• 제목/요약/키워드: 전자 광학 장비

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기능성 복합재의 경량 전자장비 하우징 검증시험

  • 이주훈;장태성;심은섭
    • 천문학회보
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    • 제37권2호
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    • pp.192.2-192.2
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    • 2012
  • 위성시스템 소형화, 탑재체 수용증대, 발사비용절감, 탐사임무 효율화 등의 요구로 인하여, 위성 설계에 있어 경량화는 오랜 기간 진행되어온 연구 주제였다. 이러한 연구결과로서, 위성 구조체를 복합재료로 대신하기 위한 구조 경량화 연구와 적용이 성과를 거두었으며, 현재 위성체 프레임이나 전개형 안테나, 광학구조물 등에 경량 탄소섬유 강화 복합재료의 적용은 보편화되어 있다. 한편, 위성시스템에서 전력, 통신, 명령/데이터처리, 자세제어 및 관측기기의 각종 전자장비를 보호하는 하우징 구조물에는 여전히 금속재료가 광범하게 적용되고 있다. 특히, 알루미늄 합금은 하우징 재료로 널리 사용되는데, 강도, 강성, 열전달, 우주방사, 전기전도도 및 EMI 차폐특성과 더불어 가공성이 우수하다는 장점을 지닌 반면에, 금속재료로서 중량이 상당하여 위성 경량화 관점에서는 한계를 갖게 하는 단점이 있다. 전자장비에 부여된 전자기능 측면에서 보면, 하우징은 기생 구조물로서, 경량으로 제공될수록 전자장비 전체 무게에서 전자유닛만의 무게가 차지하는 전기전자기능비가 향상되고 위성 경량화에 크게 기여할 수 있다. 구조 경량화를 위하여 전자장비 하우징을 경량 복합재로 대체하여 설계 및 제작하였으며, 복합재 하우징의 강도, 강성, 열전달, 우주방사, 전기전도도 및 EMI 차폐를 검증할 수 있는 방법에 대하여 검토하였다.

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나노 임프린트 공정에서의 기계적 물성 측정 (Mechanical Property Measurement in Nano Imprint Process)

  • 김재현;이학주;최병익;강재윤;오충석
    • 한국정밀공학회지
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    • 제21권6호
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    • pp.7-14
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    • 2004
  • 나노 임프린트 기술은 기존의 광학적 리소그라피 (optical lithography) 기술보다 저렴한 비용으로 나노 구조물을 대량으로 제조할 수 있을 것으로 기대되고 있는 기술이다. 현재까지 반도체 공정기술의 주류를 이루고 있는 광학적인 리소그라피 기술은, 100nm이상의 CD(Critical Dimension)를 가지는 구조물들을 정밀하게 제조하여, 미소전자공학 (microelectronics) 소자, MEMS/MEMS, 광학소자 등의 제품들을 대량으로 생산하는 데에 널리 활용되고 있다. 반도체 소자의 고집적화 경향에 따라 100 nm 이하의 CD를 가지는 나노 구조물들을 제조할 필요성이 높아지고 있지만, 광학적인 방법으로는 광원의 파장보다 작은 구조물들을 제조하기가 어렵다. 보다 짧은 파장을 가지는 광원을 이용하는 리소그라피 장비가 계속적으로 개발되고 있으나, 그에 따른 장비 비용 및 제조 단가가 기하급수적으로 증가하고 있다.(중략)

코릴레이션 필터를 이용한 적외선영상에서의 레이저 신호 검출 (Laser Signal Detection in Infrared Images Using Correlation Filter)

  • 문시현
    • 한국정보처리학회:학술대회논문집
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    • 한국정보처리학회 2023년도 추계학술발표대회
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    • pp.868-869
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    • 2023
  • 보병이 레이저로 표적을 지시하고 원격사격통제체계가 타격하는 방식의 유무인 복합체계에서 전자광학 추적장비를 통한 표적지시용 레이저 검출은 필수적이다. 이를 위해 본 연구에서는 영상기반 코릴레이션 필터를 통해 적외선 레이저를 기존의 색상기반, 기계학습 등의 기법보다 효과적으로 검출하는 방법을 구현하였다. 또한 실험을 통해 주간에는 직사광선 노이즈를 효과적으로 제거하고 200mw 출력의 적외선 레이저를 10-20m 거리에서 검출, 노이즈가 없는 야간에는 100m 이상의 거리에서 안정적으로 검출하는 것을 확인하였다. 이를 통하여 원격사격통제체계의 전자광학 추적장비를 통한 표적지시 레이저 검출 및 추적 구현의 기반을 마련하였다.

