• 제목/요약/키워드: 패턴제작

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핫 엠보싱을 이용한 3차원 미세 구조물 복제에 관한 연구

  • 박선준;정성일;정해도
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2004년도 춘계학술대회 논문요약집
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    • pp.150-150
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    • 2004
  • 현재의 핫 엠보싱 기술은 나노/마이크로 패턴의 복제 기술로 다방면에서 연구되어지고 있다. 기존에 알려진 핫 엠보싱 기술은 하드 몰드를 사용하여 열과 압력을 가해서 PR 패턴 제작이나 나노/마이크로 구조물을 제작하였다. 그러나 이러한 하드 몰드의 사용은 3차원 구조물을 구현할 수 없다는 단점이 있다. 이에 본 연구에서는 하드 몰드 대신 소프트 몰드를 사용하여 3차원 미세 구조물을 구현해 보고자 한다.(중략)

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원통형 공작물에서 미세패턴의 디버링 및 버의 생성 메커니즘 (Study on Deburring and Burr Mechanism of Fabricated Micro-Pattern on Cylindrical Workpiece)

  • 진동현;이성호;곽재섭
    • 대한기계학회논문집A
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    • 제41권4호
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    • pp.251-255
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    • 2017
  • 미세 패턴의 기계적 가공에서는 버의 발생이 불가피하고, 패턴과 버의 크기가 매우 작아 이를 구분하기 어렵다. 본 연구에서는 turning machine을 이용하여, 원통형 공작물의 옆면에 패턴의 피치와 높이가 각각 60, $1{\mu}m$인 마이크로 패턴을 제작하고, 패턴의 형상을 이용하여 버의 형상과 생성 메커니즘을 정의하였다. 또한, 자기연마 디버링을 이용하여 마이크로 패턴의 정밀도를 높이고자 하였다. 그 결과, 미세패턴의 제작 시, 공구의 이송방향에 따라 버의 생성방향이 결정됨을 확인할 수 있었다. 또한, 자기연마디버링 공정에서 자속밀도와 공구의 회전속도가 각각 40mT, 1600rpm일 때, 패턴의 높이는 $1.018{\mu}m$로 측정되었으며, 자기연마 디버링에 가장 적합한 조건임을 알 수 있었다.

TRL 오차 수정 방법을 개선한 특성 임피던스 추출 (Characteristic Impedance Extraction Using TRL Calibration and a Additional Standard)

  • 김유신;이창석
    • 한국전자파학회:학술대회논문집
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    • 한국전자파학회 2001년도 종합학술발표회 논문집 Vol.11 No.1
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    • pp.275-278
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    • 2001
  • TRL 오차 수정방법은 기판 위에 제작된 고주파 소자를 측정할 때 많이 사용되는 방법이지만 오차수정을 위해 제작된 표준 전송선 패턴의 특성 임피던스를 알아야만 보다 정확하게 측정 오차를 수정할 수 있다. 기존의 방법에서는 저항을 종단 처리한 표준 패턴을 추가로 이용하여 전송선의 단위 길이 당 커패시턴스를 계산하고 주파수에 대해 fitting하는 방법으로 표준 전송선의 특성 임피던스를 계산하고 있으나 제작상의 부정확성에 의해 추출된 특성임피던스가 영향을 받고 있음을 확인하였다. 본 연구에서 제안하는 새로운 방법을 이용하면 fitting하는 과정 없이 각각의 측정주파수에서 직접 특성 임피던스 추출이 가능할 뿐 아니라 제작상의 부정확성을 측정결과로부터 처리할 수 있으며 검증 결과 기존 방법 보다 정확한 특성 임피던스를 추출할 수 있었다.

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Thermal embossing 공정을 이용한 PDMS mold 제작에 관한 연구 (A study on PDMS mold fabrication using thermal embossing method)

  • 김동학;유홍진;김창교;장석원;김태완
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제5권3호
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    • pp.223-226
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    • 2004
  • 나노 패턴을 갖는 미세 구조물을 낮은 비용으로 생산하기 위해서는 플라스틱 재료를 이용하는 것이 필수적이고, 대량생산이 가능한 가공방법으로 사출성형 공정기술이 유망하다. 본 연구에서는 e-beam 리소그라피로 제작된 석영원판 내의 100-500nm크기의 선과 점 형상을 간단한 thermal embossing 공정을 이용하여 액상 PDMS를 고형화 시킨 후에 원판과 분리시켜 PDMS 몰드를 제작하였다. 실험결과, 원판에 있는 나노 크기의 다양한 패턴들은 PDMS 몰드에 균일하게 전사되었고, 이 몰드는 사출성형용 스탬퍼 제작에 유용하게 이용될 수 있을 것으로 사료된다.

