Nano manipulator is used to manufacture Carbon NanoTube(CNT) tips. Using nano manipulator, operator attaches a CNT at the apex of Atomic Force Microscope(AFM) tip, which requires a mastery of mechanics and long manufacture time. Nano manipulator is installed inside a Scanning Electron Microscope(SEM) chamber to observe the operation. This paper presents a control scheme for horizontal axes of nano manipulator via processing SEM image. Edges of AFM tip and CNT are first detected, and the position information so obtained is fed to control horizontal axes of nano manipulator. That is, a visual servoing loop is realized to control the axes more precisely in nano scale.
Depth-sensing indentation is wifely used for evaluation of mechanical properties of thin films. It is generally accepted that the most significant source of uncertainty in nanoindentation measurement is the geometry of the indenter tip. Therefore the successful application of the technique requires accurate calibration of the indenter tip geometry. The direct measurement of geometry of a Berkovich indenter was determined using a atomic force microscope. The indentation geometrical calibration of contact area was performed by analyzing the indenter tip profile. The equations of area functions were proposed for nanoscale thin films..
Tapping mode atomic force microscopy (TM-AFM) utilizes the dynamic response of a resonating probe tip as it approaches and retracts from a sample to measure the topography and material properties of a nanostructure. We present recent results based on numerical techniques that yield new perspectives and insight into AFM. It is compared that the dynamic models including van der Waals and Derjaguin-Muller-Toporov(DMT) or Johnson-Kendall-Roberts(JKR) contact forces demonstrates that periodic solutions can be represented with respect to the approach distance and excitation frequency.
R. Arvind Singh;Yoon, Eui-Sung;Oh, Hyun-Jin;Kong, Ho-Sung
KSTLE International Journal
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제5권1호
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pp.1-6
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2004
Nano-scale studies on adhesion and friction were conducted in Si-wafer (100) using Atomic Force Microscopy (AFM). Glass (Borosilicate) balls of radii 0.32$\mu\textrm{m}$, 1.25$\mu\textrm{m}$, and 2.5$\mu\textrm{m}$, mounted on cantilever (Contact Mode type NPS) were used as tips. Adhesion and friction between Si-wafer and glass tips were measured at ambient temperature (24${\pm}$1$^{\circ}C$) and humidity (45${\pm}$5%). Friction was measured as a function of applied normal load in the range of 0-160 nN. Results showed that, both adhesion and friction increased with the tip radii. Also, friction increased linearly as a function of applied normal load. The effect of tip size on adhesion and friction was explained as the influence of the capillary force exerted by meniscus and that of the contact area on these parameters respectively. The coefficient of friction was estimated in two different ways, as the slope from the plot of friction force against the applied normal load and as the ratio between the friction force and the applied normal load. Both these estimates showed that the coefficient of friction increased with the tip size. Further, the influence of the adhesion force on the coefficient of friction was also discussed.
선폭의 감소와 소자 집적도의 증가로 인하여 향후 현재 사용되고 있는 탑-다운(Top-down) 생산방식에서 바텀-업(Bottomup) 방식의 소자 생산이 예상되고 있으며, 이와 관련된 연구가 활발히 진행 중에 있다. 대표적으로 나노와이어(Nanowire)와 나노벨트(Nanobelt)를 이용한 소자 개발이 한 대안이며, 이러한 소자 개발을 위해 물질의 물성 특성 연구를 위하여 나노인덴터를 이용한 물성 연구가 진행 중이다. 특히 나노인덴터는 나노 크기의 구조물에 대한 연구를 위하여 부가적으로 원자힘현미경(AFM; atomic force microscope) 기능을 제공하며, 이를 통하여 얻어진 표면 이미지를 이용하여 나노 구조물의 정확한 위치에 대한 물성 정보를 제공하게 된다. 그러나 나노인덴터에서 사용되는 팁(tip)은 기존의 원자현미경에서 사용되는 팁에 비하여 상대적 크기가 상당히 큰 특징이 있어 나노인덴터에 의한 표면 이미지에는 상당한 오차가 발생하게 된다. 따라서 본 연구에서는 나노인덴터에서 대표적으로 사용되는 50nm 벌코비치 팁(Berkovich tip)과 1um $90^{\circ}$ 원뿔형 팁(Conical tip)을 이용하였으며, 각 팁에 대한 표면 특성을 확인하기 위하여 박막 표면을 각 팁으로 압입하여 압입 후 표면 영상과 압입 깊이를 통하여 팁의 특성을 확인하였다. 이후 나노인덴터를 이용하여 100nm급 나노 구조물에서 표면 주사를 실시하여 획득된 이미지와 기존 원자현미경을 이용한 표면 이미지를 비교하여 오차를 획득하였다. 또한 각 팁의 외형으로 이론적으로 계산된 오차와 비교하였다.
