• Title/Summary/Keyword: 펄스 자외선

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Characteristics of multi-stage dye laser amplification and Second Harmonic Generation (색소레이저의 다단 증폭 및 SHG 특성)

  • 이영우
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • v.8 no.4
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    • pp.946-949
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    • 2004
  • We obtained ultra-short single pulse with an energy of 80 uJ from Distributed feedback Dye laser. Using three stages of amplifiers constructed by two stages of dye amplifiers and one bethune cell amplifier, we obtained high power pulse and second harmonic generation with BBO in ultraviolet region.

Three stage amplification of Distributed Feedback Dye Laser (Distributed Feedback Dye Laser의 3단 증폭특성)

  • 이영우
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2004.05b
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    • pp.339-341
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    • 2004
  • We obtained ultra-short single pulse with an energy of 80 of from self Q-switched Distributed Feedback Dye Laser. Using three stages of amplifiers constructed by two stages of dye amplifiers and one bethune cell amplifier, we obtained high power pulse and second harmonic generation with BBO in ultraviolet region.

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Study of Laser Trimming and Cutting of Printed Circuit Board by using UV Laser with Nanosecond Pulse Width (나노초 펄스폭을 갖는 자외선 레이저를 이용한 전자회로기판의 저항체 트리밍과 절단공정 특성에 관한 연구)

  • Ryu, Kwang-Hyun;Shin, Suk-Hoon;Park, Hyeong-Chan;Nam, Gi-Jung;Kwon, Nam-Ic
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.27 no.10
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    • pp.23-28
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    • 2010
  • Resistance trimming and cutting processes of printed circuit board by making use of high power UV laser with nano-second pulse width have been proposed and investigated experimentally. Also laser-based application system with high flexibility and complex has been designed and adopted power controller, auto beam size control, auto-focusing and control program developed for ourselves. The function of each module shows that they can be reliable for industrial equipments. Resistance trimming method used a plunge and double cut process with $20{\mu}m$ spot size beam. Results show that double cut process is more effective to control resistance trimming in precision than plunge cut process.

Study on High Speed Laser Cutting of Rigid Flexible Printed Circuit Board by using UV Laser with Nano-second Pulse Width (자외선 나노초 펄스 레이저를 이용한 경연성(Rigid Flexible) 인쇄전자회로기판(Printed Circuit Board) 고속 절단에 관한 연구)

  • Bae, Han-Sung;Park, Hee-Chun;Ryu, Kwang-Hyun;Nam, Gi-Jung
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.27 no.2
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    • pp.20-24
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    • 2010
  • High speed cutting processes of rigid flexible printed circuit board by making use of high power UV laser with nano-second pulse width have been proposed and investigated experimentally. Also robust laser cutting system has been designed and developed in order to obtain a good cutting quality of rigid and flexible PCB with multi-layers (2-6 layers). Power controller module developed for ourselves is adapted to control the laser output power in the range less than 1%. The systems show the good performance of cutting speed, cutting width and cutting accuracy, respectively. Especially we have confirmed that the short circuit problem due to the carbonized contamination occurred in cross section of multi-layers by thermal effect of high power laser has been improved largely by using multi-pass cutting process with low power and high speed.

Physiological Properties of Microbial Cells Treated by Pulsed Electric Field(PEF) (고전압 펄스 전기장 처리된 미생물 세포의 생리특성)

  • Kim, Kyung-Tack;Kim, Sung-Soo;Choi, Hee-Don;Hong, Hee-Doo;Ha, Sang-Do;Lee, Young-Chun
    • Korean Journal of Food Science and Technology
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    • v.31 no.2
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    • pp.368-374
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    • 1999
  • This study was designed to investigate effects of pulsed electric field (PEF) treatment on physiological changes of microbial cells, using domestically fabricated pilot scale PEF device. The effect of non-thermal PEF treatment on physiological characteristics of microorganisms was determined by salt resistance, the amount of UV absorbents, cell staining, recovery rate of defected cells, and changes in structure of cell membrane. Salt resistance of Escherichia coli, Bacillus subtilis and Rhodotorula minuta was examined after PEF treatment at 40 kV/cm, 84 pulse, $10{\mu}s$ pulse duration. Approximately $1\;log_{10}$ cell number of viable microorganisms was decreased by addition of salt. PEF treatment significantly increased the amount of UV absorbents at 260 and 280 nm because of leakage from damaged cell membrane by PEF treatment. Although three kinds of microorganisms treated by PEF were difficult to be observed due to their cell membrane damage, untreated cells were clearly observed by a microscope. PEF-treated R. minuta was not stained by methylene blue due to cell membrane defect. When E. coli, B. subtilis and R. minuta were cultured after PEF treatment, they showed 5, 4, and 8 hr longer lag phase, respectively, compared to control, but growth rates were not affected.