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MEMS 공정을 이용하지 않는 미세구조물 제작에 관한 연구 (A Study on fabrication of micro structure not using MEMS processing)

  • 유홍진;김동학;장석원;김태완
    • 한국산학기술학회:학술대회논문집
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    • 한국산학기술학회 2004년도 춘계학술대회
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    • pp.267-269
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    • 2004
  • 본 연구에서는 일반적인 미세구조물 제작공정인 lithography 공정을 이용하지 않고 SLS(Selective Laser sintering)형 RP(Rapid Prototyping system)을 이용하여 패턴의 깊이가 400$\mu$m인 미세구조물을 제작하였다. 제작 공정변수 중 재료의 상태가 new powder 이고 배치각이 $0^{\circ}$ 일 때 패턴의 깊이, 선폭과 표면조도가 가장 잘 구현되었다.

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SWCNT 다중채널 FET용 표면 프로그램된 APTES와 OTS 패턴을 이용한 공정에 대한 연구 (Programmed APTES and OTS Patterns for the Multi-Channel FET of Single-Walled Carbon Nanotubes)

  • 김병철;김주연;안호명
    • 한국정보전자통신기술학회논문지
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    • 제8권1호
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    • pp.37-44
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    • 2015
  • 본 논문에서 전계효과 트랜지스터 (field effect transistor; FET) 제작을 위한 표면 프로그램된 aminopropylethoxysilane(APTES)와 1-octadecyltrichlorosilane(OTS) 패턴을 이용하여 단일벽 탄소 나노튜브(single-walled carbon nanotube; SWCNT)를 실리콘 기판 위에 선택적으로 흡착시키는 공정방법을 제안하였다. 양성 표면 분자 패턴을 만들기 위해 형성된 APTES 패턴은 많은 양의 SWCNT의 흡착을 위해 제작되었고, OTS 만을 이용한 공정보다 효과적인 SWCNT 흡착이 가능하다. 산화막(silicon dioxide)이 형성된 실리콘 기판 위에 사진공정(photolithography process)을 이용하여 임의의 감광액(photoresist; PR) 패턴이 형성되었다. PR 패턴이 형성된 기판은 헥산 용매를 이용하여 1:500 (v/v)로 희석된 OTS 용액 속에 담가진다. OTS 박막이 표면 전체에 만들어지고, PR 패턴이 제거되는 과정에서 PR 위에 형성되었던 OTS 박막도 같이 제거되어, 선택적으로 형성된 OTS 박막 패턴을 얻을 수 있다. 이 기판은 다시 에탄올 용매를 이용하여 희석된 APTES 용액 속에 담가진다. APTES 박막은 OTS 박막 패턴이 없는 노출된 산화막 위에 형성된다. 마지막으로 이처럼 APTES와 OTS에 의해 표면 프로그램된 기판은 SWCNT가 분산된 다이클로로벤젠(dichlorobenzene) 용액 속에 담가진다. 결과적으로 SWCNT는 양 극성을 띠는(positive charged) APTES 박막 패턴 위에만 흡착된다. 반면 중성O TS 박막 패턴 위에는흡착되지 않는다. 이러한 표면 프로그램 방법을 사용하여 SWCNT는 원하는 영역에 자기 조립시킬 수 있다. 우리는 이 방법을 이용하여 소오스와 드레인 전극사이에 SWCNT가 멀티 채널로 구성된 다중채널 FET를 성공적으로 제작하였다.

