• Title/Summary/Keyword: 정공 이동도

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A theory on the impossibility of the moving for hle and the primary electron as a carrier using the analyses, by quantum mechanics, of the structure of atoms and molecules (양자역학적 원자 및 분자 분석에 의한 정공의 이동 불가능성과 운반자로써의 주도 전자에 관한 이론)

  • 주정규
    • Proceedings of the IEEK Conference
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    • 1998.06a
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    • pp.327-330
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    • 1998
  • In this theory, we explained the impossibility of the motion or miving of the hole that has been recognized to be a carrier, by giving some fundamental reasons. We treated energy gap and impurity concentration, in p- and n-type region, as functions of the mobility that is one of te factors which determine current quantity, and analyzed the primary electron theory as a carrier by introducing 2 hypotheses.

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The Discretization Method of the Stationary Drift-Diffusion Equation with the Fermi-Dirac Statistics (정상상태에서 Fermi 분포를 고려한 드리프트-확산 방정식의 이산화 알고리즘)

  • 이은구;강성수;이동렬;노영준;김철성
    • Proceedings of the IEEK Conference
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    • 2001.06b
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    • pp.157-160
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    • 2001
  • 소자 내부의 전위와 전자 및 정공 의사 페르미 준위에 따른 반송자의 정확한 농도를 얻기 위해 Fermi-Dirac통계를 구현하는 방법을 제시하였다. 또한 Fermi-Dirac통계를 고려하여 반도체 방정식을 이산화하는 방법을 제안한다. 제안된 방법을 검증하기 위해 전력 바이폴라 접합 트랜지스터를 제작하였으며 모의 실험 결과 컬렉터-에미터 전압 대 컬렉터 전류는 현재 업계에서 상용화된 소자의 실측치와 비교하여 최대 15%이내의 상대오차를 보였다.

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Development of CdSe/CdS Quantum Dot Co-sensitized ZnO Nanowire Solar Cell

  • Seol, Min-Su;Kim, Hui-Jin;Kim, U-Seok;Yong, Gi-Jung
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.369-369
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    • 2011
  • 양자점 감응형 태양전지는 가시광 영역을 흡수, 이용할 수 있는 광감응 물질로 무기물 양자점을 사용하며, 이 경우 나노미터 크기의 무기물 양자점으로 인한 양자제한 효과 (quantum confinement effect)에 의해 양자점의 사이즈 조절 만으로 밴드갭을 조절할 수 있어 광학적 특성 조절이 용이하며, 하나의 광자를 흡수하여 두개 이상의 전자-정공쌍을 만들 수 있는 (multiple exciton generation) 가능성이 있어 기존 태양전지가 가지는 이론적 한계효율(Shockley-Queisser limit)을 뛰어넘을 수 있다. 본 연구에서는 양자점 및 염료 감응형 태양전지분야에서 가장 많이 사용되고 있는 TiO2 다공성 필름이 아닌, ZnO 나노선 구조를 이용하여 양자점 감응형 태양전지를 제작하였다. ZnO의 경우 TiO2보다 높은 전자이동도를 가지며, 나노선 구조가 바닥전극까지 수직 연결된 1차원의 전자전달경로를 제공하여 결과적으로 광전자 포집에 유리하다. 또한, CdS, CdSe 양자점을 동시에 사용하여 광흡수 범위를 가시광 전 영역으로 확장하였으며, 계단형 밴드구조를 통해 광전자-정공 분리 및 포집을 용이하게 하였다. 더 나아가 전해질의 조성, 나노선의 길이 등 다양한 부분을 조절하면서 각 변수가 소자의 효율에 미치는 영향을 관찰하였다.

