FeCo/Pd 초격자 다층박막의 FeCo 와 Pd sublayer 두께를 각각 $2.5\;{\AA}$ 및 $10.5\;{\AA}$으로 유지시키면서 FeCo sublayer 의 Fe 조성이 0에서 100% 까지 변화함에따른 포화자화값, 수직 자기이방성에너지, 보자력 및 Kerr 회전각의 파장 의존성을 조사 하였다. 포화자화값은 Fe 조성이 48 at.%부근에서 최 고치를 보였고, 수직 자기이방성에너 및 조자력은 Fe조성의 증가에따라 단조감소 하였다. Kerr 회전각은 Fe 조성의 증가에따라 감소하였는데 그 크기 및 변화의 폭은 단파장으로 갈수록 증가하였다.
Heavy metal fluoride glasses exhibit considerable promise as high transparency materials from the UV to the IR. These glasses are prepared by fusion of the mixture of metal fulorides($ZrF_4$, $BaF_2$, $LaF_3$ etc) at 800-1, 00$0^{\circ}C$ under the inert$(N_2)$ or reactive ($CCl_4$, $Cl_2$) atmosphere following the casting into glass on cooling. Infrared absorption at the 3, 400 cm-1 -OH peak has been measured as a function of thickness for several ZrF-$BaF_2$-LaF and $HfF_4$-$BaF_2$-$LaF_3$ glasses to separate contributions from bulk and surface -OH. For glasses melted under $CCl_4$ reactive atmosphere the peak is due almost entirely to surface-OH. and melting in a closed reactor was best for removing -OH. In ambient atmosphere the -OH peak exhibited no time dependence over a 30 d period indicating a very small rate of surface attack by atmospheric H2O. Removal of -OH absorption processing was generally easier and more complete for the $BaF_2$/ThF4-glasses than for the $ZrF_4$-or $HfF_4$-based glasses.
정보정은 풍화층의 두께나 속도가 균질하지 않아 하부의 지층으로부터 전파된 신호의 왜곡을 보정하는 방법으로 굴절파에 근거한 정보정과 반사파에 근거한 잔여 정보정이 있다. 이 중 굴절파에 근거한 정보정은 일반적으로 분석자의 주관적인 해석에 의존하므로 많은 시간이 소요된다. 따라서 방대한 양의 자료를 처리해야하는 3차원 탄성파 탐사 자료의 정보정에 적용하는 데는 어려움이 있다. 이러한 굴절파에 근거한 정보정을 적용하기 위해서는 분석자의 해석을 최소한으로 하여 자동적으로 정보정을 수행하는 방법의 개발이 필요다. 본 연구에서는 굴절파에 근거한 정보정 방법을 육상 3차원 탄성파 탐사 자료에 대해 효과적으로 수행할 수 있는 방법에 대해 살펴보았다.
The purpose of this research was to investigate and to find out the optimal annealing condition to mold an aspheric glass to be used for mobile phone module having 2 megapixel and $2.5{\times}$ zoom. Taking annealing rate and re-press temperature after molding as molding variables under the identical molding temperature and pressure, a glass lens was molded. And, Form Accuracy, Lens Thickness, Refractive Index, and Modulation Transfer Function(MTF) were measured in order to observe characteristics of molded lens, and then optimal annealing conditions were determined based on the resulting data. Properties of lens molded under the optimal conditions revealed Form Accuracy[PV] $0.2047\;{\mu}m$ in aspheric surface, and $0.2229\;{\mu}m$ in plane, and MTF value was 30.3 % under 80 lp/mm.
Sliding friction between a spherical pin of 8mm in diameter and flat (disk) substrates coated with vacuum-deposited thin film was measured under ultra high vacuum pressure for various materials, various rates of film supply (8~210 nm/min), various sliding velocities (1.5~67.0 mm/s). It was found that the most effective lubrication was obtained when the adhesion between $Si_3N_4$ pin and SUS440C disk was high and that between $Si_3N_4$ pin and $Si_3N_4$ disk was low. When In film was used as a lubricant between $Si_3N_4$ pin and stainless steel disk, the friction coefficient had a value as low as 0.04. In this case, the normal load W and the sliding speed V were expressed as 10N and 24 mm/s for $10^{-6}Pa$. The dependence of $\mu$ on the thickness h of the Ag film, which was used as a lubricant between $Si_3N_4$ pin and SUS440C (Q) disk was expressed as $\mu$=0.12 for W=10N and V=24mm/s when the film was thicker than 100nm. A brief discussion on these relations is presented from the viewpoint of the real contact area.
Kesba, Mohamed Khodjet;Benkhedda, A.;Adda bedia, E.A.;Boukert, B.
Advances in aircraft and spacecraft science
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제6권4호
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pp.315-331
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2019
The stiffness degradation of the cross-ply composite laminates containing a transverse cracking and delamination in $90^{\circ}$ layer is predicted by using a modified shear-lag model by introducing the stress perturbation function. The prediction shows better agreement with the experimental results published by Ogihara and Takeda 1995, especially for laminates with thicker $90^{\circ}$ plies in which extensive delamination occurs. A homogenised analytic model for average transient moisture uptake in composite laminates containing periodically distributed matrix cracks and delamination is presented. It is shown that the model well describes the moisture absorption in a cross-ply composite laminate containing periodically distributed transverse matrix cracks in the $90^{\circ}$ plies. The obtained results represent well the dependence of the stiffness degradation on the crack density, thickness ratio and moisture absorption. The present study has proved to be important to the understanding of the degradation of the material propertiesin the failure process when the laminates in which the delamination grows extensively.
