• 제목/요약/키워드: Electron trajectory

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New analysis method of electrostatic lens for CRT

  • Seok, J.M.;Ham, Y.S.;Lee, J.I.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.395-398
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    • 2002
  • The spherical aberration and optical integer (f) of the electron gun's main lens in color CRT is obtained, using electron beam trajectory. A spherical aberration is obtained from the relation between the object plane and the image of a beam trajectory. To analyze beam profile, 3rd and 1st order coefficient were obtained and used. It is shown that, in practice, they are applied to electron gun design.

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불균등 Mesh를 사용한 유한차분법에 의한 전자총의 Beam 궤적 Simulation에 관한 연구 (A Study on the Simulation of Beam Trajectory in the Electron-Gun by FDM using the Irregular Mesh)

  • 김남호;정현열;이무용;정기호
    • 한국통신학회논문지
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    • 제16권8호
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    • pp.719-731
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    • 1991
  • 본 논문은 일반형의 개통형전자총의 전자 빔 궤도를 비교적 신속 편리하게 해석할 수 있는 computer simulation의 한 방법을 소개하는 것으로써 전극의 구조와 인가전압등을 입력하면 빔 전류, cutoff 전압, 빔 직경 그리고 궤적도가 출력으로 얻어진다. 계산속도를 증가시키기 위해서 공간전위의 계산에는 전극공간을 여러개로 분할하고 요구되는 정도에 따라서 각기 다른 격자크기를 할당하였으며 유한차분법으로 계산하도록 하였다. 몇 가지의 model을 선정하여 본 방법으로 빔 궤적도를 simulation 시켰는데 그 결과는 전극의 집속기구를 명확하게 제시해줄 수 있었으며 본 방식으로 구해진 빔 전류, cutoff 전압, 빔 직경등은 실지의 측정실험에서 얻어진 결과와 실험오차 내의 정확도로써 잘 일치되었다. 이 방법을 적용하면 설계자로 하여금 실지로 전자관을 제작하지 않고서도 전극의 구조변화에 따른 영향을 정확히 파악 할 수 있는 까닭에 전자총의 설계나 개선작업에 유용하게 적용될 수가 있을 것이다.

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Focal length에 의한 전자 렌즈의 제어 신호 생성을 위한 하드웨어 설계 (Hardware Design for the Control Signal Generation of Electron Optic by Focal Length)

  • 임선종;이찬홍
    • 한국공작기계학회논문집
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    • 제16권5호
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    • pp.96-100
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    • 2007
  • Condenser lens and objective lens are used to demagnify the image of the crossover to the final spot size. In lens, electrons are focused by magnetic fields. This fields is fringing field. It is important in electron focusing. Electron focusing occurs the radial component field and axial component field. Radial component produces rotational force and axial component produces radial force. Radial force causes the electron's trajectory to curve toward the optic axis and corss it. Focal length decreases as the current of lens increases. In this paper, we use the focal length for desiging the hardware of lens current control and present the results.

ZEP520 포토리지스트를 이용한 나노 패턴 형성을 위한 전자빔 리소그래피 공정 모델링 및 시뮬레이션 (Modeling and Simulation of Electron-beam Lithography Process for Nano-pattern Designs using ZEP520 Photoresist)

  • 손명식
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제6권3호
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    • pp.25-33
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    • 2007
  • A computationally efficient and accurate Monte Carlo (MC) simulator of electron beam lithography process, which is named SCNU-EBL, has been developed for semiconductor nanometer pattern design and fabrication. The simulator is composed of a MC simulation model of electron trajectory into solid targets, an Gaussian-beam exposure simulation model, and a development simulation model of photoresist using a string model. Especially for the trajectories of incident electrons into the solid targets, the inner-shell electron scattering of an target atom and its discrete energy loss with an incident electron is efficiently modeled for multi-layer resists and heterogeneous multi-layer targets. The simulator was newly applied to the development profile simulation of ZEP520 positive photoresist for NGL(Next-Generation Lithography). The simulation of ZEP520 for electron-beam nanolithography gave a reasonable agreement with the SEM experiments of ZEP520 photoresist.

