• Title/Summary/Keyword: 천 마스크

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DUV lithography 위상 변위 마스크용 Zr, Hf Oxide의 전자상태 및 천이 상태 연구 (The electronic states and transition state of Zr and Hf oxide as a phase shift maske for DUV lithography)

  • 김성관;김양수;노광수;허성민;최성운;송정민
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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    • pp.215-215
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    • 2003
  • 현재 이용되고 있는 위상 변위 마스크, 즉 Cr 계열의 마스크나 MoSiON 마스크는 DUV지역에서 낮은 굴절률을 갖는다. 그 겯과 마스크의 두께가 90 nm 이상이 되고, 웨이퍼에서 패턴 형성 시 에러율이 증가하게 된다. 본 연구에서는 DUV 지역에서 굴절률이 높을 것이라고 예상되는 Zr과 Hf의 oxide를 위상 변위 마스크 물질의 선정하고 각 물질의 전자 상태와 천이 상태를 분석하여 위상변위 마스크로써의 이용가능성을 연구하자 한다. 상온에서 Zr, Hf oxide의 안정한 구조는 cubic 구조와 monoclinic 구조이다. 현재 cubic 구조의 Zr, Hf oxide에 대한 전자 상태는 연구가 많이 되어 있는 반면 monoclinic 구조에서의 전자상태 연구는 미흡하다. 본 연구에서는 monoclinic 구조를 이용하여 Zr, Hf oxide의 클러스터 모델을 제작하였다. 제작된 클러스터 모델에 대하여 DV-X$\alpha$ 계산법을 적용, 기저상태의 전자상태를 계산하였다. 그리고 각 모델에서 Zr L-edge, Hf L-edge 그리고 O K-edge의 천이상태를 연구하여, 기저 상태의 전자상태와 천이상태를 연구하여 광학 성질과의 연관성을 연구하고자 하였다.

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위상천이 네트워크를 사용한 X-마스크 기법 (An X-masking Scheme for Logic Built-In Self-Test Using a Phase-Shifting Network)

  • 송동섭;강성호
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제44권2호
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    • pp.127-138
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    • 2007
  • 본 논문에서는 최대길이 의사무작위 이진 시퀀스(m-시퀀스)의 쉬프트-덧셈 특성에 근거한 위상천이를 이용하여 회로 출력에 나타나는 X-값을 효과적으로 마스크 함으로써 내장된 자체 테스트를 실현할 수 있는 기법을 제안한다. 이 기법은 패턴생성기인 LFSR의 출력을 적절하게 위상천이 하여 마스크 패턴을 생성할 수 있는 위상천이 네트워크를 이용한다. 테스트 절차 동안에 각 스캔 체인에 인가되는 마스크 패턴의 위상 천이 수는 재구성 가능하다. LFSR의 출력을 적절하게 위상 천이하여 모든 스캔 체인 마스크 패턴을 생성할 수 있는 위상천이 네트워크 합성 알고리즘을 제안한다. 본 논문에서 제안하는 X-마스크 회로는 각 스캔 체인 마스크 패턴을 생성할 수 있는 후보 위상천이 수가 많기 때문에 하드웨어 오버헤드를 효과적으로 감축할 수 있다. 실험을 통하여 제안된 위상천이를 이용한 X-마스크 회로는 기존의 연구 결과보다 훨씬 적은 저장공간과 하드웨어 오버헤드를 필요로 함을 증명한다.

Ti 함량 변화에 따른 X선 노광 마스크용 W-Ti 흡수체의 물성 연구 (A Study on the W-Ti Absorber Properties with Various Ti Composition for X-ray Lithography Mask)

  • 김경석;이규한;임승택;이승윤;안진호
    • 한국재료학회지
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    • 제10권3호
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    • pp.218-222
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    • 2000
  • W에 소량의 Ti를 첨가하여 그 함량 변화에 따른 X-선 마스크 흡수체용 W-Ti 박막의 물성을 연구하였다. W-Ti 박막은 DC magnetron sputtering system을 이용하여 증착하였다. Sputtering 증착시 증착압력의 증가에 따라 박막의 밀도는 감소하였으며 박막의 응력은 압축응력으로 바뀌었다. Ti 함량이 증가함에 따라 천이 압력 근방에서의 응력곡선의 기울기가 감소하였으며 천이 압력도 점차 낮아지는 경향을 보였다. Pure-W 시편의 경우 천이 압력이 약 6.5mTorr로 비교적 높았으며, 이 때 박막의 밀도는 $17.8g/\textrm{cm}^3$이었고 함량 6.5%에서 가장 낮은 천이 압력(4.3mTorr)을 보였으며, 이때의 박막 밀도는 $17.7g/\textrm{cm}^3$로 pure-W과 거의 차이가 없음을 알 수 있었다. SEM을 이용한 미세구조 분석결과 pure-W 박막은 원형의 주상정 조직을 보이고 있으며, Ti가 첨가된 W-Ti 박막의 경우에는 가늘고 긴 침상 모양을 가지는 주상정 조직을 형성하고 있다. 또한 이러한 침상조직은 Ti함량이 증가할수록 더욱 발달하고 있으며, AFM 분석결과 Ti 첨가 시편 모두 $18{\AA}$이하의 우수한 평균 표면 평활도를 나타내었다. 나타내었다.

