the GNR. In this study, we propose a site-specific synthesis of a width-tailored GNR directly onto an insulating substrate. Predeposition of a diamond-like carbon nanotemplate onto a SiO2/Si wafer via focused ion beam-assisted chemical vapor deposition is first utilized for growth of the GNR. These results may present a feasible route for growing a width-tailored GNR onto a specific region of an insulating substrate.
Lee, Da Jung;Yun, Sun Jin;Lee, Seong Hyun;Lim, Jung Wook
ETRI Journal
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제35권4호
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pp.730-733
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2013
In this work, buffer layers with various conditions are inserted at an n/i interface in hydrogenated amorphous silicon semitransparent solar cells. It is observed that the performance of a solar cell strongly depends on the arrangement and thickness of the buffer layer. When arranging buffer layers with various bandgaps in ascending order from the intrinsic layer to the n layer, a relatively high open circuit voltage and short circuit current are observed. In addition, the fill factors are improved, owing to an enhanced shunt resistance under every instance of the introduced n/i buffer layers. Among the various conditions during the arrangement of the buffer layers, a reverse V shape of the energy bandgap is found to be the most effective for high efficiency, which also exhibits intermediate transmittance among all samples. This is an inspiring result, enabling an independent control of the conversion efficiency and transmittance.
The III-V nitride semiconductor InN thin films which have the direct bandgap in visible light wavelength region have been deposited on Si(100) substrates and AIN/Si(100) substrates by rf reactive sputtering. InN thin films have been investigated on the structural, and electrical properties according to the sputtering parameters such as total pressure, rf power, and substrate temperature. It is found that optimal conditions required for fabricating InN thin films with high crystal Quality, low carrier concentration, high Hall mobility are total pressure 5mTorr, rf power 60W, substrate temperature 6$0^{\circ}C$ . InN thin films deposited on the AIN(60min.)/Si(100) substrates arid AIN(120min.)/Si(100) substrates showed remarkably high crystal quality and electrical properties. It is known that AIN buffer layer is to decrease free energy at interface between InN film and Si substrate, and then promoting lateral growth of InN films.
We considered the ion and photo-induced properties as a function of wavelength by exposing the light over the band gap of a-Ag/a-$Se_{75}$$Ge_{25}$ and the low-energy defocused $Ga^{+}$ ion beam on Ag/a-$Se_{75}$$Ge_{25}$ thin film. This film acts as a negative resist for photo or ion beam lithography. We observed that the absorbance coefficient decreased with increasing the photo-exposing time and exposing the ion beam. The bandgap shifts toward longer wavelength called a "darkening effect" are observed in the films exposed to both photons and ions. We suggest that a primary step in the Ag layer and a secondary step is in a-$Se_{75}$$Ge_{25}$ film layer.
In this paper, the electrical power output of the micro-combustor thermophotovoltiac(TPV) system was analyzed. The system consists of a micro-combustor, photonic crystals(PhCs), and photovoltaic cells(PV cells). The system has a micro-combustor that can achieve over 1,000 K surface temperature by consuming 2.5 g/h hydrogen fuel. Also, this system incorporates current state-of-the-art PhCs surfaces(2D Ta PhCs and Tandem Filter) to increase electrical power output. In addition, InGaAsSb PV cell, which bandgap is 0.55 eV, was applied to convert a wide range of radiative energy. The performance analysis shows that a single micro-combustor TPV system can produce 0.4 W ~ 27.7 W electrical power with the temperature change of emitter(900 K ~ 1,500 K) and PV cell(250 K ~ 400 K).
Gas sensors based on semiconducting metal oxides have attracted considerable attention for various applications owing to their facile, cheap, and small-scale manufacturing processes. Hematite (α-Fe2O3) is widely considered as a promising candidate for a gas-sensing material owing to not only its abundance in the earth's crust and low price but also its chemical stability and suitable bandgap energy. However, only a few studies have been performed in this direction because of the low gas response and sluggish response of hematite-based gas sensors. Nanostructures present a representative solution to both overcome these disadvantages and exploit the desirable features to produce high-performance gas sensors. However, several challenges remain for adopting gas sensors based on metal oxide nanostructures, such as improving cost efficiency and facilitating mass production. This review summarizes the recent studies on gas sensors based on hematite nanostructures. It also provides useful insights into various strategies for enhancing the gas-sensing properties of gas sensors based on hematite nanostructures.
