• 한국인쇄학회지
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• 제20권2호
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• pp.131-140
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• 2002

Chemically amplified deep UV(CA-DUV) resists are typically based on a combination of an acid labile polymer and a photoacid generator(PAG) but acid amplification type photoresist is formulated by addition of the acid amplifiers to chemically amplified resist system(CAPs). We developed acid amplifiers base on cyclohexanediol such as 1-methacryloyloxy-4-tosyloxy cyclohexane(MTC) and poly(MTC$_{10}$-co-tBMA$_{90}$)(P-1) to enhance photosensitivity. P-1 is a copolymer of tert-butyl methacrylate and MTC as a positive working photoresist based on polymeric acid amplifier in order to enhance photosensitivity and simplify the process of fomulating a photoresist. P-1 exhibited 2X higher photosensitivity compared with PtBMA. The acid amplifiers showed reasonable thermal stability for resist processing temperature and higher photosensitivity compared with chemically amplified resist.

• 통합자연과학논문집
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• 제2권4호
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• pp.252-264
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• 2009

Lithographic data obtained from PHS(polyhydroxy styrene) having various functionalities were investigated by using a photoacid generator based on diazo and onium type. Chemically amplified photoresist based on the KrF type photoresist was developed by using a photoacid generator and multi-functional resin. Thermal stability for the photoacid generator showed that the increase of loading amount of photoacid generator resulted in the decrease of glass transintion temperature (Tg). The photoacid generators having methyl, ethyl, or propyl group in their cationic structure produced T-top structure in pattern profile due to the effect of acid diffusion during the generation of acid in the resist. The increase of carbon chain length in the anionic structure of photoacid generators resulted in lower pattern resolution due to the interruption of acid diffusion.

• 공업화학
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• 제16권5호
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• pp.660-663
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• 2005

새로운 산증식제를 개발하기 위하여 2-hydroxyphenyl-4-methylbenzenesulfonate (1), 3-hydroxyphenyl-4-methylbenzene-sulfonate (2), 4-hydroxyphenyl-4-methylbenzenesulfonate (3)가 우수한 열적 성질을 갖는 방향족 산증식제로서 합성되었다. 이러한 새로운 산증식제들은 광산발생제로부터 생성된 소량의 산에 의해 자동촉매반응으로 p-톨루엔술포산을 생성하였다. 이러한 방향족 술포산 에스터들은 poly(tert-butyl methacrylate, PtBMA) 필름에서 우수한 열적 안정성을 보였고 감도증진제로서 작용하는 최초의 방향성 산증식제임이 증명되었다. 화학 증폭형 포토레지스트에 합성한 방향족 산중식제를 첨가한 경우에 감도가 3~6배 정도 증진되었다.

• 대한화학회지
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• 제46권5호
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• pp.437-471
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• 2002

포토레지스트의 감도 증진은 광산 발생제로부터 발생되는 산에 의해 자동촉매분해가 일어나는 산 증식제를 화학 증폭형 포트레지스트에 첨가함으로써 얻을 수 있다. 본 연구에서는 이소프로필리덴 디시클로헥산올의 p스티렌술폰산 유도체를 산 증식제로 합성되고 그 성능을 평가하였다. 이러한 산 증식제로 합성한 4-hydroxy-4`-p-styrensulfonyloxy isopropylidene dicyclohexane(1), 4,4`-di-styrenesulfonyloxy isopropylidene dicyclohexane(2) 그리고 4-p-styrene-sulfonyloxy-4`-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane(3)는 레지스트 공정온도에 대하여 충분한 열적 안정성을 나타내었다. 또한 이러한 산 증식제를 사용한 경우에 광산 발생제만 사용한 poly(tert-butyl methacrylate)film에 비교하여 2배에서 12배 정도의 감도 증진이 일어나 광화상 제조에 실용적으로 응용 할 수 있음을 확인하였다.

• 공업화학
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• 제16권2호
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• pp.262-266
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• 2005

대표적인 지방족 산증식제인 4-hydroxy-4'-p-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane을 산에 민감한 고분자인 poly[tert-butyl methacrylate] (pTBMA), poly[tetrahydropyranylmethacrylate] (pTHPMA) 및 poly[tert-butoxycarbonyloxystyrene] (pTBOCST) 수지에 첨가하여 열적 안정성과 감도 증진의 관점에서 산증식제의 효과를 비교하였다. 산증식제는 pTBMA 또는 pTBOCST 필름에서는 $120^{\circ}C$에서 20 min까지 안정하였으며, pTHPMA 필름에서는 5 min까지 안정하였다. 산증식제를 첨가한 레지스트의 감도 증진효과는 pTBMA는 4배, pTHPMA는 2배 정도 증진되었지만, pTBOCST의 경우는 감도 증진효과가 미미하였다. 이를 통하여 산증식제의 감도 증진효과와 열적 안정성은 수지의 종류에 따라 다르게 나타나는 것을 알 수 있었다.