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COVID-19의 확산으로 인한 국내 소비자의 마스크 사용현황과 만족도 조사 (Survey on Current Mask Use and Satisfaction Among Domestic Consumers During COVID-19)

  • 황나원;이광우
    • 한국의류산업학회지
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    • 제24권4호
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    • pp.399-407
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    • 2022
  • Wearing a mask is essential during the ongoing COVID-19 pandemic. For this study, an online survey was conducted on the actual use of masks among adults in their twenties and older. We used 389 questionnaires for the final analysis, excluding insincere or incomplete questionnaires. We then analyzed the responses using descriptive statistical analysis, frequency analysis, t-test, and ANOVA. More than half of the respondents indicated that they wore a mask for five to ten hours a day, with KF masks being the most frequently used. Participants who most frequently used cloth masks were more likely to consider color, design, and eco-friendliness, while those who used KF masks were more concerned with price and safety. There was no significant difference in purchase satisfaction between mask types, but the purchase intention was higher for KF masks. When purchasing a KF mask, there were significant differences across genders in terms of price and eco-friendliness preferences. There were also significant differences across age groups in price, eco-friendliness, skin irritation, and comfort preferences. Previous studies have shown a significant difference in gender and age in terms of preferred mask colors and designs. However, this survey found no significant difference across these categories. These findings indicate those mask manufacturers should consider safety and eco-friendliness over mask color and design.

위상 천이 디지털 홀로그래피 및 디지털 워터마킹 기반 디지털 홀로그램의 이중 암호화 (Double Encryption of Digital Hologram Based on Phase-Shifting Digital Holography and Digital Watermarking)

  • 김철수
    • 한국산업정보학회논문지
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    • 제22권4호
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    • pp.1-9
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    • 2017
  • 본 논문에서는 위상 천이 디지털 홀로그래피(PSDH; Phase-Shifting Digital Holography) 및 디지털 워터마킹(Digital Watermarking) 기반 디지털 홀로그램의 이중 암호화 기술을 제안한다. 이를 위해 먼저 디지털 워터마크에 사용할 로고 영상을 정하고, 이 영상에 대한 이진 위상 컴퓨터형성 홀로그램(CGH; Computer Generated Hologram)을 반복 알고리즘을 이용하여 설계한다. 그리고 랜덤하게 발생시킨 이진 위상 마스크를 워터마크로 정하고, 설계된 이진 위상 CGH와 XOR 논리연산을 통해 워터마크 정보에 대한 키 영상을 생성한다. 그리고 물체 영상을 위상 변조하여 세기가 일정한 함수로 만든 후, 워터마크인 랜덤하게 발생시킨 이진 위상 마스크를 곱하여 물체파를 생성한다. 이 물체파는 워터마크 정보가 포함된 잡음과 유사한 패턴을 가지는 1차 암호화된 영상이라고 할 수 있다. 이를 2-단계 PSDH기술을 적용하여 기준파와 간섭을 시키면 가시성이 향상된 최종 간섭무늬를 얻는다. 이 간섭패턴이 최종적으로 구하고자 하는 물체 영상의 2차 암호화된 영상이 된다. 암호화된 영상의 복호화는 2-단계 PSDH기술을 통한 암호화된 영상들을 이용하여 적절한 산술연산 처리한 후, 프레즈넬 변환 및 1차 암호화 과정의 역순으로 진행하면 된다. 제안된 방법의 암호화 및 복호화 기술은 컴퓨터 시뮬레이션을 통하여 검증된다.

랜덤 위상 마스크와 2-단계 위상 천이 디지털 홀로그래피를 이용한 이진 영상 이중 암호화 (Double Encryption of Binary Image using a Random Phase Mask and Two-step Phase-shifting Digital Holography)

  • 김철수
    • 한국멀티미디어학회논문지
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    • 제19권6호
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    • pp.1043-1051
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    • 2016
  • In this paper, double encryption technique of binary image using random phase mask and 2-step phase-shifting digital holography is proposed. After phase modulating of binary image, firstly, random phase mask to be used as key image is generated through the XOR operation with the binary phase image. And the first encrypted image is encrypted again through the fresnel transform and 2-step phase-shifting digital holography. In the decryption, simple arithmetic operation and inverse Fresnel transform are used to get the first decryption image, and second decryption image is generated through XOR operation between first decryption image and key image. Finally, the original binary image is recovered through phase modulation.