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Discharge characteristics of Flat Fluorescent Lamp (FFL(Flat Fluorescent Lamp)의 방전 특정)

  • Kwon, Soon-Seok;Ryu, Jang-Ryeol
    • 전자공학회논문지 IE
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    • v.44 no.1
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    • pp.1-5
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    • 2007
  • This experiment was analysed the discharge characteristics of FFL(flat fluorescent lamp). FFL is operated by sine and pulse wave source. We use FFL which has the electrodes covered with dielectric, observed the discharge characteristics of FFL by V-Q Lissajous' figure. When FFL is operated with pulsed, the discharge current flows after the applied voltage is risen. When the duty ratio increases, the number of metastable xenon atoms seem to increase. Consequently, the 172nm radiation becomes strong as the duty ratio increases.

그래핀 전계효과 트랜지스터의 광응답 특성

  • Lee, Dae-Yeong;Min, Mi-Suk;Ra, Chang-Ho;Lee, Hyo-Yeong;Yu, Won-Jong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.193-194
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    • 2012
  • 그래핀(graphene)은 탄소원자가 육각형 벌집 모양 배열의 격자구조를 가지는 원자 한층 두께의 이차원 물질이다. 그래핀은 전도띠(conduction band)와 가전자띠(valence band)가 한 점에서 만나고 에너지와 역격자의 k 벡터가 선형적으로 비례하는 에너지 구조를 가진다. 이로 인해 그래핀은 매우 빠른 전하 이동도를 가지며 원자 한 층의 두께임에도 불구하고 약 2.3%의 빛을 흡수할 수 있으며 자외선 영역부터 적외선 영역까지의 넓은 파장대의 빛을 흡수 할 수 있다. 이와 같은 그래핀의 우월한 성질을 이용하면 광 응답에 고속으로 반응하고 높은 주파수의 광통신에서도 작동 할 수 있는 그래핀 광소자를 제작할 수 있게 된다. 하지만 미래의 고속 그래핀 광소자를 실현하기에 앞서 그래핀의 광응답에 대한 정확한 이해가 필요하다. 그리하여 본 연구에서는 그래핀 광소자를 제작하고 광소자의 광응답 전기적 성질을 분석하여 그래핀의 광응답 특성을 얻어내고자 실험을 진행하였다. 그래핀을 채널 물질로 하고 소스, 드레인, 후면 게이트를 가지는 일반적인 그래핀 전계효과 트랜지스터(field-effect transistor)를 제작하고 채널에 빛을 비추고 비추지 않은 상태에서의 전기적 성질을 측정하고 그 때 얻어진 그래프의 광응답의 원인을 조사하였다. 이 때 얻어지는 $I_D-V_G$ 그래프가 광 조사 시 왼쪽으로 이동하게 되는데 이의 원인을 각 게이트 전압 구간별로 $I_D$-t 그래프를 획득하여 분석하였다. 또한 광원에 펄스를 인가하여 펄스 형태의 광원을 그래핀 전계효과 트랜지스터에 조사시키고 이에 따른 전기적 성질 변화를 관찰하였다 이 때 다양한 게이트 전압이 인가된 상태에서 레이저 펄스 광원에 의한 광전류를 검출하였으며 이를 분석하였다.

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$CF_4$/Ar를 이용한 유기고분자 기판의 펄스 직류전원 건식 식각

