• Title/Summary/Keyword: 후열처리

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아연을 코팅한 테프론 기판 위에 성장된 산화아연 박막의 후열처리 효과

  • Kim, Ik-Hyeon;Park, Hyeong-Gil;Kim, Yeong-Gyu;Nam, Gi-Ung;Yun, Hyeon-Sik;Park, Yeong-Bin;Mun, Ji-Yun;Park, Seon-Hui;Kim, Dong-Wan;Kim, Jin-Su;Kim, Jong-Su;Im, Jae-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.291.1-291.1
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    • 2014
  • 산화아연 박막은 아연이 코팅된 테프론 기판 위에 졸-겔 스핀코팅 방법을 이용하여 각기 다른 후열처리 온도에서 제작되었다. 산화아연 박막의 후열처리 온도에 따른 구조적, 광학적 특성은 field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), X-ray diffractometer, and photoluminescence spectroscope를 이용하여 분석하였다. 후열처리 온도를 달리하여 성장한 모든 산화아연 박막은 수지상(dendrite) 구조를 가지고 있으며, 이 수지상 구조 위에 약 20 nm의 산화아연 입자들이 성장되었다. 후열처리 온도가 증가함에 따라 c-축 배향성이 우세하게 나타났으며, 인장응력도 증가하였다. 후열처리 온도 $400^{\circ}C$에서 Near-band-edge emission (NBE) 피크는 적색편이(red-shift) 하였고, 후열처리 온도가 증가함에 따라 deep-level emission (DLE) 피크의 세기는 감소하였다. 또한 $400^{\circ}C$의 후열처리 온도에서 NBE 피크의 반치폭(FWHM)이 가장 작았으며, INBE/IDLE의 비율이 가장 높았다. 따라서 $400^{\circ}C$의 후열처리 공정에 의해 결정성 및 광학적 특성이 가장 우수한 산화아연 박막을 얻을 수 있었다.

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Fabrication and Physical Properties of $RuO_2$ Thin Films ($RuO_2$ 박막의 제조와 물성)

  • 서동주;이재연;김건호
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.3 no.4
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    • pp.442-448
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    • 1994
  • 용액분무법으로 RuO2 박막을 석영 기판위에 성장시켰다. RuO2 박막의 결정구조는 정방 구조이 며 격자상수 a0=4.508 A, c0=3.092 A 이였다. RuO2 박막은 금속성 전도성을 나타냈다. RuO2박마의 광흡 수도는 후열처리함에 따라 증가하였고 박막의 광흡수도의 최소값은 후열처리 온도에 의존하지 않으며 에너지로 환산하면 ∼2.0eV로 거의 일정하였다. RuO2 박막의 후열처리의 온도와 후열처리 분위기가 기 판위에 성장된 RuO2 박막의 표면형태 grain 크기 grain 경계폭 전기적특성등에 영향을 미쳤다. RuO2 박 막이 실험실내의 공기중에 노출됨으로서 시료의 표면에 S와 C가 물리 흡착되었으며 sputtering 시간이 증가함에 따라 Ar+ 이온 빔의 충겨으로 RuO2가 부분적으로 환원되어 O원자의 피크 대 피크 높이가 감 소하여 O/Ru 의피크 높이의 비가 낮게 관측되었다.

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Rf Magnetron Sputter로 증착된 ZrN박막의 후열처리 효과에 따른 Nano-electrotribology 특성변화 연구

  • Kim, Seong-Jun;Park, Myeong-Jun;Kim, Su-In;Lee, Chang-U
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.355.2-355.2
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    • 2014
  • Zirconium nitride (ZrN)는 높은 열적, 화학적 특성과 우수한 기계적 강도, 낮은 전기 저항성 때문에 절삭공구, 의료용품 등으로 널리 사용된다. 특히 물리증착법 (PVD)으로 증착 할 경우 실제 hardness보다 높은 특성을 가지고 내마모성과 고온에서 hardness가 우수한 것으로 알려져 있다. 본 실험에서는 물리증착법 중 하나인 rf magnetron sputter를 사용하여 질소 유량에 따른 zirconium nitride 박막을 증착하였다. 그 후, $600^{\circ}C$, N2 분위기에서 후열처리를 진행하였고, 후열처리에 따른 박막의 nano-electrotribology 특성 변화를 관찰하기 위해 nano-indenter를 사용하였다. 측정결과, 질소 유량이 0, 0.5, 5 sccm으로 변함에 따라 증착된 박막의 hardness는 18.62, 15.64, 13.58 GPa로 각각 감소되었으며, elastic moduls도 210.43, 185.15, 171.52 GPa로 감소하였다. 이는 증착 과정에서 과포화된 N2 가 후열처리 과정에서 빠져 나오는 것으로 알 수 있다.

