• 제목/요약/키워드: 평활도

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국소개선기법을 이용한 삼각격자 균질화 (Triangular Grid Homogenization Using Local Improvement Method)

  • 최형일;전상욱;이동호;이도형
    • 한국항공우주학회지
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    • 제33권8호
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    • pp.1-7
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    • 2005
  • 본 연구에서는 삼각격자 균질화를 위하여, 확장된 위상학적 개선과정과 국소 최적화 기반 평활화를 결합한 국소 개선기법을 제안하였다. 먼저 격자의 연결 구조를 확장된 위상학적 개선과정을 적용하여 최적의 연결구조로 개선한다. 다음으로 격자의 질을 나타내는 비틀림척도를 최대화하기 위해 국소 최적화 기반 평활화를 수행한다. 이 국소 개선기법을 이용하여, 두 가지 격자 예제에 대하여 삼각격자 균질화를 수행하였다. 이 예들을 통하여, 본 연구에서 제안한 국소 개선알고리듬이 삼각격자의 질을 크게 향상시켜주는 경제적이며 효과적인 방법임을 보여준다. 또한, 이 기법은 적응격자 세분화의 격자 재생성과정에도 용이하게 적용될 수 있다.

온라인 대역폭 평활화를 위한 태스크 스테줄링 기법 (Task Scheduling Technique for Online Bandwidth Smoothing)

  • 김재욱;하란;차호정
    • 한국정보과학회:학술대회논문집
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    • 한국정보과학회 2000년도 봄 학술발표논문집 Vol.27 No.1 (A)
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    • pp.148-150
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    • 2000
  • 자원 예약을 보장하지 못하는 네트워크 상에서 실시간 멀티미디어 응용의 만족스러운 서비스를 위해서는 효과적인 종단 시스템의 운영이 필요하다. 이러한 운영 기술 중 버퍼를 이용한 응용 프로그램 수준의 대역폭 평활화 기술과 태스크 스케줄링 기법은 핵심적인 부분을 차지한다. 기존에 제안된 온라인 대역폭 평활화 기법은 동적 슬라이딩 윈도우와 공적 버퍼를 이용하여 네트워크에 적응할 뿐만 아니라 요구 대역폭 평활화를 통해 지터를 흡수, 완충시킴으로써 더 나은 서비스 품질을 보장한다. 그러나 응용 프로그램 수준에서 동작하기 때문에 프로그램의 수행 품질보장을 위한 시간 대역을 보장하지 못할 뿐만 아니라 지터의 발생 가능성이 높다. 본 연구에서는 효과적인 버퍼 관리를 통해 서비스 품질의 손실을 최소화하는 적응성 있는 온라인 대역폭 평활화 기법이 안정적으로 동작하기 위한 최적화된 태스크 스케줄링 기법을 제안한다. 먼저 태스크 스케줄링 기법은 멀티미디어 데이터의 생산과 소비를 적시에 보장할 수 있도록 하여 지터의 발생을 최소화하고, 만일 네트워크 지터가 발생하더라도 응용 프로그램 수준의 버퍼 관리를 통해 완충시킴으로서 서비스 품질의 손실을 최소화한다. 모의 실험에서는 제안된 기법이 온라인 대역폭 평활화 기법을 효과적으로 지원함을 보인다.

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국토해양부 GPS 상시관측소를 활용한 한반도 전리층의 총전자수 추정 (Estimation of Total Electron Content in the Ionosphere over the Korean Peninsula using Permanent GPS Stations Operated by Ministry of Land, Transport and Maritime Affairs)

  • 김경희;박관동
    • 대한공간정보학회지
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    • 제17권1호
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    • pp.149-155
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    • 2009
  • 한반도 상공에서의 전리층에 의한 GPS 측위오차를 정량적으로 파악하기 위해 국토해양부의 44개 상시관측소 데이터를 이용해 2차원 전리층 지도를 작성하였다. 한반도를 위경도 방향으로 $0.1^{\circ}{\times}0.1^{\circ}$의 조밀한 격자로 나눈 뒤 각 격자점에서의 VTEC을 산출하였으며, 관측치로는 이중주파수 의사거리 관측치와 반송파위상 관측치의 선형조합에 의한 위상평활 의사거리를 사용하였다. 국토해양부와 천문연구원의 45개 상시관측소 데이터를 이용해 2003년 1월 25부터 5일 동안의 TEC 값을 2시간 단위로 산출하고 Center for Orbit Determination in Europe의 Global Ionosphere Map과 비교한 결과 8.0 TECU의 차이를 보였다.