텐덤 구조의 양자점 태양전지에서 양자점의 크기에 따라 에너지 밴드갭이 달라 넓은 대역의 태양광을 이용할 수 있다. 이러한 양자점의 크기는 증착 두께의 제어로 조절이 가능하다. Si과 C target을 이용한 RF Co-sputtering 법으로 각각 증착시간을 다르게 하여, SiC/$Si_{1-x}C_x$(x~0.20)인 실리콘 양자점 초격자 박막을 제조하고, $1000^{\circ}C$에서 20분간 질소 분위기에서 열처리를 하였다. Grazing incident X-ray diffraction(GIXRD)를 통해서 Si(111)과 $\beta$-SiC (111)이 생성되었음을 확인하였고, High resolution transmission electron microscopy(HRTEM) 사진으로 양자점의 크기와 분포 밀도를 확인할 수 있었다. Photoluminescence(PL)에서 1.4, 1.5, 1.7, 1.9eV의 Peak이 확인되었다.
비자성사이층 Cu 두께(30 $\AA$, 35 $\AA$, 40 $\AA$)를 달리한 glass(7059)/N $i_{81}$$Fe_{19}$(70 $\AA$)/Co(10 $\AA$)/Cu(t $\AA$)/Co(15 $\AA$)/N $i_{81}$$Fe_{19}$(35 $\AA$)N $i_{25}$M $n_{75}$(250 $\AA$)Ta(50 $\AA$) 스핀밸브박막(spin valve film; SVF) 을 dc 스퍼터링으로 제작하였다 이 시편을 진공 열처리 한 후 자유자성층의 상호결합세기(interlayer coupling field; $H_{inf}$ )와 보자력(coercivity; $H_{sf}$ )에 대한 열처리 순환횟수 및 비자성층 두께 의존성에 관련한 자기저항특성을 조사했다. Cu 두께가 35 $\AA$인 SVF의 경우에 교환결합세기(exchange coupling field; $H_{ex}$)가 620 Oe, 보자력( $H_{c}$)이 280 Oe 및 자기저항(magnetoresistance; MR)비가 2.5%를 보였다. $H_{inf}$ 와 $H_{cf}$ 는 모든 SVF가 열처리 순환 횟수에 따라 증가하는 경향을 보이다가 일정한 값으로 안정화되며 Cu 35 $\AA$인 경우는 열처리 순환 횟수 15회 이후에 각각 120 Oe 및 75 Oe를 유지한다. $H_{inf}$ 및 $H_{cf}$ 가 열처리 순환횟수 증가에 따라 증가하는 것은 열처리 효과에 의해 Cu층과 Co층의 계면섞임 증대에 의한 유효한 Cu층 두께 감소에 기인한다. Cu가 적정둘레 35 $\AA$ 보다 더 얇아지거나 두꺼워지면 계면섞임에 의한 효과는 각각 더 증대하거나 둔화되는 것으로 분석된다.으로 분석된다..
전자소자의 방열모듈에서 두께 방향의 열방출 특성에 대한 중요성이 증가하고 있다. 금속과 금속의 본딩 및 유전체와 금속의 본딩 구조를 갖는 2가지 종류의 2층 층상재료를 제조한 후 두께 방향으로 열확산계수를 측정하였다. 금속(STS439)과 금속(Al6061)으로 이루어진 2층 층상재료에서는 섬광법(LFA)으로 열확산계수를 측정했을 때, 열흐름의 방향을 반대로 변화시켜도 열확산계수의 변화가 없었다. 그런데, 유전체(AlN-Polymer)와 금속(Al6061)의 2층 층상재료에서는 열흐름의 방향을 반대로 인가하였을 때 열확산계수는 17.5% 정도 다르게 나타났다. 유전체와 금속의 단면구조를 갖는 2층 층상재료에서, 금속에서 유전체 방향으로 측정한 열확산계수가 유전체에서 금속 방향으로 측정한 열확산계수에 비해 17.5% 작게 나타난 이유는, 금속내의 전자가 갖고 있던 에너지가 유전체 쪽으로 전달되기 위해서는 계면 주변에서 포논의 에너지 형태로 변환될 때 저항이 생기기 때문이다.
We investigated the dependence of the various annealing conditions and thickness ($6\sim45nm$) of the Ti-doped $Al_2O_3$ coating on the electrochemical properties and the capacity fading of Ti-doped $Al_2O_3$ coated $LiCoO_2$ films. The Ti-doped-$Al_2O_3$-coating layer and the cathode films were deposited on $Al_2O_3$ plate substrates by RF-magnetron sputter. Microstructural and electrochemical properties of Ti-doped-$Al_2O_3$-coated $LiCoO_2$ films were investigated by transmission electron microscopy (TEM) and a dc four-point probe method, respectively. The cycling performance of Ti-doped $Al_2O_3$ coated $LiCoO_2$ film was improved at higher cut-off voltage. But it has different electrochemical properties with various annealing conditions. They were related on the microstructure, surface morphology and the interface condition. Suppression of Li-ion migration is dominant at the coating thickness >24.nm during charge/discharge processes. It is due to the electrochemically passive nature of the Ti-doped $Al_2O_3$ films. The sample be made up of Ti-doped $Al_2O_3$ coated on annealed $LiCoO_2$ film with additional annealing at $400^{\circ}C$ had good adhesion between coating layer and cathode films. This sample showed the best capacity retention of $\sim92%$ with a charge cut off of 4.5 V after 50 cycles. The Ti-doped $Al_2O_3$ film was an amorphous phase and it has a higher electrical conductivity than that of the $Al_2O_3$ film. Therefore, the Ti-doped $Al_2O_3$ coated improved the cycle performance and the capacity retention at high voltage (4.5 V) of $LiCoO_2$ films.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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