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후열처리 조건 변화에 따르는 $Co_3O_4$ 계열 전이금속 산화물 박막의 구조적 성질 변화 조사

  • Heo, Jong-Uk;Kim, Gwang-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.333-333
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    • 2012
  • $Co_3O_4$ 계열 스피넬(spinel) 전이금속 산화물 $TCo_2O_4$ (T = 3d 전이금속)는 화학적 촉매, 센서, 이차전지, 연료전지 등으로의 응용성에 기인하여 최근 주목을 받고 있으며, 특정 응용분야와 관련하여 그 박막 시료 제작 및 물리적, 화학적 성질들에 대한 세밀한 연구의 필요성이 제기되고 있다. 본 연구에서는 졸-겔 방법을 이용하여 $TCo_2O_4$ 박막이 $Al_2O_3$ (0001) 기판 위에 균일한 두께로 제작될 수 있는 최적 조건을 찾고자 하였으며, 후열처리 조건 변화에 따르는 박막의 구조적 성질 변화를 조사하였다. 후열처리는 공기 중에서 이루어졌으며 온도 ${\sim}800^{\circ}C$에서 최적 결정성을 갖는 다결정 박막이 얻어졌다. 또한, 박막에 작은 시간(~10 min) 동안의 전자선(electron beam) 조사를 통한 다결정 박막의 형성도 관측되었다. $TCo_2O_4$ 박막들에 대한 X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy, spectroscopic ellipsometry 측정들을 수행하여 그 구조적, 광학적 성질을 조사 하였다.

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스핀코팅 방법으로 제작된 ZnO 박막의 단계적 후열처리에 따른 구조적 및 광학적 특성

  • Mun, Ji-Yun;Nam, Gi-Ung;Park, Seon-Hui;Park, Yeong-Bin;Park, Hyeong-Gil;Yun, Hyeon-Sik;Kim, Yeong-Gyu;Ji, Ik-Su;Kim, Ik-Hyeon;Kim, Dong-Wan;Kim, Jong-Su;Kim, Jin-Su;Im, Jae-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.290.1-290.1
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    • 2014
  • 스핀코팅방법으로 증착된 ZnO 박막의 단계적 후열처리에 따른 구조적, 광학적 특성에 관한 연구를 수행하였다. 일반적으로 ZnO 박막은 한 층을 증착한 후에, 유기물을 제거하기 위하여 전열처리를 수행한다. 본 연구에서는 ZnO 박막을 전열처리와 후열처리를 동시에 단계적으로 수행하였다. X-ray diffractometer, UV-visible spectrometer, photoluminescence를 이용하여 ZnO 박막의 구조적, 광학적 특성을 분석하였다. 모든 시료에서 표면은 직경이 약 20 nm인 둥근 입자들로 이루어져 있었다. X-ray diffraction 패턴은 $31^{\circ}$, $34^{\circ}$, $36^{\circ}$에서 나타났고, 이것은 각각 ZnO의 (100), (002), (101) 방향을 보여준다. 전열처리와 후열처리를 동시에 수행했을 경우, 자유엑시톤 재결합에 의해 3.2 eV에서 좁은 near-band-edge emission 피크가 나타났으며, 투과도 또한 향상되었다.

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Impact of Oxygen Annealing on Deep-level Traps in Ga2O3/SiC Photodetectors (산소 후열처리에 따른 Ga2O3/SiC photodetector의 전기 광학적 특성)

  • Seung-Hwan Chung;Tae-Hee Lee;Soo-Young Moon;Se-Rim Park;Hyung-Jin Lee;Geon-Hee Lee;Sang-Mo Koo
    • Journal of IKEEE
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    • v.27 no.3
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    • pp.288-295
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    • 2023
  • In this work, we investigated the role of oxygen annealing on the performance of Metal-Semiconductor-Metal (MSM) UV photodetector (PD) fabricated by radio frequency (RF)-sputtered Ga2O3 films on SiC substrates. Oxygen-nnealed Ga2O3 films displayed a notable increase in photocurrent and a faster decay time, indicating a decrease in persistent photoconductivity. This improvement is attributed to the reduction of oxygen vacancies and variation of defects by oxygen post-annealing. Our findings provide valuable insights into enhancing PD performance through oxygen annealing.

