Atmospheric samples were conducted from September 2001 to July 2002 with GPS-l PUF sampler in rural site to concentration distributions of gas/particle PCBs and to calculate dry deposition flux of PCBs. $\Sigma$PCBs concentrations of gas/particle PCBs were 59.29$\pm$48.83, 6.56$\pm$6.59 pg/㎥, respectively. Gas contribution (%) of total PCBs (gas + particle) was 90% which existed gas phase in the atmosphere. The particle contribution (%) of PCB congeners increased relatively more of the less volatile congeners with the highest chlorine number. The correlation coefficients (r) between total PCBs and temperature ($^{\circ}C$) showed negative correlation in - 0.62 (p<0.0l) for particle phase, positive correlation in 0.63 (p<0.01) for gas phase. In other word, particle phase PCBs is enriched in colder weather which could be due to greater in corporation of condensed gas phase at low temperature. The calculated dry deposition of total PCBs (gas + particle) was 0.008, 0.008 $\mu\textrm{g}$$m^{-2}$ da $y^{-l}$ which showed maximum dry deposition flux in December, minimum data in July Bs in the atmosphere. The calculated dry deposition fluxes of total PCBs were influenced by particle phase PCBs even though PCBs in the atmosphere were present primarily in the gas phase.e.
To prolong the shelf-life of strawberry, samples were treated with gel packs containing slow-released chlorine dioxide($ClO_2$) gas at 3~7 ppm for 6 days at room temperature. The weight loss and decay ratio as well as changes in pH, color and texture properties of the treated samples were investigated. The weight of the control and $ClO_2$ gas treated samples decreased slightly, but the weight of the control changed faster than those of the $ClO_2$ gas treated samples during the storage period. The decay ratio of control was higher than those of the $ClO_2$ gas treatments since 4 days of storage. The pH and acidity in the control and in the $ClO_2$ gas treated samples were no differences during storage period. The lightness of strawberry decreased during storage, but there was no difference in lightness among the treatments even when storage time was extended. The redness and yellowness of the control showed higher change than those of the $ClO_2$ gas treatments during 6 days. The firmness of the control changed more rapidly than those of the $ClO_2$ gas treatments during 6 days. Especially, the samples treated 3 and 5 ppm $ClO_2$ gas were the least changed. And the scores for appearance, firmness and overall acceptance control and 7 ppm $ClO_2$ gas treatment decreased more rapidly than those of 3 and 5 ppm treatment.
수출용 냉동딸기 제조 시 미생물학적 안전성 확보를 위한 수단으로 이산화염소수와 acetic acid 병합처리를 최적 비가열 전처리 기술로써 적용하여 -20, -70, $-196^{\circ}C$로 냉동한 후 미생물 수, 품질변화 및 관능평가를 조사하였다. 냉동방법 및 세척 처리에 따른 색도 차이는 나타나지 않았고, 비타민 C 함량은 $-70^{\circ}C$ 냉동에서 35.33 mg/100 g FW로 가장 대조구와 유사하였으며, drip loss도 $-70^{\circ}C$ 냉동이 14.39%로 가장 낮게 나타났다. 관능평가 역시 $-70^{\circ}C$ 냉동이 -20, $-196^{\circ}C$ 냉동보다 높은 점수를 받았으며, 세척처리는 비타민 C 함량, drip loss 및 관능평가에 큰 영향을 끼치지 않는 것으로 나타났다. 또한, 냉동딸기에 50 ppm 이산화염소수와 1% acetic acid를 병합 처리하여 냉동 후 미생물 수 변화를 측정한 결과, 냉동 전과 같이 병합처리 된 딸기 시료에서 미생물이 검출되지 않았다. 따라서 저장성이 높은 수출용 냉동딸기 생산을 위해서는 gas nitrogen convection chamber를 이용한 $-70^{\circ}C$에서의 급속냉동 처리가 보다 효과적인 냉동방법이며, 냉동 처리만으로는 미생물 제어가 어렵기 때문에 냉동 전 비가열 전처리를 통해서 냉동딸기의 미생물학적 안전성을 확보해야 한다고 판단된다.
In most productive facility of pharmaceutical companies, the fumigation using formaldehyde gas has been put into operation. Because formaldehyde gas is so bactericidal as to sterilize bacterial spore which can not be sterilized with usual disinfectants, it has been used for fumigation in many facilities such as facility of experimental animals, research institute and productive facility of pharmaceutical companies which are required to be high level of biological clean. However, the use of formaldehyde is recently under the strict management because of its causing of sick house and carcinogenesis. We introduce the conditions of sterilization using formaldehyde gas, the examples of sterilization using formaldehyde gas in a pharmaceutical manufacture and the problems of use of formaldehyde against environments and health. Further, we describe the characteristics and future subjects of the sterilization method using gasified oxidants such as hydrogen peroxide, peracetic acid and chlorine oxide.
In this study, chlorine(Cl)-based gas chemistry is generally used to etching for AlCu films metallization. The corrosion phenomena of AlCu films were examined with XPS (X-ray photoelectron spectroscopy), SEM (Scanning electron microscopy), and TEM (Transmission electron microscopy). SF$\sub$6/ plasma treatment subsequent to the etch process prevents the corrosion effectively in the pressure of 300 mTorr. It is found that the chlorine atoms on the etched surface are not substituted for fluorine atoms during SF$\sub$6/ treatment, but a passivation layer on the surface by fluorine-related compounds would be formed. The passivation layer prevents the moisture penetration on the SF$\sub$6/ treated surface and suppresses the corrosion successfully.