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표면전도 전자방출 표시장치의 전자방출 구조해석 (Analysis of electron emission mechanism in surface conduction electron emission displays)

  • 김영삼;김영권;오현주;조대근;길도현;김대일;강준길;강승언;최은하
    • 한국진공학회지
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    • 제8권4A호
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    • pp.410-416
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    • 1999
  • It is confirmed that the cause of anode current in SEDs (surface conduction electron emission displays) is the inertial force of electron emitted from the cathode surface in the calculation of electron trajectory. In the fissure of sub-micron, most of electrons emitted from the area of the cathode edge flow into the coplanar anode, while some electrons are emitted into the display surface by the current ratio of $10^{-3}$. The later electrons are forced to fly into the display surface by the centrifugal force due to the curved electric field between top side surfaces near the fissure.

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Electron Emission Mechanism in the Surface Conduction Electron Emitter Displays

  • Cho, Guang-Sup;Choi, Eun-Ha;Kim, Young-Guon;Kim, Dai-Il
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2000년도 제1회 학술대회 논문집
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    • pp.139-140
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    • 2000
  • The origin of the display current in the surface conduction electron emitter displays has been verified in the calculation of the electron trajectory. Some electrons move directly toward the display surface as an anode current which is generated due to the inertial force of electron motion along the curved electric field lines with a small curvature near the fissure area..

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냉음극(冷陰極) 자기(磁氣) 절연형(絶緣型) 다이오드에서의 전자(電子) 궤적(軌跡) 계산(計算) (Calculations of Single Electron Trajectory in Magnetically Insulated Cold Cathode Type Diode)

  • 조주현;장용무;고광철;강형부
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1992년도 하계학술대회 논문집 B
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    • pp.942-944
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    • 1992
  • The free electron laser (FEL) is driven by electron beams with energies ranging from hundreds of kilovolt to hundreds of megavolt. Therefore the efficiency of FEL strongly depends on the beam quality. In this paper we examined the relation between applied voltage and magnetic field at the magnetically insulated cylindrical cold cathode for the high quality electron beam by the numerical analysis. As a result, we knew that the beam widening strongly depended on applied magnetic field and voltage.

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초소형 자유전자레이저 모듈에 있어서 위글러 구조에 따른 전자빔 특성 연구 (Study on the Characteristics of Electron Beam Dependent with the Structure of Wiggler in the Miniaturized Free Electron Laser Module)

  • 김영철;안성준;김대욱;김호섭;안승준
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제12권3호
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    • pp.1319-1326
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    • 2011
  • 상업용 3-D simulation tool(OPERA)을 이용하여 슬릿형 위글러가 장착된 초소형 자유전자레이저 모듈에 있어서 위글러 구조에 따른 전자빔 특성을 조사하였다. 전자렌즈의 중앙 전극에 일정한 potential을 인가하여 전자빔이 평행빔이 되도록 divergence를 줄여서 위글러에 입사시켰으며 위글러의 구조 의존성에 따른 위글러 내부에서의 전기장과 potential 분포를 계산하여 위글러에서의 전자빔 궤적의 변화를 조사하였다.

전자총 시스템 제작과 이를 이용한 고융점 금속 증발에 관한 연구 (Study on the evaporation of high melting temperature metal by using the manufactured electron hem gun system)

  • 정의창;노시표;김철중
    • 한국진공학회지
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    • 제12권1호
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    • pp.1-6
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    • 2003
  • 50 kW급 출력의 전자빔을 발생시킬 수 있는 축선 방식 전자총 (axial electron beam gun)과 전원장치를 제작하였다. 전자총은 전자빔 발생장치와 전자빔 궤적제어장치로 이루어졌다. 전자빔 발생장치는 필라멘트와 음극(cathode), 양극(anode)으로 구성되었고 전자빔의 최대전류는 2A, 가속전압은 평균 25kV이다. 전자빔 궤적제어장치는 전자빔의 크기를 조절하는 초점 (focusing) 코일과 전자빔의 방향을 조절하는 편향(deflection) 코일 및 주사 (scanning) 코일로 구성되었다. 전자총과 별개로 진공용기 내부에 Helmholtz 코일을 설치하여 시료의 표면에 입사되는 전자빔의 입사각도를 최적화시켰다. 각 부분의 동작 특성을 측정한 결과와 제작된 전자총으로 고융점 원소인 지르코늄 (zirconium, Zr)과 가돌리늄(gadolinium, Gd) 금속을 증발시킨 결과를 정리하였다.