• 제목/요약/키워드: Compound semiconductor fabrication

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화합물 반도체 공장의 통합생산시스템 설계에 관한 연구 (A Design of Integrated Manufacturing System for Compound Semiconductor Fabrication)

  • 이승우;박지훈;이화기
    • 산업경영시스템학회지
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    • 제26권3호
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    • pp.67-73
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    • 2003
  • Manufacturing technologies of compound semiconductor are similar to the process of memory device, but management technology of manufacturing process for compound semiconductor is not enough developed. Semiconductor manufacturing environment also has been emerged as mass customization and open foundry service so integrated manufacturing system is needed. In this study we design the integrated manufacturing system for compound semiconductor fabrication t hat has monitoring of process, reduction of lead-time, obedience of due-dates and so on. This study presents integrated manufacturing system having database system that based on web and data acquisition system. And we will implement them in the actual compound semiconductor fabrication.

화합물반도체공장의 생산정보수집시스템 (Data Acquisition System of Compound Semiconductor Fabrication)

  • 이승우;송준엽;이화기
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2006년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.335-336
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    • 2006
  • Compound semiconductor manufacturing environment also has been emerged as mass customization and open foundry service so integrated manufacturing system is needed. In this study, we design data acquisition system of compound semiconductor fabrication that has monitoring and control of process. The developed DAS is consisted of key-in system inputted by operator and automatic acquisition system by GEM protocol. And we implemented them in the actual compound semiconductor. It is expected that using developed system would offer precise process information to buyer, reduce a lead-time, and obey a due-dates and so on.

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양방향 송수신모듈 제작을 위한 광결합계수의 계산 및 측정 (Calculation and measurement of optical coupling coefficient for bi-directional tancceiver module)

  • 김종덕;최재식;이상환;조호성;김정수;강승구;이희태;황남;주관종;송민규
    • 한국광학회지
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    • 제10권6호
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    • pp.500-506
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    • 1999
  • 레이저 다이오드와 수신광검출기가 집적된 소자를 V-홈을 가진 실리콘 광학벤치에 flip-chip 본딩하고, 경사면을 가진 하나의 단일모드 광섬유와 수동정렬하는 방법을 사용하여 가입자망을 위한 저가의 양방향 송수신 모듈을 설계, 제작하였다. 광섬유의 단면 경사각에 따른 송신광결합 효율과 수신광결합 효율사이의 병목점을 찾기 위해 Gaussian빔 모델을 사용하여 수평정렬거리, 광섬유 단면 경사각, 수직정렬오차등의 변수에 따른 광결합계수를 계산함으로써, 최적의 광정렬조건을 예측하였다. 또한 실리콘 광학벤치에서 광결합효율을 측정하여 광섬유의 수직정렬오차에 따른 광결합계수의 감소가 광섬유의 경사각에 의해 보상될 수 있다는 계산결과의 타당함을 확인하였다. 실제의 sub-module 제작 및 광결합 실험에서 송신빔이 광섬유 단면에 반사되어 PD로 입사되는 것을 최소화하기 위하여 광섬유 단면을 경사절두원추형으로 제작함으로써 PD의 수신 잡음을 $30mu$m 이상의 정렬거리에서 -35dB이하로 유지할 수 있었다. 같은 조건에서 단면 경사각이 $12^{\circ}$인 광섬유에 의해 -12.1dB의 송신출력과 0.2A/W의 responsivity를 얻을 수 있었다.

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III-V 화합물 반도체 마이크로머시닝을 위한 InP를 기반으로 한 미세구조의 제조에 관한 연구 (Fabrication of InP-Based Microstructures for III- V Compound Semiconductor Micromachining)

  • 심준환;노기영;이종현;황상구;홍창희
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제4권5호
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    • pp.1151-1156
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    • 2000
  • 본 논문에서는 III-V 화합물 반도체 마이크로머시닝을 위한 InP를 기반으로한 미세구조의 제조에 관하여 보고한다. InP/InGaAsP/InP 구조를 성장시키기 위하여 수직 LPE 시스템을 사용하였다. 성장된 InGaAsP층의 두께는 $0.4\mum$이고, InP top-layer의 두께는 $1\mum$이었다. InGaAsP 미세구조의 제조는 front-side 벌크 마이크로 머시닝으로 이루어졌다. 실험결과에서 <100> 방향으로 놓인 빔의 에칭이<110>와 <110> 방향에서의 에칭보다 더 빠르기 때문에 빔은 <100> 방향으로 정렬되어야 함을 보였다.

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III-V 화합물 반도체 마이크로머시닝을 위한 InP를 기반으로 한 미세구조의 제조에 관한 연구 (Fabrication of InP-Based Microstructures for 111- V Compound Semiconductor Micromachining)

  • 노기영;이종현;김정호;황상구;홍창희;심준환
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2000년도 춘계종합학술대회
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    • pp.447-450
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    • 2000
  • 본 논문에서는 III-V 화합물 반도체 마이크로머시닝을 위한 InP를 기반으로한 미세구조의 제조에 관하여 보고한다. InP/InGaAsP/1nP 구조를 성장시키기 위하여 수직 LPE 시스템을 사용하였다. 성장된 InGaAsP층의 두께는 0.4$\mu\textrm{m}$이고, InP top-layer의 두께는 l$\mu\textrm{m}$이었다. InGaAsP 미세구조의 제조는 front side 벌크 마이크로머시닝으로 이루어졌다. 실험결과에서 <110> 방향에서 빔의 측면에칭이<100> 방향에서의 에칭보다 더 빠르기 때문에 빔은 <110> 방향으로 정렬되어야 함을 보였다.

