Effects of Flow on the Chemical Vapor Deposition of Si in System SiH$_4$ -H$_2$
(SiH$_4$ -H$_2$ 계에서 유체유동이 Si의 화학증착에 미치는 영향)
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- Journal of Surface Science and Engineering
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- v.23 no.3
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- pp.160-166
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- 1990