• 제목/요약/키워드: C-AFM

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DC 마그네트론 스파터링의 비대칭 자석강조에 의한 ITO 박막 제조 및 물성에 관한 연구 (A Study on Material Properties and Fabrication of ITO Thin Films by Unbalanced-Magnet Structure in Magnetron Sputtering)

  • 신성호;김현후;박광자
    • E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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    • 제10권7호
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    • pp.700-705
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    • 1997
  • Transparent conducting indium tin oxide (TC-ITO) thin films are deposited on soda lime glass by a dc magnetron sputtering technique having the unbalanced-magnet structure in order to improve the electrical/material characteristics and to avoid the surface damages. The material properties are measured by the x-ray diffractometer (XRD) and atomic force microscope (AFM). The (400) peak as the preferred orientation of <100> direction for ITO thin films is stabilized with the increase of substrate temperature. The surface roughness estimated by AFM 3D image at the substrate temperature of 40$0^{\circ}C$ is extremely uniform. The best resistivity of ITO films (5500 $\AA$ thick) at 40$0^{\circ}C$ is about 1.3$\times$10$^{-4}$ $\Omega$cm on the position of 4 cm from substrate center.

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광결정 도파로용 나노 마스터 제작 (Nano-master fabrication for photonic crystal waveguides)

  • 최춘기;한상필;정명영
    • 한국진공학회지
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    • 제12권4호
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    • pp.288-292
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    • 2003
  • Air hole 구조를 갖는 2차원 고분자 광결정 도파로를 나노 임프린트 방법으로 제작하기 위하여, e-beam lithography와 ICP etching 공정을 이용하여 기둥 구조를 갖는 실리콘 나노 마스터를 제작하였다. Air hole 구조를 갖는 광결정 구조를 얻기 위해, 실리콘 마스터 기둥의 형태를 4각형, 6각형, 12각형 및 원으로 설계하였다. 제작된 기둥의 직경과 구조를 CD-SEM과 SPM-AFM을 이용하여 측정하였으며, dose가 432 $\mu$C/$\textrm{cm}^2$일 때 최적의 dose임을 확인하였다.

전자빔 직접 조사법을 이용한 AFM용 나노 프로브의 제작 (Fabrication of Nano Probe for Atomic Force Microscopy Using Electron Beam Direct Deposition Method)

  • 박성확;이인제;김용상;성승연;김재완;최영진;강치중;김성현;신진국
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2006년도 제37회 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1649-1650
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    • 2006
  • 반도체 소자의 선폭이 나노미터 스케일로 진입함에 따라 소자의 물리적 특성을 나노미터 스케일에서 정밀하게 측정하고자 하는 요구가 증대되고 있다. Atomic Force Microscopy (AFM)은 나노미터 이하의 해상도를 가지고 물질 표면의 기하하적, 전기적 특성 등을 측정할 수 있으므로 나노소자 연구에 필수적인 도구가 되었다. 그러나 AFM은 낮은 측정속도와 탐침의 기하학적 형상에 의한 AFM 영상의 왜곡 등과 같은 치명적인 단점도 가지고 있다. AFM의 낮은 측정 속도를 개선하기 위해서 진보된 마이크로머시닝기술을 이용하여 캔틸레버의 크기를 줄이거나 캔틸레버 위에 박막 구동기를 집적시키는 등의 노력이 진행되고 있으나, 이 경우 전통적인 식각 공정을 이용하여 캔틸레버 위에 tip을 형성하는 것이 매우 어렵다. 본 연구에서는 이미 제작된 캔틸레버 위에 전자빔 조사법을 이용하여 탄소상 tip을 직접 성장시킴으로써 전통적인 식각 공정에 비해 매우 간단하고 값싸며, 활용도가 높은 공정을 개발하였다. 탄소상 tip 성장에 필요한 탄소 소스는 dipping 방법을 이용하여 공급하였고, 시분할법을 사용하여 캔틸레버의 원하는 위치에 tip을 성장시킬 수 있었다. 이렇게 제작된 tip은 최대 $5{\mu}m$ 높이까지 가능했으며, 종횡비는 10:1 이상이어서 tip의 형상에 의한 AFM 영상 왜곡 현상을 최소화할 수 있을 것으로 기대된다.

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물성 분석을 통한 Valine 의 여드름균 바이오필름 내부 세균막 형성 억제 연구 (A Study on Inhibition of Bacterial Membrane Formation in Biofilm formed by Acne Bacteria in Valine through Property Analysis)

