기원전 5000년 이집트에서부터 시작된 도금은 시간이 지남에 따라 점점 발전하여, 1900년대에 들어 전기를 이용한 도금공정이 개발되었고, 현재 뿌리산업으로써 각종 제조업에 널리 이용되고 있다. 도금 공정은 금속을 부식으로부터 보호하고, 제품의 심미성과 기능성, 생산성 등을 높이기 위해 주로 이용된다. 전주도금 공정은 완벽하게 동일한 형태의 생산품을 다량으로 제작 할 수 있기 때문에, 그 높은 생산성으로 주목 받고 있다. 특히, 나노/마이크로 크기의 정밀 소자 등을 가공하는 차세대 기술인 LIGA공정과 접목이 가능하다는 장점이 있다. 몰드를 이용하여 복제하는 방식인 전주 도금은 도금공정이 끝난 후 몰드와 완성된 제품을 분리해내는 추가공정이 필연적으로 발생하게 되는데, 둘 사이의 접착력을 낮추기 위하여 몰드의 표면에 이형박리제를 도포하게 된다. 이형박리제로는 전기가 잘 흐르면서 접착력이 낮은 이산화 셀렌이나 중크롬산이 주로 이용되지만, 원활한 박리를 위해서는 그 두께가 30 um 이상 확보되어야 하기 때문에 정밀한 미세구조 전주도금이 어렵다는 문제점이 있다. 또한 이와 같은 화학 약품들은 매우 유독하기 때문에 추가적인 폐수 처리 공정이 필요하며, 작업자의 안전을 위협하고 심각한 환경 오염을 초래한다는 추가적인 문제가 발생한다. 따라서, 매우 얇고 친 환경적이며 안전한 전주도금 이형박리제에 대한 연구가 요구되고 있다. 본 연구에서는 전주도금 몰드로 사용한 구리의 표면에 TCVD를 이용하여 단일 층 그래핀을 성장시킨 후, 그래핀이 코팅된 몰드에 구리를 전주도금하여 박리하였다. 박리 후 그래핀은 몰드에 손상 없이 남아있는 것을 Raman microscopy를 통해서 확인하였고, 몰드와 그래핀 사이의 접착력 (약 $0.71J/m^2$)에 비해 그래핀과 전주도금 샘플간에 낮은 접착력 (약 $0.52J/m^2$)을 갖는 것을 확인하였다. 이와 같이 낮은 접착력을 통해 박리 시 표면구조의 손상 없이 정밀한 구조의 미세 패턴구조를 형성할 수 있었다. 전주도금을 이용한 전극 형성과 고분자와의 융합을 통해 유연기판을 제작하여 bending 실험을 진행하였다. $90^{\circ}$의 bending 각도로 10000회 이하에서는 저항의 변화가 없었고, LED chip을 mounting한 후 곡률반경 4.5 mm까지 bending을 진행하여도 이상 없이 LED가 발광하는 것을 확인하였다. 위와 같은 전주도금 공정을 이용하여 고집적 전자기기, 광학기기, 센서기기 등의 다양한 어플리케이션의 부품제조에 활용될 수 있을 것으로 기대한다.
발굴유구에서 보존은 보존에 복원을 포괄하는 개념이며, 여기서 복원은 유구 원래의 원형으로 복원하는 것을 의미하는 것이 아니라, 발굴 당시의 모습 그대로 복원하는 것을 의미한다. 즉 발굴유구 보존은 수리복원의 개념이 함께 포함된 것이다. 발굴유구는 보존하는 위치에 따라 크게 현장보존과 이전보존으로 나눌 수 있다. 현장보존은 발굴유구를 현장에 그대로 보존하는 것으로 유구의 훼손을 방지하기 위해 복토하는 복토 현장보존법과 유구를 노출된 상태 그대로 보존하는 노출 현장보존법이 있다. 유구가 발굴된 장소에서 다른 장소로 이전하는 것을 전제로 한 보존방법을 이전보존이라 하며, 세부방법으로 원형이전, 전사이전, 복제이전, 해체이전으로 나눌 수 있다. 원형이전은 유구의 원형을 그대로 다른 곳에 이전하는 방법이고, 전사이전은 유구 표면의 일정부분을 떼어내어 이전하는 것이다. 복제이전은 발굴된 유구의 형태를 본떠 이전할 곳에서 다시 복원하는 방법이며, 해체이전은 유구를 구성하고 있는 부재를 해체 이전하여 해체의 역순으로 복원하는 방법이다. 발굴유구의 보존에서 가장 기본이 되는 것은 발굴유구의 원형을 그대로 보존하는 것이지만 실제로는 발굴유구를 둘러싼 여러 가지 환경 즉 사회 경제 문화 지역 상황에 따라 보존방법이 결정되는 경향이 있다. 앞으로 더 효과적인 발굴유구 보존을 위해 보존방법별로 좀 더 세분화되고 전문화된 방안을 도출하고, 인접학문과의 교류 및 발전하는 과학기술을 접목시켜 발굴유구를 가장 효과적으로 보존할 수 있는 방법에 대한 지속적인 연구가 필요하다.