한국의 조립가공 · 부품 · 소재 · 장비산업, downstream에서 upstream으로 도약 시동

  • 김석현
    • 광학세계
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    • 통권101호
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    • pp.76-82
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    • 2006
  • 최근 무역흑자기조가 유지되고 있으며 2003년 이후 수출증가율이 수입증가율을 앞서나가고 있어 무역 흑자 규모가 2004년 약 200억불로 커지고 있다. 그러나 주요기간산업의 대일의존은 여전하다. 특히 광학산업을 포함한 기계산업은 역조규모가 가장 크며 대부분의 품목들이 대일수입에 의존하고 있고 그 뒤를 전자전기산업이 따르고 있다. 이처럼 한국의 자본재 산업은 해외에 의존하고 가공/조립을 통한 범용제품(후방산업) 양산에 치우쳐왔다. 따라서 기술개발능력이 있는 중소기업의 원천기술에의 도전을 적극적으로 지원하는 연구개발 사업이 필요하며, 기업이 보유한 특허와 같은 지적재산에 투자하는 지적재산캐피탈(IPC)을 도입하여 기술보유기업의 성장과 신기술의 시장진입을 도와야 할 것이다.

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항공용 전자광학추적장비의 전달정렬 성능 개선 (Improvement of Transfer Alignment Performance for Airborne EOTS)

  • 김민수;이도근;정치운;정지희
    • 항공우주시스템공학회지
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    • 제16권4호
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    • pp.60-67
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    • 2022
  • 일반적인 항공기의 전자광학추적장비(Electro-Optical Tracking System, EOTS)는 EO/IR, 레이저 센서 등의 구성품으로 구성된다. 표적 획득 시 요구되는 표적 좌표는 내부 구성품인 관성측정장비(Inertial Measurement Unit, IMU)에서 측정되는 자세와 가속도 측정값을 이용하여 획득된다. 특히 무장시스템을 운용하는 항공기의 경우, 무장 발사를 위한 표적 좌표를 얼마나 신속하고 정확하게 획득하는가에 따라 무장시스템의 성능이 좌우된다. 무장시스템에서 요구하는 좌표 정확도를 충족하기 위해서는 IMU가 정렬 완료 상태에서 운용되어야 하므로 신속하게 자세와 가속도를 측정하여 IMU 초기 안정화 시간을 단축하여야 한다. IMU의 정렬은 IMU의 자세 오차를 해소하여 초기 자세를 결정하는 과정이며, 항공용 EOTS와 같은 임무장비의 IMU는 항법용 GPS/INS의 속도 정보를 기준으로 하는 속도정합 전달정렬을 수행한다. 본 논문에서는 이러한 속도정합 전달정렬 시간 단축을 위해 항공기와 임무장비의 자세 변화를 통한 전달정렬 성능 개선방안을 제시하였다. 먼저 전달정렬 모델과 시뮬레이션 결과를 통해서 EOTS의 전달정렬이 지연되는 요소가 방위각 오차임을 식별하였다. 그리고 EOTS의 방위각 오차 해소를 위해 항공기의 가속도 기동 및 EOTS의 자세 변화가 요구됨을 확인하였다. 최종적으로 OOO 항공기 체계에 적용한 비행시험 결과, 항공기 가속도 약 0.2g 이상이 발생하면서 EOTS가 6.7deg/s 각속도로 고각 운동 시 그렇지 않을 때보다 5배 이상 빠르게 정렬이 완료되어 전달정렬 성능이 개선되었다.