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반도체 제조 공정에서 발생 가능한 부산물 (Exposure Possibility to By-products during the Processes of Semiconductor Manufacture)

  • 박승현;신정아;박해동
    • 한국산업보건학회지
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    • 제22권1호
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    • pp.52-59
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    • 2012
  • Objectives: The purpose of this study was to evaluate the exposure possibility of by-products during the semiconductor manufacturing processes. Methods: The authors investigated types of chemicals generated during semiconductor manufacturing processes by the qualitative experiment on generation of by-products at the laboratory and a literature survey. Results: By-products due to decomposition of photoresist by UV-light during the photo-lithography process, ionization of arsine during the ion implant process, and inter-reactions of chemicals used at diffusion and deposition processes can be generated in wafer fabrication line. Volatile organic compounds (VOCs) such as benzene and formaldehyde can be generated during the mold process due to decomposition of epoxy molding compound and mold cleaner in semiconductor chip assembly line. Conclusions: Various types of by-products can be generated during the semiconductor manufacturing processes. Therefore, by-products carcinogen such as benzene, formaldehyde, and arsenic as well as chemical substances used during the semiconductor manufacturing processes should be controlled carefully.

Electrochemical Synthesis of Compound Semiconductor Photovoltaic Materials

  • 유봉영;전병준;이동규
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2010년도 춘계학술발표대회
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    • pp.11.1-11.1
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    • 2010
  • As one of the non-vacuum, low temperature fabrication route, electrochemical synthesis has been focused for pursuing the cost-effective pathway to produce high efficiency photovoltaic devices. Especially the availability to form the thin film structure on flexible substrate would be the great advantage of electrochemical process. The successful synthesis of the most favorable absorber materials such as CdTe and CIGS has been reported by many researchers, however, the efficiency of electrochemically synthesized could not exceed that from vacuum process, because of microstructural controllability and compositional variation on devices. In this study, we represent the effect of process parameters on the microstructure and composition of compound semiconductor during the synthesis, and propose the photovoltaic characteristics of electrochemically synthesized solar cells.

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Research Infrastructure Foundation for Core-technology Incubation of Radiation Detection System

  • Kim, Han Soo;Ha, Jang Ho;Kim, Young Soo;Cha, Hyung Ki
    • 방사선산업학회지
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    • 제6권1호
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    • pp.67-73
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    • 2012
  • The development of radiation detection systems mainly consist of two parts-radiation detector fabrication including material development, and its appropriate electronics development. For the core-technology incubation of a radiation detection system, radiation fabrication and an evaluation facility are scheduled to be founded at the RFT (Radiation Fusion Technology) Center at KAERI (Korea Atomic Energy Research Institute) by 2015. This facility is utilized for the development and incubation of bottleneck-technologies to accelerate the industrialization of a radiation detection system in the industrial, medical, and radiation security fields. This facility is also utilized for researchers to develop next-generation radiation detection instruments. In this paper, the establishment of core-technology development is introduced and its technological mission is addressed.

다층 리지스트 및 화합물 반도체 기판 구조에서의 전자 빔 리소그래피 공정을 위한 몬테 카를로 시뮬레이션 모델 개발 (A Monte Carlo Simulation Model Development for Electron Beam Lithography Process in the Multi-Layer Resists and Compound Semiconductor Substrates)

  • 손명식
    • 한국진공학회지
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    • 제12권3호
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    • pp.182-192
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    • 2003
  • 밀리미터파 대역용 고속 PHEMT 소자 제작 및 개발을 위하여 다층 리지스트 및 다원자 기판 구조에서 전자빔 리소그래피 공정을 분석할 수 있는 새로운 몬테 카를로 시뮬레이션 모델을 개발하였다. 전자빔에 의해 다층 다원자 타겟 기판 구조에 전이되는 에너지를 정확하고 효율적으로 계산하기 위하여 다층 리지스트 및 다층 다원자 기판 구조에서 시뮬레이션 가능하도록 새로이 모델링하였다. 본 논문에서 제안 개발된 모델을 사용하여 PHEMT 소자의 전자빔 리소그래피에 의한 T-게이트 형성 공정을 시뮬레이션하고 SEM측정 결과와 비교 분석하여 타당성을 검증하였다.

${Hg}_{1-x}{Cd}_{x}$Te MIS 소자의 C-V 특성 계산 (A Calculation of C-V Characteristics for ${Hg}_{1-x}{Cd}_{x}$Te MIS Device)

  • 이상돈;김봉흡;강형부
    • 대한전기학회논문지
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    • 제43권3호
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    • pp.420-431
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    • 1994
  • The HgCdTe material, which is II-VI compound semiconductor, is important materials for the fabrication of the infrared detectros. To suggest the model of accurate MIS C-V calculation for narrow band gap semiconductors such as HgCdTe, non-parabolicity from k.p theory and degeneracy effect are considered. And partially ionized effect and compensation effect which are material's properties are also considerd. Especially, degenerated material C-V characteristics from Fermi-Dirac statistics and exact charge theory are presented to get more accurate analysis of the experimental results. Also the comparison with calculation results between the general MIS theory from Boltzmann appoximation method and this model which is considered the narrow band gap semiconductor properties, show that this model is more useful theory to determination of accurate low and high frequency C-V characteristics.

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