고주파 스펴터링에 의한 Ef$^+$ :SiO$_2$ 박막 제작 특성
(The characteristic of Er$^+$ :SiO$_2$ thin film preparation by rf sputtering method)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 1997년도 추계학술대회 논문집
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- pp.90-93
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- 1997