구조자의 위치에 따른 적절한 후두마스크기도기 삽입방법은 무엇일까? : 검지손가락법과 엄지손가락법의 비교 (Which is the proper insertion method of laryngeal mask airway according to the rescuer's position? : Comparison between index finger insertion and thumb insertion)

  • 천경하;문준동
    • 한국응급구조학회지
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    • 제21권3호
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    • pp.7-16
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    • 2017
  • Purpose: The purpose of the study was to investigate the effects of laryngeal mask airway (LMA) insertion from different positions, using different methods, on the quality of the insertion, for identifying a more convenient and effective insertion method. Methods: In a model ambulance, 30 paramedic students performed the LMA insertion procedure, in four different settings, combinations of the rescuer's position (at the head end of the patient, at the side of the patient), and insertion technique (index finger insertion, thumb insertion), in a randomized order. Quality of insertion index and convenience of use were measured. Results: The quality of insertion index (tidal volume, gastric insufflation, airway pressure, airway sealing pressure, midline positions, insertion success grade, and insertion time) were not significantly different among four different settings. However LMA insertion from the anterior (head) end, using the index finger method compared to the thumb method was found to be significantly more convenient. Conclusion: We recommend using the more convenient and familiar LMA insertion method, between index finger insertion and thumb insertion, regardless of rescuer's position.

전압 레귤레이터를 내장한 이동통신용 VCO(Voltage Controlled Oscillator) 설계 (Design of VCO(Voltage Controlled Oscillator) for mobile communication with a built-in voltage regulator)

  • 조현묵
    • 한국음향학회지
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    • 제16권4호
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    • pp.76-84
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    • 1997
  • 본 논문은 이동통신기기의 핵심부품중 하나인 VCO를 IC로 설계한 내용을 기술하였다. 설계한 VCO는 배리캡을 사용한 LC 동조형발진기로 구현하였다. 사용한 발진소자중 인덕터는 실리콘 IC 구현상의 난점[8]으로 인해 외부로 구성하고 나머지부분을 모두 IC화 하였다. 제작하는데 사용된 마스크 수는 15개이며 칩 사이즈는 1150um${\times}$780um이다. 제작한 VCO IC를 테스트한 결과 전원전압 5V에서 제어전압을 1V에서 3V로 변화시킬때 880MHz 영역에서 동작하였으며 주파수 천이는 425KHz/V, 주파수 편이는 1.97MHz/T, 캐리어 레벨은 -7dBm, 전류소모는 16.7mA이었다. 또한, 위상 잡음은 50KHz 오프셋에서 -80dBc/Hz 이며 중심주파수에 대한 하모닉응답은 -41dBm 이다. 향후 송수신단을 단일 칩화하기 위해서는 외부회로도 실리콘 기판위에 구현할 수 있는 실리콘 MMIC[1][8]에 대한 연구가 수행되어야 할 것이다.

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Content Addressable and Reentrant Memory (CARM)의 설계에 관한 연구 (A Study on the Design of Content Addressable and Reentrant Memory(CARM))

  • 이준수;백인천;박상봉;박노경;차균현
    • 한국통신학회논문지
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    • 제16권1호
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    • pp.46-56
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    • 1991
  • 본 논문에서는 16위도 X 8비트 Content Addressable and Reentrant Memory(CARM)를 설계하였다. CARM은 읽기, 저장, 매칭, 리엔트린트(Reentrant)의 4가지 동작 모드를 수행한다. CARM의 읽기와 저장 동작은 기존의 스태틱 RAM과 같다.CARM은 집 장에서 레영역 회수(Garbate collection)를 조건적으로 수행할 수 있는 리엔트런트 동작을 가지고 있다. 이러한 기능은 다이내믹 데이타 플로우 컴퓨터의 고속 매칭 유닛에 사용될 수 있다. CARM은 또한 매칭어드레스를 그들의 우선권에 따라 순차적으로 인코딩을 할 수 있는 기능을 가지고 있다. 이러한 CARM은 전체적으로 메모리 셀, 순차적 어드레스 인코더(Sequential Address Encoer, S.A.E), 리엔트런트 동작, 읽기/저장 제어, 데이타/마스크 레지스터, 감지 증폭기, 인코더, 디코더 등의 8개의 블럭으로 구성된다.CARM은 데이타 플로우 컴퓨터, 패턴 인식,테이블 룩업(Table look-up), 영상처리 등에 응용될 수 있을 것이다. 설계된 회로에 대해 각 동작별로 Apollo 워크스테이션의 QUICKSIM을 이용하여 논리 시물레이션을 하였고, 각 블럭별 회로의 SPICE 시뮬레이션을 하였다. 시뮬레이션결과 액세스 타임은 26ns였고, 매치 동작을 수행하는 데에는 4lns의 자연시간이 소요됐다. 결체 레이아웃은 3{\;}\mu\textrm{m} n well CMOS 공정에 따른 설계 규칙을 이용하여 수행하였다.

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