RF Sputtering으로 제작한 $SiO_2 $ 및 $SiO_2/TiN$ 박막의 R-V 특성
(The R-V Characteristics of $SiO_2 $ & $SiO_2/TiN$ Thin Film Fabricated by RF Sputtering)
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- 한국전기전자재료학회논문지
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- 제11권10호
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- pp.826-832
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- 1998