유기태양전지에서 후열처리 온도에 따른 광흡수층의 특성 변화

  • Kim, Dong-Yeong;Seo, Seong-Bo;Lee, Hye-Ji;Bae, Gang;Son, Seon-Yeong;Park, Seung-Hwan;Kim, Hwa-Min
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.385-385
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    • 2011
  • Si 또는 반도체 화합물을 기반으로 한 태양전지의 높은 원재료 가격과 복잡한 공정 등의 문제점들을 해결하기 위한 방안으로 반도체성 고분자인 Poly(3-hexylthiophene)(P3HT)과 C60 유도체인 PCBM을 광활성 층으로 이용하여 유기 태양전지(Organic Solar Cell, OSC)를 제작하였다. 하지만 상대적으로 낮은 효율을 갖는 OSC의 단점을 해결하기 위해서 유기물 자체가 갖고 있는 광 안정성, 낮은 전하 이동도 및 광 에너지 흡수대 등의 문제점들의 해결 방안들이 제시되고 있다. 본 연구에서는 광활성 층을 사용한 유기 태양전지의 특성에서 후열처리에 따른 유기 태양전지의 전기적 및 구조적, 광학적인 특성들이 소자의 효율에 끼치는 영향에 대해 분석하였다. 후열 처리 온도에 따른 광활성 층의 구조적인 특성을 분석하기 위해 EFM 이미지와 XRD패턴을 측정하였는데 열처리 후 박막의 전기적인 포텐셜과 결정성 향상의 유기 태양전지의 효율향상에 기여함을 알 수 있었다. 또한 임피던스 분석 장치를 이용해 후열 처리에 따른 소자의 Resistance, Capacitance, I-V 곡선들을 분석한 결과 최적의 조건에서 열처리된 광활성 층은 전하들의 이동을 조절하여 소자 내에서 Capacitance를 증가시키는 것 뿐만 아니라 전극과 유기물 층 사이의 계면 특성을 향상시킴으로써, 소자의 효율을 증가시키는 원인으로 작용함을 확인 하였다.

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Evaluation of PWHT cracking susceptibility of the Cr-Mo steel alloys (Cr-Mo 합금강의 후열처리 균열 감수성 평가)

  • Kim, Sang-Jin;Kim, Ki-Soo;Lee, Young-Ho
    • 대한공업교육학회지
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    • v.31 no.1
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    • pp.200-210
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    • 2006
  • This C-ring test, normally employed for evaluating susceptibility to stress-corrosion cracking, was determined to be a suitable small scale test to evaluate PWHT(Post-Weld Heat Treatment) cracking susceptibility. This test is possible to incorporate an actual weld, to introduce a notch into the coarse grained HAZ(Heat Affected Zone), to load the coarse grained HAZ any level of stress ad, most importantly, since the C-ring is an approximately constant strain type test, the stress decreases with time at temperature in a manner similar to that of an actual steel weldment. The procedure employed in making the C-ring was presented in the experimental procedure section, however, several points deserve further discussion. The walls of the weld groove are made along radial lines form the center of th var in order to obtain an HAZ which is oriented perpendicular to the walls of the machined C-ring. Therefore, the plane of maximum stress will be aligned through the HAZ and, therefore, crack propagation will not be forced to deviate form the plane of maximum stress in order to remain in the coarse grained HAZ as is the case with the Y groove test.

Annealing Effect on the Photoluminescence of Si Nanocrystalites Thin Films (후열처리에 따른 실리콘 나노결정 박막의 광학적 특성 변화 연구)

  • Jeon, Kyung-Ah;Kim, Jong-Hoon;Lee, Sang-Yeol
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2001.11a
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    • pp.20-21
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    • 2001
  • 실리콘 나노결정 박막은 Nd:YAG 레이저를 사용한 펄스레이저 증착법으로 p형 (100) 실리콘 기판위에 형성되였다. 증착 후, 다양한 분위기 가스와 $400^{\circ}C$에서 $800^{\circ}C$까지 범위의 여러 온도에서 후열 처리가 수행되었다. 후열 처리가 끝난 시료 중 일부는 혼합가스(95 % $N_2$ + 5 % $H_2$)에서 한시간 동안 수소 passivation을 수행하였다. 실온에서 강한 청자색 photoluminescence (PL)을 관찰할 수 있었다. 이 논문에서 우리는 다양한 후열처리 조건과 수소 passivation 효과에 따른 PL 특성 변화를 제시하고, 이 결과를 통해 실리콘 나노결정 박막의 발광 메카니즘을 간접적으로 유추하였다.

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Effects of post-annealing and seeding layers on electrical properties of PLT thin films by MOCVD using ultrasonic spraying (후열처리 및 seeding 층이 초음파분무 MOCVD법에 의한 PLT 박막 제조 시 전기적 특성에 미치는 영향)

  • 이진홍;김기현;박병옥
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.12 no.5
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    • pp.247-252
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    • 2002
  • $(Pb_{1-x}La_x)TiO_3$ (x = 0.1) thin films were prepared on ITO-coated glass substrates by metal organic chemical vapor deposition using ultrasonic spraying. Effects of the post-annealing and the seeding layer on crystallization, microstructures and electrical properties of thin films were investigated. Dielectric constants of films increased due to the modification of crystallization and the changing of a surface morphology by applying the post-annealing. In addition, as the application of PT seed- ing layer offered nucleation sites to PLT thin films, electrical properties of films were enhanced by the increase of crys-tallinity and grain size. The dielectric constant of the films post-heated for 60 min and with a seeding layer was 213 at 1 kHz.