Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.162-163
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2007
The dry etching of Si was investigated using direct dc biasing to the Si substrate. The TCP type etching system with a feed-through for applying a dc bias was used in the etching. The applied dc bias and ICP power was varied to examine the effect on the etching at the fixed chamber pressure and $SF_6$ flow rate of 10 mTorr and 10 sccm during. When the plasma was generated at ICP power of 100 W, the etch rate of Si was increased with the bias for the biased samples. However, the etching of Si for the non-biased sample was enhanced for the increased ICP power.
In this study, the vertical aligned carbon nanotubes was synthesized by DC bias-assisted Inductively Coupled Plasma Hot-Filament Chemical Vapor Deposition (ICPHFCVD). The substrate used CNTs growth was Ni(300 ${\AA}$)/Cr(200 ${\AA}$)-deposited one on glass by RF magnetron sputtering. R-F, DC bias and filament power during the growth process were 150 W, 80 W, 7∼8 A, respectively. The grown CNTs showed hollow structure and multi-wall CNTs. The top of grown CNT was found to Ni-tip that the CNT end showed to metaltip. The graphitization and field emission properties of grown was better than grown CNTs by ICPCVD. The turn-on voltage of CNT grown by DC bias-assisted ICPHFCVD showed about 3 V/${\mu}m$.
The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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v.22
no.7
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pp.683-693
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2011
In this paper, a design of high current and broad-band microwave bias-tee was presented for a stable bias of a high power amplifier. An input impedance of bias-tee should be shown to 50 ohm with the wideband in order to be stably-biased the amplifier. For this design of the bias-tee, a capacitor of bias-tee for a DC block was designed with a high wide-band admittance by a parallel sum of capacitors, and a inductor for a RF choke and a DC feeding was designed with a high wide-band impedance by a series sum of inductors. As this inductor and capacitor for the sum has each SRF, band-limitation of lumped element was driven from SRF. This limitation was overcome by control of a resonance's quality factor with adding a resistor. 1608 SMD chips for design's element was mounted on the this pattern for the designed bias-tee. The fabricated bias-tee presented 10 dB of return loss and wide-band about 50 ohm input impedance at 10 MHz~10 GHz.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.17
no.7
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pp.738-746
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2004
Recently zinc oxide(ZnO) has emerged as one of the most promising transparent conducting films with a strong demand of low cost and high performance optoelectronic devices, ZnO film has many advantages such as high chemical and mechanical stabilities, and abundance in nature. In this paper, in order to obtain the excellent transparent conducting film with low resistivity and high optical transmittance for Plasma Display Pannel(PDP), aluminium doped zinc oxide films were deposited on Corning glass substrate by dc magnetron sputtering method. The effects of the discharge power and doping amounts of $Al_2$$O_3$ on the electrical and optical properties were investigated experimentally. Particularly in order to lower the electrical resistivity, positive and negative bias voltages were applied on the substrate, and the effect of bias voltage on the electrical properties of ZnO:Al thin film were also studied and discussed. Films with lowest resistivity of $4.3 \times 10 ^{-4} \Omega-cm$ and good transmittance of 91.46 % have been achieved for the films deposited at 1 mtorr, $400^{\circ}C$, 40 W, Al content of 2 wt% with a substrate bias of +30 V for about 800 nm in film thickness.
The Transactions of The Korean Institute of Electrical Engineers
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v.65
no.3
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pp.439-444
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2016
The method for extracting the SPICE model parameter of Schottky diode under DC forward bias is proposed. A method for improving the accuracy of the SPICE model parameter at various temperatures is proposed. Three analysis steps according to the magnitude of the current is used in order to extract the parameters effectively. At each analysis step, initial parameters are calculated by using the current-voltage equations and the Levenberg-Marquardt analysis is proceeded. To verify the validity of the proposed method, the SPICE model parameters for the BAT45 and FSV1045 under DC forward bias is extracted. Schottky diode currents obtained from the proposed method shows the average relative error of 6.1% and 9% compared with the measured data for the BAT45 and FSV1045 sample at various temperatures.
Park, No-Cheol;Ko, Byung-Han;Park, Young-Pil;Ahn, Younggyu
Transactions of the Society of Information Storage Systems
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v.10
no.2
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pp.61-64
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2014
Vibration and acoustic noise arise from the Multilayer Ceramic Capacitor (MLCC) because of the piezoelectric effect of dielectric substance which consists of $BaTiO_3$. However, the phenomenon is not analyzed clearly because the MLCC shows different behavior compare with ordinary piezoelectric substance like PZT. Thus, MLCC was tested under the several DC bias conditions and heat treatment effect was also tested and analyzed in this paper. From the test, MLCC shows not only piezoelectric effect but also another physical phenomenon like electrostriction. Also, it was verified that DC bias affect to the piezoelectric constant of MLCC.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.27
no.5
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pp.317-321
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2014
Hydrothermal synthesis technique could be carried out for growth of ZnO nanowires at relatively low process temperature, and it could be freely utilized with various substrates for fabrication process of functional electronic devices. However, it has also a demerit of relatively slow growth characteristics of the resulting ZnO nanowires. In this paper, an external DC bias of positive and negative 0.5 [V] was applied in the hydrothermal synthesis process for 2~8 [h] to prepare ZnO nanowires on a seed layer of AZO with high electrical conductivity. Growth characteristics of the synthesized ZnO nanowires were analyzed by FE-SEM. Material property of the grown ZnO nanowires was examined by PL analysis. The ZnO nanowires grown with positive bias revealed distinctively enhanced growth characteristics, and they showed a typical material property of ZnO.
The growth of carbon nanotubes (CNTs) was carried out using ratio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (rf PECVD) system equipped with dc bias for the directional growth. Acetylene and ammonia gas were used as the carbon source and a catalyst. The relation between gas flow rate and dc bias on the growth of CNTs was investigated. We studied the relation between emission properties and the directionality of CNTs grown under different dc bias voltage.
In this study mesh-type PECVD system was suggested to minimize the hydrogen concentration. The main structural difference between the triode system and a conventional system is that, a third electrode, a mesh, is inserted between the powered and the ground electrode. We investigated several conditions to compare with conventional PECVD. The main effect of mesh was to minimize the substrate damage by ion bombardment and to enhance the surface reaction to induce hydrogen desorption. It was also found that hydrogen concentration decreased but deposition rate increased as increasing applied bias. Applied DC-bia s enhanced sputtering process. Intense ion bombardment causes the weakly bonded hydrogen or hydrogen-containing species to leave the growing film and increased adatom mobility. Furthermore, addition of hydrogen gas enhance the surface diffusion of adatom.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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