UV 경화성 수지를 이용한 가구용 옵티컬 일루젼 디자인 패턴 개발 (Development of Optical Illusion Design Pattern for Furniture Using a UV Curing Resin)

  • 김기출
    • 융합정보논문지
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    • 제7권1호
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    • pp.43-48
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    • 2017
  • 디자인 트렌드는 시대에 따라 변해왔으며, 최근 21세기의 디자인 트렌드는 환경 친화적인 디자인이 대세이다. 특히 디지털 컨버전스 시대로 불리는 최근에는 옵티컬 일루젼 디자인이라는 새로운 디자인 트렌드가 부상하고 있다. 본 논문에서는 환경 친화적인 UV 경화성 수지를 이용하여 가구용 옵티컬 일루젼 패턴을 디자인하였다. 디자인된 옵티컬 일루젼 미세 패턴을 포토리소그라피 반도체 미세패턴 공정으로 제조된 마이크로 몰드를 이용하여 제조하였다. 옵티컬 일루젼 미세 패턴은 PET 필름 위에 UV 경화성 수지와 롤투롤 공정으로 제조되었다. 제조된 옵티컬 일루젼 미세패턴 PET 필름은 홀로그램 효과를 나타내었으며, 필름 배면에 실시한 디지털 프린팅으로 금속 질감을 나타내었다. 제조된 옵티컬 일루젼 디자인 패턴을 이용하여 emotional furniture로 부르는 새로운 디자인 개념의 가구를 제작하였다. 가구 제작에는 다양한 옵티컬 일루젼 디자인 패턴이 적용되었다. 이러한 UV 몰드에 의한 옵티컬 일루젼 디자인 패턴은 인테리어 디자인 소재의 새로운 트랜드가 될 것으로 전망된다.

패턴제작 교육용 영상콘텐츠 개발을 위한 유튜브 영상 현황 분석 (Analysis of characteristics of YouTube video contents for the development of pattern drafting video)

  • 강여선
    • 복식문화연구
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    • 제27권6호
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    • pp.599-614
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    • 2019
  • The aim of this study to provide basic reference data for the development of video contents used in pattern drafting education and to explore the possibility of utilizing YouTube videos in such education. Subject videos were selected using the number of views. A total of 596 videos and 28 channels were analyzed for the period July to September 2019 and the results are as follows. With regard to content, there were 27 pattern drafting items, the majority being dress, pants, skirt, blouse and sleeve drafting, although high-level content such as cowl, bustier, corset patterns were also available. Therefore, there is a high likelihood that YouTube videos could be used as educational material, especially as supplementary references to provide specific examples and easy explanations for difficult concepts or method, for students majoring in this field. However, as most videos currently focus on a few items, expanding video content to features a wider variety of clothing items at different levels is necessary. With regard to video length, it mostly ranged from 10 to 15 minutes. It is not advisable to create lengthy lecture-style videos expounding on different principles or variations in pattern drafting when developing educational video material.

균일 밝기 랜덤 도트 어레이 생성을 위한 이진 회절광학소자 설계 및 제작 (Design and Fabrication of Binary Diffractive Optical Elements for the Creation of Pseudorandom Dot Arrays of Uniform Brightness)

  • 이수연;이준호;김영광;이혁교;이문섭
    • 한국광학회지
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    • 제33권6호
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    • pp.267-274
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    • 2022
  • 쉴리렌 이미징을 위한 랜덤 도트 배열 투영용 이진 회절광학소자를 설계하고 제작하였다. 이 연구에서 적용된 회절광학소자는 단 두 단계의 위상 및 10 ㎛의 피치를 갖는 이진 위상 회절 격자로, 제작 단가 및 제작 공정의 용이성을 위하여 선택되었다. 회절광학소자의 설계는 최종 패턴의 밝기 정보를 목적 함수로 사용하는 iterative Fourier transform algorithm을 적용하였다. 먼저 균일 밝기의 랜덤 도트 이미지를 생성하였고, 이를 최종 목표 이미지(패턴)로 적용한 결과, 위치(시야)에 따른 랜덤 도트의 밝기 변화를 확인하였다. 이를 해결하기 위하여 최종 목표 패턴에 가우시안 가중치를 적용한 개선 설계를 적용하였고, 그 결과 패턴 밝기 균일도를 52.7%에서 90.8%까지 향상시켰다. 이후, 바이너리 회절 소자 및 이를 적용한 빔 투사기를 제작하여 설계 결과를 검증하였다. 검증 결과 투사 거리 5 m에서 설계 목표인 430 mm × 430 mm 투광면적, 10,000개 이상의 랜덤 도트 패턴의 생성을 확인하였다. 측정된 균일도는 시뮬레이션에서 예상되었던 균일도보다 다소 적은 84.5%이나, 이는 회절 격자 형상, 특히 모서리 뭉개짐 및 간격 오류에 의한 것으로 추정된다.