나노임프린트 공정기술은 나노구조물이 패턴된 스템프(혹은 몰드)를 이용하여 적절한 기판 위에 나노구조물을 복제하여 패턴을 전사하는 기술이다. 효과적인 나노임프린트 공정을 위해서는 몰드의 이형처리뿐 아니라 반대쪽의 기질과 레지스트 사이에 접착력 증가(adhesion promoter) 처리가 매우 중요한 역할을 한다. 본 연구에서는 자기조립 실란커플링제의 기상증착을 이용하여 나노임프린트 공정에서 사용되는 접착 증가막 및 표면처리 방법을 비교 분석 하였다. 이를 위해서 평탄화층(DUV-30J), 산소 플라즈마 처리, 실란커플링제 자기조립막이 비교되었다. 실란커플링제 자기조립막이 형성된 실리콘 표면은 전체적으로 나노 두께의 균일한 막이 형성되며 임프린트시 구조물들을 정밀하게 전사하였으며 3-acryloxypropyl methyl dichlorosilane(APMDS)을 이용한 자기조립막(SAMs) 처리가 평탄화층과 산소 플라즈마 처리보다 강한 접착력을 가지고 있어 나노임프린트 공정에 적합함을 알 수 있었다.
본 연구는 복합레진 인레이 브릿지에서 강화재의 표면 처리와 사용 방법이 파괴 강도에 미치는 영향을 평가하였다. 본 연구에서 사용한 강화재료는 I Beam, U Beam, 1 + U Beam이었으며, 표면처리 방법은 Silane, Sandblast, Hole형성 (U beam)이었다. 강화 재료의 구성과 표면 처리 방법에 따라 총 11개의 실험군을 설정하였다. 상악 인공치 모형에서 제2소구치의 발거 상태를 가정하고 복합레진 인레이 브릿지 제작을 위하여 인접한 제1소구치에 DO, 제1대구치에 MO 와동을 형성하였다. 와동이 형성된 인공치 모형을 고무 인상체를 이용하여 석고로 제작하고, 각 실험군 별로 강화재료와 강화 재료의 표면 처리 방법에 따라 Tescera ATL (BISCO Inc. IL, USA) 복합레진을 사용하여 복합레진 인레이 브릿지를 제작하였다 그 후 시편을 복제모형에 인산아연시멘트로 합착하고 Universal testing machine (EZ Test, Shimadzu, Japan)을 이용하여 flexural stress를 가하여 파괴 강도를 측정하였으며 95% 유의 수준에서 one-way ANOVA/ Scheffes post-hoc test를 시행하여 통계 분석하였다. 다음과 같은 결론을 얻을 수 있었다. 1. 내부 강화재 I beam을 사용한 실험군이 유의성 있게 높은 파괴 강도 값을 보였다 (P<0.05). 2. 표면 처리 방법에 따른 차이는 나타나지 않았다 (P>0.05). 3. 복합레진 인레이 브릿지의 파괴는 강화 재료를 사용 시에는 복합레진과 강화 재료간에 분리 파괴가 나타났으며 사용하지 않은 경우에는 수직파괴 경향이 나타났다. 4. U beam에 유지 hole을 형성한 경우 파괴 강도 증가를 시키지 않았다.
