$HfO_2/Si$ 시스템의 계면산화막 및 고유전박막의 특성연구
(Properties of the interfacial oxide and high-k dielectrics in $HfO_2/Si$ system)
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- 한국결정학회:학술대회논문집
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- 한국결정학회 2002년도 정기총회 및 추계학술연구발표회
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- pp.45-47
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- 2002