Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

The Effects of Al-doped ZnO Thin Films Deposited as a function of the Plasma Process Parameters with Hydrogen Gas by Facing Target Sputtering System

대향타겟식 스퍼터를 이용한 AZO 박막의 플라즈마 변수와 수소 가스 유량에 따른 효과

  • 심병철 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 김성일 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 최윤석 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 최인식 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 한전건 (성균관대학교, 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소)
  • Published : 2012.05.31
Download PDF
⟨ Previous Next ⟩

Abstract

Al이 2wt% 첨가된 AZO(Al-doped ZnO) 타겟을 기판을 가열한 대향 타겟 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 수소 유량에 따라 유리기판 위에 AZO 박막을 증착하였다. 수소 유량에 따른 AZO 박막내의 carrier concentration와 mobility의 변화를 확인하였으며 박막내 crystallinity와 grain size의 변화를 확인하였다. 증착된 AZO 박막 특성의 구조적, 전기적, 광학적 변화조사하고 비저항 및 광투과도 등을 분석하여 투명전극용으로 적합한지 연구하였다.

Keywords