1 |
S. W. Park, K. Arimitsu, S. G. Lee, and K. Ichimura, Chem. Lett.. 29, 1036 (2000)
|
2 |
K. Ichimura, K. Arimitsu, and K. Kudo, Chem. Lett., 24, 551 (1995)
DOI
|
3 |
J. M. J. Frechet, Eva Eichler, H. Ito, and C. G. Willson, Polymer, 24, 995 (1983)
DOI
ScienceOn
|
4 |
W. Conley, C. Babcock, N. Farrar, H. Y. Liu, B. Peterson, and K. Taira, Proc. SPlE, 3333, 357 (1998)
|
5 |
E. J. Lee, K. A. Kuen, and Y. T. Jeong, J. Kor. Printing. Soc., 20, 91 (2002)
|
6 |
E. Reichmanis, F. M. Houlihan, O. Nalamasu, and T. X. Neenan, Chem. Mater., 3, 394 (1991)
DOI
|
7 |
G. G. Barclay, D. R. Medeiros, and R. F. Sinta, Chem. Mater., 7, 1315 (1995)
DOI
ScienceOn
|
8 |
E. J. Lee, K. I. Hong, K. T. Lim, Y. S. Jeoung, S. S. Hong, and Y. T. Jeong, J. Kor. Chem. Soc., 46, 5 (2002)
|
9 |
E. J. Lee, K. I. Hong, Y. S. Jeoung, K. T. Lim, and Y. T. Jeong, J. Kor. Soc. Imaging Sci. Technol., 9, 27 (2003)
|
10 |
G. N. Taylor, L. E. Stillwagon, and F. M. Houlihan, Positive, Chem. Mater., 3, 1031 (1991)
DOI
|
11 |
E. J. Lee, J. Y. Park, and Y. T. Jeong, J. Kor. Soc. Imaging Sci. Technol., 7, 110 (2001)
|
12 |
W. S. Hwang, R. E. Kwong, and W. Moreau, Proc. SPIE, 3999, 591 (2000)
|