The Effects of Al-doped ZnO Thin Films Deposited as a function of the Plasma Process Parameters with Hydrogen Gas by Facing Target Sputtering System (대향타겟식 스퍼터를 이용한 AZO 박막의 플라즈마 변수와 수소 가스 유량에 따른 효과)
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- Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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- 2012.05a
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- pp.145-146
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- 2012