Fundamental results obtained from an atomic force microscope (AFM) chemically-induced direct nano-lithography process are presented, which is regarded as a simple method for fabrication nm-scale devices such as superconducting flux flow transistors (SFFTs) and single electron tunneling transistors (SETs). Si cantilevers with Pt coating and with 30 nm thick TiO coating were used as conducting AFM tips in this study. We observed the surfaces of superconducting strip lines modified by AFM anodization' process. First, superconducting strip lines with scan size 2 ${\mu}{\textrm}{m}$${\times}$2 ${\mu}{\textrm}{m}$ have been anodized by AFM technology. The surface roughness was increased with the number of AFM scanning, The roughness variation was higher in case of the AFM tip with a positive voltage than with a negative voltage in respect of the strip surface. Second, we have patterned nm-scale oxide lines on ${YBa}-2{Cu}_3{O}_{7-x}$ superconducting microstrip surfaces by AFM conductive cantilever with a negative bias voltage. The ${YBa}-2{Cu}_3{O}_{7-x}$ oxide lines could be patterned by anodization technique. This research showed that the critical characteristics of superconducting thin films were be controlled by AFM anodization process technique. The AFM technique was expected to be used as a promising anodization technique for fabrication of an SFFT with nano-channel.
Atomic force microscopy (AFM) fabrication of oxide patterns is an attractive technique for nanoscale patterns and related device structures, SiC exhibits good performance in high-power, high-frequency, and high-temperature conditions that is comparable to the performance of Si. The AFM fabrication of oxide patterns on SiC is important for electronic applications. However, there has not been much reported investigations on oxidation of SiC using AFM. We achieved the local oxidation of 4H-SiC using the high loading force of ~100 nN, although the oxidation of SiC is generally difficult mainly due to the physical hardness and chemical inactivity. All the experiments were performed using atomic force microscopy (S.I.S. GmbH, Germany) with a Pt/Ir-coated Si tip at ~40% humidity and room temperature. The spring constant and resonance frequency of the tip were around ~3 N/m and ~70 kHz. We fabricated oxide patterns on n-type 4H-SiC ($\sim10^{19}/cm^3$) and n-type Si ($\sim1.9\times10^{16}/cm^3$). In summary, we demonstrated that the oxide patterns can be obtained over the electric field of ${\sim}\times10^7 V/cm$ and the high loading force using the tip as a cathode. The electric field transports the oxyanions (OH-) to the positively biased surface.
Carbon nanotube (CNT) tips in tapping mode atomic force microscopy (AFM) enable very high-resolution imaging, measurements, and manipulation at the nanoscale. We present recent results based on experimental analysis that yield new insights into the dynamics of CNT probe tips in tapping mode AFM. Experimental measurements are presented of the frequency response and dynamic amplitude-distance data of a high-aspect-ratio multi-walled (MW) CNT tip to demonstrate the non-linear features including tip amplitude saturation preceding the dynamic buckling of the MWCNT. Surface scanning is performed using a MWCNT tip on a SiO$_2$ grating to verify the imaging instabilities associated with MWCNT buckling when used with normal control schemes in the tapping mode. Lastly, the choice of optimal setpoints for tapping mode control using CNT probe tip are discussed using the experimental results.
This paper report nanotribological behavior between Si tip and Cu wafer surfaces which was treated various concentration of $H_2O_2$. This experimental approach has proven atomic level insight into Cu CMP. It has been used to study interfacial friction and adhesion force between Si tip and Cu wafer surfaces in air by atomic force microscopy (AFM). Adhesion force of Cu surfaces which was pre-cleaned in diluted HF solution was lager than Cu oxide surfaces. Adhesion force of Cu oxide surface was saturated around 7 nN. Slope of normal force vs lateral signal was increased as increasing concentration of $H_2O_2$ and it was saturated around 24. Friction force of Cu oxide was lager than Cu.
한국윤활학회 2002년도 proceedings of the second asia international conference on tribology
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pp.61-62
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2002
In order to clarify the contact mechanism between specimen surface and probe tip in the surface observation by the AFM (atomic force microscope) or the FFM (friction force microscope), several molecular dynamics simulations have been performed. In the simulation, a 3-dimensional simulation model is proposed where the specimen and the probe are assumed to consist of mono-crystal line copper and a carbon atom respectively and the effect of cantilever stiffness is also taken into considered. The surface observation process on a well-defined Cu{100} is simulated. The influences of cantilever stiffness on the reactive force images and the behavior of probe tip were evaluated. As a resuIt, several phenomena similar to those observed by the actual surface observation experiment, such as double-slip behavior and dispersion in the stick-slip wave period were observed.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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