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전자주입효율이 향상된 계단형 이중 전자주입층을 사용한 녹색 유기발광소자 효율 증진

  • Hwang, Jeong-Hyeon;Chu, Dong-Cheol;Kim, Tae-Hwan;Seo, Ji-Hyeon;Kim, Yeong-Gwan
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.428-428
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    • 2010
  • 유기 발광 소자내의 전공과 전자의 균형과 효율적인 재결합을 통한 발광소자의 효율 향상을 위한 다양한 연구가 소자의 응용에 매우 큰 영향을 주고 있다. 그러나 대부분의 전도성 유기물내에서 정공의 이동도 가 전자의 이동도 보다 100 배 정도 빠르기 때문에 발광 효율을 향상시키기 위한 효율적인 전자 주입이 요구된다. 본 연구에서는 전자주입효율을 향상하기 위하여 강한 전자 받게 역할을 하는 플러렌($C_{60}$)의 장점을 이용한 이중 전자 주입층을 제작하고 녹색 유기 발광 소자에 사용하여 발광효율의 변화를 관찰하였다. 유기 발광 소자에서 전자의 이동도를 향상하여 발광 층내로 주입되는 전자의 주입량을 증가하여 엑시톤 형성 확률을 높이기 위하여 전자 주입 층 내에 $C_{60}$을 첨가하였다. $C_{60}$만으로 이루어진 단층 전자 주입 층으로 구성된 유기발광 소자는 Al과 $C_{60}$ 계면사이에 거칠기가 큰 계면으로 인해 발생된 누설전류로 인해 Cesium flouride (CsF) 단층 전자 주입 층에 비해 낮은 발광효율을 나타냈다. 플러렌의 높은 전자전도성을 유지하며 누설전류의 흐름을 방지하기 위하여 매우 얇은 CsF층을 알루미늄 금속과 플러렌사이에 형성함으로써 플러렌과 Al 사이의 공유결합을 없애 누설전류를 줄였으며 Cs의 무거운 원자량으로 인해 전자 수송층으로의 확산되는 량이 적어 발광층에서 엑시톤의 재결합효율이 개선되어 유기발광 소자의 발광효율 향상이 나타남을 관찰하였다.

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Transport parameters in a-Se:As films for digital X-ray conversion material using the moving-photocarrier-grating technique (moving-photocarrier-grating 기술을 이용한 디지털 X-선 변환물질 a-Se:As의 수송변수)

  • Park, Chang-Hee;Nam, Sang-Hee;Kim, Jae-Hyung
    • Journal of radiological science and technology
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    • v.28 no.4
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    • pp.267-272
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    • 2005
  • The effects of As addition in amorphous selenium (a-Se) films for digital X-ray conversion material have been studied using the moving photocarrier grating (MPG) technique. This method utilizes the moving interference pattern generated by the superposition of the two frequency shifted laser beams for the illumination of the sample. This moving intensity grating induces a short circuit current, jsc in a-Se:As film. The transport parameters of the sample are extracted from the grating-velocity dependent short circuit current induced in the sample along the modulation direction. The electron and hole mobility, and recombination lifetime of a-Se films with arsenic (As) additions have been obtained. We have found an increase in hole drift mobility and recombination lifetime, especially when 0.3% As is added into a-Se film, whereas electron mobility decreases with As addition due to the defect density. The transport properties for As doped a-Se films obtained by using MPG technique have been compared with X-ray sensitivity for a-Se:As device. The fabricated a-Se(0.3% As) device film exhibited the highest X-ray sensitivity out of 5 samples.

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SiO2 보호막 증착에 따른 p-GaN의 후열처리 효과 연구

  • Park, Jin-young;Ji, Taeksoo;Lee, Jin-hong;An, Su-chang
    • Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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    • 2013.05a
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    • pp.772-775
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    • 2013
  • We have grown a p-GaN film on sapphire by MOCVD and explored the post-annealing effort on the film after depositing a $2500{\AA}$ thick $SiO_2$ protective layer on it. By etching the $SiO_2$ protective film after the heat treatment, the hole concentration was measured, and compared with the data values before the heat treatment. In addition to the concentration, the hole mobility was also monitored while varying the atmospheric gas ratio of $N_2$ and $O_2$, the rapid thermal annealing temperatures ($750^{\circ}C$ and $650^{\circ}C$) and times (1 to 15 min.) In order to investigate the optical and structural properties of the film, room temperature and low temperature PL measurements were conducted.

