이층 배선공정에서 층간 절연막의 층덮힘성 연구 : PECVD와 $O_3$ ThCVD 산화막
(Step-Coverage Consideration of Inter Metal Dielectrics in DLM Processing : PECVD and $O_3$ ThCVD Oxides)
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- 한국재료학회지
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- 제2권3호
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- pp.228-238
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- 1992