A Study on the Lattic Damages and Impurity Depth Profiles of ${BF^+}_2$ Ion Implanted Silicon
(${BF^+}_2$ 이온 주입된 실리콘 시료의 격자손상과 불순물 농도분포에 대한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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- v.25 no.3
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- pp.294-301
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- 1988