최근에 국내 화력발전설비도 사용 기간이 30년을 넘게 됨에 따라, 고온설비의 경년열화도 평가 및 수명예측 기술에 대한 연구가 활발해지고 있다. 본 논문에서는 l965년부터 사용되어 노 후된 영월화력발전소 2호기의 주증기 파이프를 대상으로 실시한 열화도 및 수명평가 결과를 보고하였다. 주증기관의 취약부인 맞대기 용접부, 지류 용접부, Y부 및 T부 등의 용접부에 대해 표면복제법, 경도측정법을 사용하여 수명평가를 실시하였으며, 비파괴 검사에 의해 균열이 탐지된 경우에는 수명평가 컴퓨터 코드를 사용하여 균열성장에 의한 잔여수명을 계산하였다. 또한 파이프 모재의 잔여 수명은 해석적 방법에 의해 정량적으로 잔여수명을 계산한 후, 외경 패출량 측정, 입계부식법 등에 의해 재질 열화도를 정성적으로 평가하였다. 본 논문에서 사용한 기법 이외의 방법을 사용하여 수명평가 정확도를 개선하는 방향에 대한 의견도 제시하였다.
In this study, a micro/nano-random-pattern-structure surface was machined by electric discharge machining (EDM) followed by replicating the EDM surface with a silicone elastomer having low energy and greater hydrophobicity. The variation of hydrophobicity was of prime interest and was examined as a function of the surface roughness of the replicated silicone elastomer. The hydrophobicity was evaluated by the water contact angle (WCA) measured on the relevant surface. For the experiments, the original surfaces were machined by die sinking electric discharge machining (DS-EDM) and wire cutting electric discharge machining (WC-EDM). The ranges of surface roughness were Ra $0.8{\sim}19{\mu}m$ for the DS-EDM and Ra $0.5{\sim}4.7{\mu}m$ for the WC-EDM. In order to fabricate a hydrophobic surface, the EDM surfaces were directly replicated using a liquid-state silicone elastomer, which was thermally cured. The measured WCA on the replicated surfaces for DS-EDM was in the range of $115{\sim}130^{\circ}$ and for WC-EDM the WCA was in the range of $123{\sim}150^{\circ}$. Additionally, the dynamic hydrophobicity was evaluated by measuring an advancing and a receding WCA on the replicated silicone elastomer surfaces.
본 연구에서는 기존의 PCB의 한계를 극복할 수 있는 광 PCB에 대한 연구를 수행하였으며, 고효율 수동정렬을 위한 플러거블 렌즈구조를 제안하였다. 제안된 구조는 광 도파로 수동 정렬시 발생할 수 있는 렌즈와 도파로 간의 정렬 오차를 개선하고자 도파로와 렌즈를 합한 형태이다. 또한 탈착에 의해 손상되는 렌즈표면을 보호하기 위한 보호벽 형태를 지님으로써, 고효율의 수동정렬이 가능하게 하였다. 최적화 시뮬레이션을 통하여 구조를 설계하였고, 반복적 포토 리소그래피와 열적 리플로우 공정을 통하여 플러거블 렌즈 구조 제작을 위한 공정 연구를 수행하였다. 렌즈일체형 플러거블 접속구조의 광도파로를 PDMS복제공정으로 제작된 mold를 이용하여 임프린트 공정을 통해 제작하였다. 따라서 본 논문에서는 수동정렬이 가능한 광PCB접속용 플러거블 렌즈 구조의 제작이 가능함을 확인하였다.