  • 송상훈;황병우;손성길;강내규
    • 대한화장품학회지
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    • 제47권2호
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    • pp.163-170
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    • 2021
  • 본 연구는 인체 친화적인 소재로 여드름균을 제거하는 기술을 만들기 위해서 진행하였다. 먼저 여드름균을 운모 디스크에 흡착시켜 생장시킨 후 원자현미경을 통해 바이오필름이 제대로 성장하였는지를 확인하였다. 이미지 상으로 형태가 둥글게 변하였고 사이즈도 평균 17% 정도 길어졌으며 물질을 구분하는 공명주파수의 위상 값이 단일값으로 관찰된 것을 볼 때 세균막이 운모디스크 전체를 덮어서 자란 바이오필름을 확인할 수 있었다. 이렇게 바이오필름을 생성시킨 여드름균에 여러 가지 아미노산 50 mM을 각각 처리하여 관찰한 결과 valine, serine, argine, leucine을 처리하였을 때 여드름균의 농도가 감소한 것을 발견하였다. 나노인덴터와 AFM 컨택모드로 스캔을 한 결과 valine (Val)을 처리한 여드름균 바이오필름의 강도가 증가해 있는 것을 확인하였다. 이것은 균을 보호하는 외곽의 세균막이 형성 억제됨으로써 세균막보다 더 높은 강도일 수 있는 균을 측정했기 때문일 수 있다. 여드름균과 Val을 처리한 여드름균에 균과 바이오필름 내부의 세균막을 볼 수 있는 형광물질을 각각 태깅하고 형광 이미지를 관찰한 결과 저농도 Val을 처리한 여드름균에서는 세균막이 관찰되었으나 10 mM 이상의 Val을 처리할 때부터 여드름균의 세균막이 형성 억제됨을 알 수 있었다. 뿐만 아니라 Val 10 mM 이상의 농도에서는 여드름균 전체의 농도도 감소하는 것을 알 수 있었다. 즉, 세균막이 형성 억제됨으로써 약화된 여드름균의 결합력에 의해서 여드름 균의 농도가 감소한 것으로 볼 수 있다. 마침내 Val의 투입은 세균막 생성을 억제함으로써 여드름균을 제거하는 효능이 있음을 확인하였다.

나노 디바이스 응용을 위한 탄소나노튜브 성장 특성 (Growth of Carbon Nanotubes for Nano Device Application)

  • 박용욱;이승대
    • 한국컴퓨터산업학회논문지
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    • 제8권1호
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    • pp.17-22
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    • 2007
  • 본 연구에서는 선택적 영역에서 반도체 성질을 갖는 탄소나노튜브을 합성하기 위해 촉매의 구조 및 형태가 탄소나노튜브의 성장에 미치는 영향을 연구하였다. CVD 방법으로 Fe와 Mo 전이 금속을 알루미나 나노 입자속에 삽입한 액상형태의 촉매구조와 박막형태의 나노 덩어리 Fe 금속박막을 증착한 후 실리콘 산화막$(SiO_2/Si)$ 기판에 $700^{\circ}C$ 온도에서 에틸렌$(C_2H_4)$가스를 사용하여 디바이스 사이에 정렬된 탄소나노튜브의 합성 연구를 수행 하였으며, 탄소나노튜브의 성장특성은 SEM과 AFM을 이용하여 분석하였다.

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스퍼터링법으로 제조된 TaN 박막의 열처리 온도에 따른 전기적 물성에 관한 연구 (Electrical characteristic of RF sputtered TaN thin films with annealing temperature)

  • 김인성;송재성;김도한;조영란;허정섭
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2001년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.1014-1017
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    • 2001
  • In recent years, The tantalum nitride(TaN) thin-film has been developed for the electronic resistor and capacitor. In this papers, The effect of thermal annealing in the temperature range of 300∼700$^{\circ}C$ on the sheet resistor properties and microistructure of tantalum nitride(TaN) thin-film deposited by RF sputtering was studied. XRD(X-ray diffractometer) and AFM were used to observe electrical properties and microstructrue of the TaN film and sheet resistance. The TCR properties of the TaN films were discussed in terms of annealing temperature, ratio of nitrogen, crystallization and thin films surface morphology due to annealing temperature. The leakage current of the TaN thin film annealed 400 $^{\circ}C$ was stabilized in the study. How its was found that the sheet resistance in the polycrystalline TaN thin film decreased with increasing the annealing temperature above 600 $^{\circ}C$ after sudden peak upen 400 $^{\circ}C$.

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열간나노압입공정을 이용한 극미세 점구조체 제작을 위한 플라스틱소재 판의 기계적 특성 조사 (A Study on the Plate-Type Polymer Hyperfine Pit Structure Fabrication and Mechanical Properties Measurement by Using Thermal-Nanoindentation Process)

  • 이은경;강충길
    • 소성∙가공
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    • 제17권8호
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    • pp.633-642
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    • 2008
  • It's important to measure quantitative properties about thermal-nano behavior of polymer for producing high quality components using Nanoimprint lithography process. Nanoscale indents can be used to make the cells for molecular electronics and drug delivery, slots for integration into nanodevices, and defects for tailoring the structure and properties. In this study, formability of polymethylmetacrylate(PMMA) and polycarbonate(PC) were characterized Polymer has extreme variation in thermo mechanical variation during forming high temperature. Because of heating the polymer, it becomes softer than at room temperature. In this case it is particularly important to study high temperature-induced mechanical properties of polymer. Nanoindenter XP(MTS) was used to measure thermo mechanical properties of PMMA and PC. Polymer was heated by using the heating stage on NanoXP. At CSM(Continuous Stiffness Method) mode test, heating temperature was $110^{\circ}C,120^{\circ}C,130^{\circ}C,140^{\circ}C$ and $150^{\circ}C$ for PMMA, $140^{\circ}C,150^{\circ}C,160^{\circ}C,170^{\circ}C$ and $180^{\circ}C$ for PC, respectively. Maximum indentation depth was 2000nm. At basic mode test, heating temperature was $90^{\circ}C$ and $110^{\circ}C$ for PMMA, $140^{\circ}C,160^{\circ}C$ for PC. Maximum load was 10mN, 20mN and 40mN. Also indented pattern was observed by using SEM and AFM. Mechanical properties of PMMA and PC decreased when temperature increased. Decrease of mechanical properties from PMMA went down rapidly than that of PC.