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DMA와 SEM을 사용한 반도전층 재료의 탄성특성과 평활도 측정 (Modulus Properties and Smoothness Measurement of Semiconducting Materials Using the DMA and SEM)

  • 양종석;이경용;최용성;박대희
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제54권10호
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    • pp.443-448
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    • 2005
  • To measure modulus, damping properties and smoothness of semiconducting materials in power cable, we have investigated those of semiconducting materials showed by changing the content of carbon black. Then they were produced as sheets after pressing for 20 minutes at 180[$^{\circ}C$] with a pressure of 200[kg/cm$^{2}$]. The content of conductive carbon black was the variable, and their contents were 20, 30 and 40[wt$\%$], respectively. The modulus and tans were measured by DMA 2980. The ranges of measurement temperature were from -50[$^{\circ}C$] to 100[$^{\circ}C$] and measurement frequency was 1[Hz3. The modulus of specimens was increased according to a increment of a carbon black content. And modulus was rapidly decreased at the glass transition temperature. The tans of specimens was decreased according to a increment of a carbon black content. The smoothness was measured by JSM-6400. EEA resin from SEM measurement was best the dispersion of carbon back in base resin.

준지도 학습에서 꼭지점 중요도를 고려한 레이블 추론 (A Label Inference Algorithm Considering Vertex Importance in Semi-Supervised Learning)

  • 오병화;양지훈;이현진
    • 정보과학회 논문지
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    • 제42권12호
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    • pp.1561-1567
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    • 2015
  • 준지도 학습은 기계 학습의 한 분야로서, 레이블된 데이터와 레이블되지 않은 데이터 모두를 사용하여 모델을 학습함으로써 지도 학습에 비해 예측 정확도를 높일 수 있다. 최근 각광받고 있는 그래프 기반 준지도 학습은 입력 데이터를 그래프의 형태로 변환하는 그래프 구축 단계와 이를 사용하여 레이블되지 않은 데이터의 레이블을 예측하는 레이블 추론 단계로 나뉜다. 이 추론은 준지도 학습에서의 평활도 가정을 기본으로 한다. 본 연구에서는 추가로 각 꼭지점 중요도를 결합함으로써 개선된 레이블 추론 알고리즘을 제안한다. 이와 함께 알고리즘의 수렴성을 증명하고, 또한 실험을 통해 알고리즘의 우수성을 검증하였다.

IPv6 환경에서 지수 평활법을 이용한 공격 탐지 알고리즘 (Attack Detection Algorithm Using Exponential Smoothing Method on the IPv6 Environment)

  • 구향옥;오창석
    • 한국콘텐츠학회논문지
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    • 제5권6호
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    • pp.378-385
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    • 2005
  • DDoS(Distributed Denial of Service) 공격에 사용되는 네트워크 트래픽과 정상적인 서비스를 위한 네트워크 트래픽을 구분해 내는 것은 쉽지 않다. 정상적인 패킷을 유해 트래픽으로 판단하고 유해 트래픽의 공격자의 의도대로 서비스를 못하는 경우가 발생하므로, DDoS 공격으로부터 시스템을 보호하기 위해서는 공격 트래픽에 대한 정확한 분석과 탐지가 우선되어야 한다. IPv6 환경으로 전환될 때 발생하는 유해 트래픽에 대한 연구가 미약한 상태이므로, 본 논문에서는 IPv6 환경에서 NETWOX로 공격을 수행하고 공격 트래픽을 모니터링한 후 MIB(Management Information Base)객체를 지수 평활법을 적용하여 예측치를 구한 후 임계치를 산정하여 공격을 판별하는 방법을 제안한다.

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확률밀도함수의 불연속점 추정을 위한 띠폭 선택 (Bandwidth selection for discontinuity point estimation in density)

  • 허집
    • Journal of the Korean Data and Information Science Society
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    • 제23권1호
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    • pp.79-87
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    • 2012
  • Huh (2002)는 확률밀도함수가 하나의 불연속점을 가질 때, 한쪽방향커널함수를 이용하여 확률 밀도함수의 오른쪽과 왼쪽 커널추정량을 제시하여 그 차를 최대로 하는 점을 불연속점의 위치추정량으로 제안하였다. 커널추정량의 평활모수인 띠폭의 선택의 중요함은 익히 알려져 있다. 최대가능도 교차타당성은 확률밀도함수의 커널추정량에서 띠폭 선택의 기준으로 널리 쓰여지고 있다. 본 연구에서는 한쪽방향커널함수를 이용한 확률밀도함수의 오른쪽과 왼쪽 커널추정량들의 띠폭의 선택 방법을 Hart와 Yi (1998)의 한쪽방향교차타당성의 방법론을 최대가능도교차타당성에 적용하여 제안하고자 한다. 소표본 모의실험을 통하여 연구결과를 제시하고자 한다.

