Properties of TiN Thin Films deposited on Aluminum and Stainless substrates by DC Reactive Magnetron Sputtering with Electromagnetic Field System (고밀도 플라즈마 반응성 스퍼터링 법으로 알루미늄 기판과 스테인리스 기판에 증착된 2차 연료 전지용 금속 분리판을 위한 TiN 박막의 특성 연구)
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- Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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- 2011.05a
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- pp.178-179
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- 2011