${BF^+}_2$ 이온 주입된 실리콘 시료의 격자손상과 불순물 농도분포에 대한 연구
(A Study on the Lattic Damages and Impurity Depth Profiles of ${BF^+}_2$ Ion Implanted Silicon)
-
- 대한전자공학회논문지
- /
- 제25권3호
- /
- pp.294-301
- /
- 1988