Kim, Nam-Hoon;Shin, Sung-Wook;Bin, Shin-Seok;Yu chang-Il kim;Chang, Eui-Goo
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제1권2호
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pp.1-6
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2000
This article presents the experiments and considerations possible about gate etching in polysilicon when oxygen gas is added in chamber, We propose the novel study with optical emission spectroscopy in polysilicon etching. It is shown that added oxygen gases play an important role in enhencement of density in chlorine gases as a scavenger of silicon from SiCl$\_$x/. And a small amount of Si-O bonds are deposited and then the deposited thin film protect silicon dioxyde against reaction chlorine with silicon in SiO$_2$. Consequently, we can improve the selectivity of polysilicon the silicon dioxide, which is clearly explained in this model.
Etch characteristics of SF6/CI2 electron cyclotron resonance (ECR) plasmas have been investigated. Surface reaction of gas plasma with polysilicon was also analysed using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). At the same time, the relationship between surface reaction and the etched profile of polysilicon was examined using XPS. The etch rate of polysilicon and oxide increases with increasing flow rate of SF6 in the SF6/CI2 gas mixture, and tis selectivity also increase also increase. It was also found that as increasing flow rate of SF6 in the SF6/CI2 gas mixture, the atomic% of chlorine detected at surface region decrease, but F and S contents increase. At the same time, when the mixing ratio of SF6 gas increases, the anisotropy of etched polysilicon is sharply decreased in the 0%~10% range of the SF6 mixing ratio, but is rarely varied in the range over 10%, in spite of the large variations in flow rates. It can be explained that the bonding of S-Si due to SiSx(x$\leq$2) compound formed on the etched surface suppress the formation of Si-Cl and 'or Si-F bonding in the silicon etching.
Jeon, Min Ku;Kim, Sung-Wook;Lee, Sang-Kwon;Choi, Eun-Young
방사성폐기물학회지
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제18권3호
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pp.355-362
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2020
The corrosion behavior of the Inconel X-750 alloy was investigated for its potential application under a Cl2-O2 mixed gas flow in an Ar atmosphere. The corrosion rate was found to be negligible at temperatures up to 400℃ under a flow rate of 30 mL·min-1 Cl2 + 170 mL·min-1 Ar, whereas an exponential increase was observed in the corrosion rate at temperatures greater than 500℃. The suppression of the corrosion reaction due to the presence of O2 was verified experimentally at flow rates of 30 mL·min-1 Cl2 (4.96 g·m-2·h-1), 20 mL·min-1 Cl2 + 10 mL·min-1 O2 (2.02 g·m-2 ·h-1), and 10 mL·min-1 Cl2 + 20 mL·min-1 O2 (1.34 g·m-2·h-1) under a constant Ar flow rate of 170 mL·min-1 at 600℃ for 8 h. The surface morphology analysis results revealed that porous surfaces with tunnel-type holes were produced under the Cl2-O2 mixed-gas condition. Furthermore, the effects of the Cl2 flow rate on the corrosion rate were investigated, indicating that its impact was negligible within the range of 5-30 mL·min-1 Cl2 at 600℃.
알루미늄과 알루미늄 합금 제품의 고급화로 완벽한 알루미늄 용탕의 탈 가스 처리가 요구되고 있다. 탈 가스 처리를 위한 기존의 방법을 보면, 알루미늄 용탕 파우더와 약품 공급기로 이젝선하는 방법과 가스 취입 관을 사용하여 아르곤가스와 질소 또는 염소가스를 투입하는 방법 등이 사용되고 있다. 그러나 이 방법들은 작업도 어렵고, 염소와 불화물질 유해가스가 대단히 많이 발생하여 공해문제를 유발하는 문제점이 있으며 효과도 일정하지 않고, 과도한 처리시간으로 작업능률이 낮아지는 문제점도 있다. 가장 치명적인 문제점은 알루미늄 용탕과 약품의 반응으로 인한 많은 양의 찌꺼기의 생성과 더불어 금속의 손실 및 내화재의 수명감소를 야기하는 것이다. 이러한 문제점을 개선하기 위하여 본 연구에서는 기존에 알루미늄 연속제조를 위해 6단계 공정을 거처야 생산이 가능했던 부분을 이번에 개발한 3가지 공정만으로도 생산이 가능하게 알루미늄 연속 주조의 용탕과 탈 가스 장치의 일체화에 통한 기술을 개발에 관한 연구이다.
To prolong the shelf-life of chicken breast meat, samples were treated with gel packs containing slow-released chlorine dioxide ($ClO_2$) gas at 7~15 ppm for eight days at $4^{\circ}C$. The microbial, physicochemical properties and sensory evaluation of the treated samples were investigated. The total number of bacteria in the control increased during storage and showed 6.78 log CFU/g on the 8th day of storage, but $ClO_2$ gas treatments showed 6.24~6.58 log CFU/g at the same time. The initial pH of chicken breast meat was 6.00 and gradually increased during storage. And $ClO_2$ gas treatments did not show any significant difference from the control during storage period, but maintained a generally lower pH than that of the control. The lightness, redness, and yellowness during storage were not significantly different between the control and the 7~10 ppm $ClO_2$ gas treatments. However, as the storage period was increased, the redness of 15 ppm $ClO_2$ gas treatment was reduced. The cooking loss and shear force were not different between the control and $ClO_2$ gas treatments during the storage period. Volatile basic nitrogen (VBN) increased in the control from the 6th day of storage and 23.80 mg% in the 8th day of storage. However, VBN of $ClO_2$ treatments showed lower than that of the control. In the change of sensory evaluation during storage, 10 ppm $ClO_2$ treatment showed the highest preference in odor, appearance and overall acceptance during storage period.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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