국립춘천박물관 소장 중요민속문화재 제 120호 청풍부원군 김우명 상여는 상여와 요여, 명정대, 만장대 등 1습으로 구성되었다. 2002년 기증되었으며(고(故) 김성구) 현존하는 최고(最古)의 왕실 제작 상여로 가치가 높게 평가되고 있다. 2012년 9월 '강원의 위대한 문화유산' 특별전시를 위하여 수장고에서 휴식기를 갖고 있던 상여를 점검한 결과 목재 부분의 채색 안료층이 박락될 우려가 있고, 직물류의 표면 손상이 심각하다고 판단하여 보존처리를 실시하였다. 이 중 매듭과 수식(垂飾)은 손상이 더 심해 전시가 불가능하므로 정밀조사에 따라 복제품을 제작하였다. 상여는 기본가구를 제외한 모든 부위가 분리된 상태였으며, 요여는 부재를 해체하여 보강한 후 재조립하였다. 상여의 목재 부분은 채색 안료층을 강화하기 위하여 Acryl 계열 수지인 Paraloid B-72 2 wt%(in ethyl acetate)를 도포한 후, 알긴산나트륨(Sodium alginate) 2 wt%(in 증류수)와 아교 4 wt%(in 증류수)를 혼합하여 사용하였다. 직물류는 표면 오염물을 제거한(Vacuuming) 후 구김을 폈다(Steaming). 지용성 오염의 경우 비이온 계면활성제(Saponin, 0.25 ~ 0.5 g/l, in 증류수)를 사용하여 제거하였다. 요여는 해체 후 부러졌던 부재를 아교 3 wt%(in 증류수, 초벌용)와 35 wt%(in 증류수, 접착용)로 접착하고 결실부 복원을 위해 건조한 소나무를 사용하였다. 운각의 연결은 본래의 금속제 경첩과 장석못을 재사용하여 조립을 완료하였다.
인체의 바이러스 감염 방어기전에서 T 림프구는 중요한 역할을 한다. 하지만, 만성 C형 간염 바이러스의 일차적 복제장소인 간염 환자의 간에서 분리된 HCV 특이 T 림프구는 심각한 기능결핍을 보인다. 이러한 T 림프구 기능결핍의 이유로는 PD-1, CTLA-4 등 면역억제 물질의 발현, 또는 간에서 특이적으로 유도되는 면역내성(immune tolerance)이 있으나, 간세포(hepatocytes)와 HCV 특이 T 림프구의 상호작용에 대해서는 명확하게 확립되어 있지 않다. 따라서 본 연구에서는 HLA(human leukocyte antigen) A2+ 간암세포주(human hepatoma cell line; huh7.5)가 항원제시(antigen presentation)를 통해 효과적으로 HCV 특이 T 림프구를 활성화시키며 간암세포주(huh7.5) 표면의 PD-L (program death ligand) 1 발현은 T림프구의 활성을 감소시켜 면역조절의 가능성이 있음을 시사하였다. 또한, HCV 특이 tetramer 반응은 T 림프구의 과도한 활성으로 자기사멸(apoptosis)의 경로에 있음을 caspase 3 활성으로 확인하였고, 역시 PD-L1의 발현이 T 림프구를 자기사멸(apoptosis)로부터 구제하여 caspase 3 활성이 감소하는 것을 확인하였다. 이는 PD-L1과 간성(liver) T 림프구 표면의 PD-1 결합이 T 림프구의 자기사멸을 막고, 또한 그 기능을 회복시켜 만성 C형 간염 치료에 응용될 수 있음을 시사한다.
치아우식은 주로 mutans streptococci에 의해 야기되는 감염성 질환으로서 주 원인균에는 streptococcus mutans가 있다. S. mutans가 치아우식을 유발하는 분자 생물학적 기전은 몇 가지 단계를 포함한다. 먼저 S. mutans는 AgI/II와 같은 세포 표면의 섬유성 단백질을 매개로 치면의 타액성 피막에 일차적으로 부착한다. 두번째 단계에서 자당의 존재하에 glucosyltransferase(GTF)는 glucan과 같은 다당체를 합성하게 된다. 마지막으로 이렇게 합성된 glucan은 glucan binding proteins와 상호작용하여 치면세균막을 형성해서 세균의 군집화를 가능하게 한다. 많은 실험과 임상연구에서 S. mutans의 주요 항원(Ag I/II, GTFs, GBPs)들이 치아우식 병리기전에 영향을 준다고 알려져 왔고, 따라서 이런 항원들이 면역계에 작용하여 치아우식을 막는 백신으로 이용 가능하다. 본 실험은 streptococcus mutans GS-5로부터, GTFb, GTFc, GTFd 유전자를 복제하고 염기서열분석을 하였으며, 이중 GTFd가 먼저 재조합 단백질 생산을 위해 발현 벡터에 클로닝 되었으며, 이로부터 단백질이 발현됨을 확인하였다. 이번 실험에서 얻은 순수 GTF 항원은 동물실험을 통해 특정 GTF 활성부위에 대한 항체 생산에 이용될 수 있을 것이다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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