  • Kim, Jin-U;Choe, Gyeong-Hun;Park, Dong-Gyun;Jo, Gwan-Sik;Lee, Je-Won
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.91-91
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    • 2010
  • 본 논문은 펄스 직류전원 (Pulse DC) 플라즈마 소스와 반응성 가스인 $CF_4$와 불활성 가스인 Ar를 혼합하여 산업에서 널리 사용되는 유기고분자인 Polymethylmethacrylate (PMMA), Polyethylene terephthalate (PET), 그리고 Polycarbonate (PC) 샘플을 건식 식각한 결과에 대한 것이다. 각각의 샘플은 감광제 도포 후에 자외선을 조사하는 포토레지스트 방법으로 마스크를 만들었다. 펄스 직류전원 플라즈마 시스템을 사용하면 다양한 변수를 줄 수 있다는 장점이 있다. 공정 변수는 Pulse DC Voltage는 300 - 500 V, Pulse DC reverse time $0.5{\sim}2.0\;{\mu}s$, Pulse DC Frequency 100~250 kHz 이었다. 변수 각각의 값이 높아질수록 고분자의 식각률이 높아졌다. 특히, PMMA의 식각률이 가장 높았으며 PET, PC 순이었다. 샘플 중 PC의 식각률이 가장 낮은 이유는 고분자 결합 중에 이중결합의 벤젠 고리 모양을 포함하고 있어 분자 결합력이 비교적 높기 때문으로 사료된다. 기계적 펌프만을 사용한 공정 전 압력은 30 mTorr이었다. 쓰로틀 밸브를 완전 개방한 상태에서 식각 공정 중 진공 압력은 $CF_4$ 가스유량이 늘어날수록 증가하였다. 식각률 역시 $CF_4$ 가스유량(총 가스 유량은 10 sccm)이 많을수록 증가함을 보여주었다 (PMMA: 10 sccm $CF_4$에서 330 nm/min, 3.5 sccm $CF_4$/6.5 sccm Ar에서 260 nm/min., PET: 10 sccm $CF_4$에서 260 nm/min, 3.5 sccm $CF_4$/6.5 sccm Ar에서 210 nm., PC: 10 sccm $CF_4$에서 230 nm, 3.5 sccm $CF_4c$/6.5 sccm Ar에서 160 nm). 이는 펄스 직류전원 플라즈마 식각에서 $CF_4$와 Ar의 가스 혼합비를 조절함으로서 고분자 소재의 식각률을 적절히 변화시킬 수 있다는 것을 의미한다. 표면 거칠기는 실험 후 표면단차 측정기와 전자 현미경 등을 이용하여 식각한 샘플의 표면을 측정하여 알 수 있었다. 실험전 기준 샘플 표면 거칠기는 PMMA는 1.53nm, PET는 3.1nm, PC는 1.54nm 이었다. 식각된 샘플들의 표면 거칠기는 PMMA는 3.59~10.59 nm, PET은 5.13~11.32 nm, PC는 1.52~3.14 nm 범위였다. 광학 발광 분석기 (Optical emission spectroscopy)를 이용하여 식각 공정 중 플라즈마 발광특성을 분석한 결과, 탄소 원자 픽 (424.662 nm)과 아르곤 원자 픽 (751.465 nm, 763.510 nm)의 픽의 존재를 확인하였다. 이 때 탄소 픽은 $CF_4$ 가스에서 발생하였을 것으로 추측한다. 본 발표를 통해 펄스 직류전원 $CF_4$/Ar의 고분자 식각 결과에 대해 보고할 것이다.

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A study on the second-harmonic generation by the pulsed Nd:YAG laser (펄스형 Nd:YAG 레이저의 제 2고조파(SHG) 발생기법에 관한 연구)

  • Im, K.H.;Hong, J.H.;Lee, D.H.;Kim, H.J.;Cho, J.S.
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 1998.07e
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    • pp.1690-1692
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    • 1998
  • 레이저가 산업 응용 전반에 걸쳐 아주 중요한 부분으로 자리잡고 있으며, 최근에 와서는 레이저 의료기기, 레이저 가공, 레이저 핵 융합 등과 같은 다수의 분야에 강력한 가시광이나 자외선 광을 필요로 하고 있다. 이에 본 실험실에서 보유한 다단메쉬 중첩 기술을 이용하여 각 중첩 메쉬에 같은 에너지를 인가했을 때의 레이저 출력과 녹색광 출력간의 상관관계와 다단메쉬에 따른 변환효율도 조사하였다.

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Determination of Chloramphenicol by Differential Pulse Polarography (미분 펄스 폴라로그래피에 의한 Chloramphenicol의 정량분석)

  • Younghee Hahn;Jung-Sun Jeon
    • Journal of the Korean Chemical Society
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    • v.36 no.4
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    • pp.552-557
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    • 1992
  • Chloramphenicol was studied by differential pulse polarography (DDP). A reduction peak which is dependent on pH of the solution appeared in the voltage range between zero and -1.50 volt vs. Ag/AgCl (sat. KCl) reference electrode. A plot of peak potentials (Ep) measured at room temperature (20$^{\circ}C$) vs. pH of the chloramphenicol solutions showed linear relationship changing slope (Ep/pH) at pH 8.9. The slope was -59.7 mV/pH in pH 2.7∼8.9 and -24.3 mV/pH in pH 8.9∼11.2, respectively. A log plot of peak currents (ip) vs. concentrations showed a linearity at the concentrations between 4.8 ${\times}$ 10$^{-7}$ M and 6.2 ${\times}$ 10$^{-5}$ M (0.16 ppm∼20 ppm) chloramphenicol in pH 8.0 ammonium buffer. Between the DPP method and the reference method measuring absorbance at 278 nm, the correlation coefficient was 0.996, which means an excellent linearity. The DPP method was able to detect degradation products of chloramphenicol in mild alkaline solution (pH = 8.0) more distinctly than the spectrophotometric method.

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