The real ($\varepsilon$1) and imaginary ($\varepsilon$2) parts of the dielectric function of ZnS have been measured by spectroscopic ellipsometry (SE) in the 3.7-6.0 eV photon-energy range at room temperature. The obtained dielectric function spectra reveal distinct structures at energies E0/(E0+$\Delta$0) and E1 critical points. The spectrum after chemical treatment to remove surface oxide overlayer showed that these data seem to be the best representation of the dielectric function of ZnS, having the largest $\varepsilon$2 value at E1 peak region reported so far by SE. Dielectric-related optical constants of ZnS, such as the complex refractive indices (n+n=ik), absorption coefficient, and reflectance, are also presented.
[ $CulnSe2$ ]계 화합물은 직접천이형 반도체로 광흡수계수가 매우 높아 박막형 태양전지 제조에 매우 유리하다. 또한 화학적으로 안정하며 Ga, Al 등을 첨가하면 에너지 금지대폭을 조절할 수 있어 Wide Bandgap 태양전지 및 탠덤구조 태양전지를 제조하기에도 용이하다. CIS 물질에서 In을 $20-30\%$ 정도 치환한 $Cu(In,\;Ga)Se_2(CIGS)$ 태양전지의 경우 19.5%의 세계 최고 효율을 보고하고 있으며 이는 다결정 실리콘 태양전지의 효율과 비슷한 수준이다. 본 연구에서는 동시 질공증발법을 이용하여 증착한 CIGS 박막 및 $CuGaSe_2(CGS)$ 박막을 이용하여 태양전지를 제조하였다. 공정의 재현성 및 결정립계가 큰 광흡수층 제조를 위하여 실시간 기판 온도 모니터링 시스템을 도입하였으며 버퍼층으로는 용액성장한 CdS 박막을 사용하였다. SLG/MO/CIGS(CGS)/CdS/ZnO/Al 구조의 태양전지를 제조하여 면적 $0.5cm^2$에서 각각 $17\%(CIGS)$와 $7\%(CGS)$의 효율을 얻었다.
We investigate the characteristics of $Cu_2O$ thin films deposited through the addition of $N_2$ gas. The addition of $N_2$ gas has remarkable effects on the phase changes, resulting in improved electrical and optical properties. An intermediate phase ($6CuO{\cdot}Cu_2O$) appears at a $N_2$ flow rate of 1 sccm, and a $Cu_2O$ (200) phase is then preferentially grown at a higher feeding amount of $N_2$. The optical and electrical properties of $Cu_2O$ thin films are improved with a sufficient $N_2$ flow rate of more than 15 sccm, as confirmed through various analyses. Under this condition, a high bandgap energy of 2.58 eV and a conductivity of $1.5{\times}10^{-2}$ S/cm are obtained. These high-quality $Cu_2O$ thin films are expected to be applied to $Cu_2O$-based heterojunction solar cells and optical functional films.
ZnO is a promising material to make high efficient ultraviolet(UV) or blue light emitting diodes(LEDs) because of its large binding energy and energy bandgap. In this study, we prepared ZnO thin films with p-type conductivity on silicon(100) substrates by RF magnetron sputtering in the mixture of $N_2$ and $O_2$. The process was accompanied by low pressure in-situ annealing in $O_2$ at $600^{\circ}C$ and $800^{\circ}C$ respectively. Hall effect in Van der Pauw configuration showed that the N-doped ZnO film annealed at $800^{\circ}C$ has p-type conductivity. Photoluminescence(PL) spectrum of the film annealed at $800^{\circ}C$ showed UV emission related to exciton and bound to donor-acceptor pair(DAP) as well as visible emission related to many intrinsic defects.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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