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Numerical Analysis of a Two-Dimensional N-P-N Bipolar Transistor-BIPOLE (2차원 N-P-N 바이폴라 트랜지스터의 수치해석-BIPOLE)

  • 이종화
    • Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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    • v.21 no.2
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    • pp.71-82
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    • 1984
  • A programme, called BIPOLE, for the numerical analysis of twotimensional n-p-n bipolar transistors was developed. It has included the SRH and Auger recolnbination processes, the mobility dependence on the impurity density and the electric field, and the band-gap narrowing effect. The finite difference equations of the fundamental semiconductor equations are formulated using Newton's method for Poisson's equation and the divergence theorem for the hole and electron continuity equations without physical restrictions. The matrix of the linearized equations is sparse, symmetric M-matrix. For the solution of the linearized equations ICCG method and Gummel's algorithm have been employed. The programme BIPOLE has been applied to various kinds of the steady-state problems of n-p-n transistors. For the examples of applications the variations of common emitter current gain, emitter and diffusion capacitances, and input and output characteristics are calculated. Three-dimensional representations of some D.C. physical quantities such as potential and charge carrier distributions were displayed. This programme will be used for the nome,rical analysis of the distortion phenom ana of two-dimensional n-p-n transistors. The BIPOLE programme is available for everyone.

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Comparative studies of ohmic metallization on p-GaAsSb (금속에 따른 p-GaAsSb 오믹접촉의 전기적 특성에 관한 비교 연구)

  • Cho, Seung-Woo;Jang, Jae-Hyung
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.11a
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    • pp.33-36
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    • 2004
  • 탄소 도핑$(5{\times}10^{19}\;cm^{-3})$된 p-type GaAsSb 에피층 위에, Ti/Pt/Au, Pd/Au, Pd/Ir/Au를 이용한 다층 오믹 접촉을 제작하였다. MOCVD(metal-organic chemical vapor deposition)를 이용하여 성장시킨 이 p-GaAsSb의 정공 이동도는 탄소의 도핑 농도가 매우 높음에도 불구하고, $50\;cm^2/Vs$로 측정되었다. 오믹 접촉의 전기적 특성을 측정하기 위하여 TLM(Transfer length method)를 이용하였다. Pd/Ir/Au을 이용한 오믹접촉의 specific contact resistivity는 $10^{-8}\;ohm-cm^2$ 보다 작은 수치를, transfer length는 100 nm보다 작은 수치를 보였으며, Ti/Pt/Au을 이용한 ohmic contact의 specific contact resistivity는 $10^{-7|\;ohm-cm^2$ 보다 작은 수치를, transfer length는 400 nm보다 작은 수치를 나타내었다.

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Design and Fabrication Technologies of Avalanche Photodiode for Optical Communication (애벌란치형 광검출기 설계 및 제작 기술)

  • 박찬용;강승구;신명훈;주흥로
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2001.02a
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    • pp.164-165
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    • 2001
  • 애벌란치형 광검출기(Avalanche Photodiode; APD)는 내부 이득을 갖고 있어 수신감도가 좋고 고속 동작이 가능하여 광통신에 있어서 매우 중요한 소자이다. 초기에는 공정의 용이성 등으로 인해 Ge을 소재로 하는 APD가 많이 사용되었으나 1.55 $\mu\textrm{m}$ 파장에서 광흡수 특성이 좋지 않고 전자와 정공의 이온화 계수비가 거의 같아 GB Product이 낮으므로 점차 이들 특성이 우수한 InP/InGaAs APD가 사용되었다. InGaAs는 밴드갭은 Ge보다 크지만 직접천이형 밴드구조를 갖기 때문에 1.67 $\mu\textrm{m}$까지 광흡수 특성이 좋고 소수캐리어의 이동도가 높아 고속동작에 유리하다. (중략)

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Two Dimensional Computer Simulation of Power VDMOSFET (전력 VDMOSFET의 2차원Computer Simulation)

  • 박배웅;이우선
    • The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers
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    • v.37 no.9
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    • pp.609-618
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    • 1988
  • Two dimensional numericl analysis program of power VDMOSFET structure has been developed. Modeling for equipotential distribution, current flow pattern and carrier distribution are presented. I-V characteristic curves due to saturation velocity, mobility value, transconductance and on-resistance are studied by comparison of computer simulated results and exeperimental data. These are found to agree with the simulated results and experimental data.