열처리효과에 따르는 Ni/sic 계면의 전기적 특성 (Variation of Electrical characteristics of the Ni/SiC interface with annealing effect)

  • 금병훈;강수창;도석주;제정소;신무환
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 1999년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.493-496
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    • 1999
  • Ni/3C-SiC 옴믹 접합에 대한 미세구조적-접합 특성과의 상관관계를 규명하였다. 3C-SiC 웨이퍼 위에 저저항 전면 옴믹 적합층을 형성하기 위하여 Ni(t=300$\AA$)을 thermal evaporator를 사용하여 증착하고, 50$0^{\circ}C$, 80$0^{\circ}C$, 103$0^{\circ}C$ 온도에서 30분간(Ar 분위기) 열처리 한 후, scratch test를 실행하여 Ni/3C-SiC의 접착력 특성을 조사하였다. 여러 다른 온도에 따른 Ni/3C-SiC 층의 표면과 계면의 미세구조는 X-ray scattering 법을 사용하였다. 50$0^{\circ}C$ 에서 열처리된 Ni/3C-SiC 층은 가장 낮은 계면 평활도와 가장 높은 표면 평활도를 나타내었다. Ni/3C-SiC 접착력 분석에서 500 $^{\circ}C$ 열처리된 시편의 측정된 임계하중 값은 As-deposited 시편(12 N~ 13 N)보다 훨씬 낮은 2 N~3 N 범위의 값을 보였으나, 열처리 온도가 증가함에 따라 다시 높아지는 경향을 보였다. 미세구조 특성에서는 열처리 온도가 500 $^{\circ}C$ 이상에서는 NiSi$_2$silicides의 domain size는 결정성의 향상에 따라 증가되었다. 결정성 향상이 3C-SiC와 silicides 사이의 격자상수의 낮은 불일치를 완화시키는데 기여 하였 다.

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일반국도 상시조사 교통량 자료의 이상치 판정 알고리즘 개발 (The Outlier-Filtering Algorithm for National Highway Continuous Traffic Counts Data)

  • 신재명;이상협;김현석
    • 대한토목학회논문집
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    • 제33권2호
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    • pp.691-702
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    • 2013
  • 본 연구에서는 요일별 교통량 변동 패턴 기반 평활화법을 활용하여 정량적 이상치 판정 알고리즘을 개발하였다. 또한 개발된 알고리즘을 활용하여 2010년 일반국도 상시조사 지점 중 14개 지점의 교통량 자료에 대한 이상치 필터링을 수행하여 알고리즘의 적합성 여부를 평가하였다. 그 결과 정상일 필터링율은 98.2%, 이상일 중 오필터링율은 8.0%로 평가되었다. 따라서 본 연구에서 개발된 알고리즘은 수집된 교통량 자료의 1차적인 이상치 필터링에 충분히 적용 가능할 것이다.

실리콘 질화막을 이용한 X-ray Lithography마스크용 박막물질의 개발 (Development of $\textrm{SiN}_{x}$-based Membrane for X-ray Lithography Mask Application)

  • 이태호;정창영;이규한;이승윤;안진호
    • 한국재료학회지
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    • 제7권5호
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    • pp.417-422
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    • 1997
  • 본 연구에서는 LPCVD, PECVD, ECR plasma CVD방법을 이용하여 x선 노광 공정용 마스크의 투과막재료로써의 실리콘질화막의 증착과 그의 물성에 관하여 실험하였다. X선 노광 마스크용 투과막의 재질로써 요구되는 적정인장응력에 가지는 증착조건으로 실리콘질화막을 1$\mu\textrm{m}$정도의 두께로 증착하였으며 이 조건에서의 물성을 SIMS, XPS, ESR, AFM, spectrophoto-metry를 이용하여 비교 분석하였다. ECR plasma CVD방법으로 얻은 실리콘 질화막은 화학양론적 조성(Si/N=0.75)에 근접하는 막을 얻을 수 있었으며 표면 평활도와 가시광투과도가 가장 우수한 결과를 얻었다. 저온 증착법인 PECVD로 얻은 막은 Si/N비가 약 0.86정도이고 산소와 수소의 불순물함량이 가장 높게 나타났다. SiH$_{2}$CI$_{2}$를 이용한 LPCVD막의 경우는 Si-rich조성을 가지지만 수소 불순물의 함량이 가장 작게 나타났고 표면거칠기는 가장 나쁘게 나타났다. 그러나 위의 방법으로 얻은 실리콘 질화막의 최대 가시광투과도는 633nm파장에서 모두 90%이상의 값을 나타내었고, 또한 표면 평활도도 0.64-2.6nm(rms)로 현재 연구되고 있는 다른 X선 투과막재료보다 월등히 우수한 결과를 보였다.

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