In this paper, We have studied Electron Transport Layer(ETL) in the New Organics applied to Red phosphorescent organic light-emitting devices. The structure of ITO/2-TNATA(15nm)/CBP;$Ir(piq)_3$/DPVBi(30nm)/New ETL(60nm)/LiF(0.5nm)/Al(100nm) has been used, measured changing doping concentration of EML. The results of OLED turn-on voltage at 2.2V, and Maximum Luminance at 2.8V was $1000cd/m^2$. This high luminance at low voltage results from a high electron. conduction of the new electron transport layer.
In this paper the change of electrical properties of transformer oil due to electron beam irradiation is investigated. The specimens are produced with a some different dose of 0.5[Mrad], 1[Mrad] and 2[Mard] except for original specimen. The physical properties of each specimen is analyzed by using the FT-IR spectrum. So it is confirmed that carbonyl groups are increased according to the increase of electron beam dose and also that the nitric compounds are disappeared. The magnitude of dielectric dissipation factor appears maximum value by the contribution of dipoles and ions in the low temperature low voltage region and it is stable due to the saturation of carriers in the high temperature high voltage region in the electric conduction characteristics. Volume resistivity is also measured one of original specimen is larger than irradiated specimen.
이번 연구에서는 제일원리 계산을 통해 실리콘의 전자구조를 분석하였다. 특히 strain이 걸렸을 때에 실리콘의 전자이동도는 전자구조의 변화와 밀접하게 관련이 있음을 밝혔다. Strain이 걸린 경우와 그렇지 않은 경우에 대한 conduction band의 effective한 유효질량 계산을 하였고 이를 통해 tensile strain이 걸린 경우 전자의 이동도가 증가하는 것을 보였다.
Kim, Jang-Kwon;Lee, Myung-Jae;Kim, Dong-Sik;Chung, Kwan-Soo
대한전자공학회:학술대회논문집
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대한전자공학회 2002년도 ITC-CSCC -2
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pp.1125-1128
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2002
Tantalum pentoxide (Ta$_2$O$\sub$5/) is a candidate for use in metal-insulator-metal diode in switching devices for active-matrix liquid-crystal displays. The MIM diode with very low threshold voltage and perfect symmetry was fabricated. High quality Ta$_2$O$\sub$5/ thin films were obtained by using an anodizing method. Rutherford backscattering spectroscopy, transmission electron microscope observations, auger electron spectroscopy, ellipsometry measurements, and electrical measurements, such as current - voltage(I-V) measurements were performed to investigate Ta$_2$O$\sub$5/ films and their reliability and indicated that the obtained TaOx thin films were reliable Ta$_2$O$\sub$5/ films for the applications. Furthermore, in this paper, we discuss the effects of top-electrode metals and annealing conditions. The conduction mechanism of the leakage current and the symmetry characteristics related to the Schottky emission and Poole-Frankel effect are also discussed using the results of electrical measurements and conduction barrier theory.
The electronic property of graphene was investigated by hydrazine treatment. Hydrazine ($N_2H_4$) highly increases electron concentrations and up-shifts Fermi level of graphene based on significant shift of Dirac point to the negative gate voltage. We have observed contact resistance and channel length dependent mobility of graphene in the back-gated device after hydrazine monohydrate treatment and continuously monitored electrical characteristics under Nitrogen or air exposure. The contact resistance increases with hydrazine-treated and subsequent Nitrogen-exposed devices and reduces down in successive Air-exposed device to the similar level of pristine one. The channel conductance curve as a function of gate voltage in hole conduction regime keeps analogous value and shape even after Nitrogen/Air exposure specially whereas, in electron conduction regime change rate of conductance along with the level of conductance with gate voltage are decreased. Hydrazine could be utilized as the highly effective donor without degradation of mobility but the stability issue to be solved for future application.
The effects of fast neutron irradiation on the electrical and optical properties of Li (3 at%) doped ZnSnO (ZTO) thin films fabricated using a sol-gel process are investigated. From the results of Li-ZTO TFT characteristics according to change of neutron irradiation time, the saturation mobility is found to increase and threshold voltage values shift to a negative direction from 1,000 s neutron irradiation time. X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the O 1s core level shows that the relative area of oxygen vacancies is almost unchanged with different irradiation times. From the results of band alignment, it is confirmed that, due to the increase of electron carrier concentration, the Fermi level (EF) of the sample irradiated for 1,000 s is located at the position closest to the conduction band minimum. The increase in electron concentration is considered by looking at the shallow band edge state under the conduction band edge formed by fast neutron irradiation of more than 1,000 s.
Semiconducting glaxe of iron system for the recent use as high Voltage porcelain insulators often showed the tendancy of unstable thermal properties. Thus the development of frit including magnetite was studied to cover the defect. In the experimental process melted and quenched frits were ground pelletized and heat-treated at various temperatures in the range of 800-1 $300^{\circ}C$ for various soaking time within 4 hours and then crystallized specimens were obtained. The speciment were studied with optical and electron microscope DTA x-ray diffractometer and electrometer The results obtained were as follows : 1) The optimum condition for the crystal growth of magnetite in the frite was the heat-treatment of $1300^{\circ}C$ for 3hrs and in this case the range of crystal size was $10-11\mu\textrm{m}$ 2) The activation energy for the crystal growth of magnetite was 21.1 kcal/mole. 3) The heat-treament at $1, 250^{\circ}C$ and $1, 300^{\circ}C$ resulted in the good thermal stability and the range of surface resistivity was $3.5{\times}10^4-4.0{\times}10^7$, /TEX> $\Omega$/$cm^2$ which was adguate to semiconducting frit. 4) The conduction mechanism seems to be due to the electron mobility rather than ion mobility and the activa-tion energy for the conduction was 0.07-0.15eV/mole for the heat-treated specimes in the range of 1, 250-1, 300C
The purpose of this study was to correlate between photoelectrochemcial hydrogen production rate and electron transfer with various types of metal doped $TiO_2$ nanotubes as photoanodes. In order to fabricate light sensitized photoanode, CdS, $WO_3$, and Pt were doped by electrodeposition method. As the results of experiments, the electron transfer was favorable from higher position to lower position of conduction band (CB). In consequence, the higher hydrogen production rate was as follows, CdS/$TiO_2$ (100 $umol/hr-cm^2$) > $WO_3/TiO_2$ (20 $umol/hr-cm^2$) > Pt/$TiO_2$ (10 $umol/hr-cm^2$). The surface characterizations exhibited that crystal structure, morphological and electrical properties of various metal depoed $TiO_2$ nanotubes by the results of SEM, TEM, XPS, and photocurrent measurements.
A new lateral MOS controlled thyristor, named Shorted Anode LMCT(SA-LMCT), is proposed and analyzed by a two-dimensional device simulation. The device structure employs the implanted n+ layer which shorts the p+ anode together by a common metal electrode and provides a electron conduction path during turn-off period. The turn-off is achieved by not only diverting the hole current through the p+ cathode short but also providing the electron conduction path from the n-base into the n+ anode electrode. In addition, the modified shorted anode LMCT, which has an n+ short junction located inside the p+ anode junction, is also presented. It is shown that the modified SA-LMCT enjoys the advantage of no snap-back behavior in the forward characteristics with little sacrificing of the forward voltage drop. The simulation result shows that the turn-off times of SA-LMCT can be reduced by one-forth and the maximum controllable current density may be increased by 45 times at the expense of 0.34 V forward voltage drop as compared with conventional LMCT. (author). 11 refs., 6 figs., 1 tab.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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