유도결합플라즈마 공정에서 조건별 플라즈마 방출광 세기 변화에 따른 전자온도의 전기적, 광학적 진단에 관한 연구

  • 이예슬;박혜진;최진우;김우재;황상혁;조태훈;윤명수;권기청
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.215.1-215.1
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    • 2016
  • 플라즈마는 반도체, 디스플레이, 태양전지 등 다양한 산업 분야에 이용된다. 플라즈마 공정 시 수율 향상을 위해 플라즈마를 진단하는 기술이 필요한데, 대표적으로 전자온도가 있다. 반도체 공정의 낮은 압력과 높은 밀도의 플라즈마에서 전자온도는 1~10 eV 정도인데, 0.5 eV정도의 아주 적은 차이로도 공정 결과에 큰 영향을 미친다. 플라즈마의 전자온도를 측정하는 방법은 전기적 탐침 방법인 랑뮤어 탐침(Langmuir Probe)과 와이즈 프로브(Wise Probe)를 이용한 방법, 그리고 광학적 방법인 방출분광법(OES : Optical Emission Spectroscopy)이 있다. 전기적 탐침 방법은 직접 플라즈마 내부에 탐침을 넣기 때문에 불활성 기체를 사용한 공정에서는 잘 작동하지만 건식식각이나 증착에 사용할 경우 탐침의 오염으로 인한 오동작, 공정 시 생성된 샘플에 영향을 줄 수 있다는 단점이 있다. 반면에 방출분광법은 광학적 진단으로, 플라즈마를 사용하는 공정 진행 중에 외부에 광학계를 설치하여 플라즈마에서 발생하는 빛을 광학적으로 분석하기 때문에 공정에 영향을 미치지 않고, 공정 장비에 적용이 쉬운 장점을 가지고 있다. 본 연구에서는 RF Power를 인가한 유도결합플라즈마(ICP : Inductively Coupled Plasma) 공정에서 아르곤 가스와 산소 혼합가스 분압과 인가전압을 변화시켜 플라즈마 방출광 세기 변화에 따른 전자온도를 측정하였다. 전자온도 측정에는 전기적 방법인 랑뮤어 탐침, 와이즈 프로브를 이용한 방법과 광학적 방법인 방출분광법을 사용하여 측정하였으며 이를 비교 분석하였다.

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무인 수상정 전자 장치를 위한 통신 미들웨어 설계 및 구현 (Design and Implementation of a Communication Middleware for Electronic Devices of Unmanned Surface Vehicle)

  • 배종윤;최훈
    • 스마트미디어저널
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    • 제8권3호
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    • pp.53-61
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    • 2019
  • 본 논문에서는 카메라 및 다양한 센서가 복합되어 고속의 데이터를 다중으로 처리하는 성능을 요구하는 전자광학장비의 안정적인 데이터 전송을 위해 Event 기반의 동기화 방식을 통한 Multi-Thread 환경의 다중 통신 미들웨어 설계 및 구현 방법을 제안하였다. 구현된 통신 미들웨어의 성능 검증을 위해 영상 데이터 및 센서 데이터를 전송하여 송신 주기 대비 수신 주기에 대한 차이를 비교하고, 다중으로 전송 및 처리할 수 있는 최대 통신 가능 수를 측정 및 분석하였다. 또한 전송되는 데이터의 무결성 검증과 Round Trip Time 측정 등의 실험을 통해 제안하는 통신 미들웨어의 성능을 검증하였다.

Computer generated phase mask를 이용한 격자 array 제작 (Fabrication of the grating array using computer generated phase mask)

  • 원형식;김상인;박선택;송석호;오차환;김필수
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2001년도 제12회 정기총회 및 01년도 동계학술발표회
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    • pp.158-159
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    • 2001
  • 파장분할다중 방식에서 필요로 하는 격자들 간의 격자주기 차이는 1nm이하를 요구한다. 따라서, 하나의 위상형 마스크로 서로 다른 주기의 격자를 동시에 제작하려면 하나의 위상형 마스크 패턴들 간에도 nm 정도의 차이를 갖는 미세한 패턴이 있어야 한다. 그러나, 일반적으로 마스크를 제작하는데 이용되는 장비인 전자빔 묘화장치(electron-beam lithographic system)의 분해능은 수십 nm이므로, 그러한 nm 정도의 정확도로서 조합된 마스크 패턴들을 만드는 것은 매우 어렵다. (중략)

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세계 안보와 Westinghouse사

  • 이춘범
    • 국방과기술
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    • 9호통권127호
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    • pp.60-67
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    • 1989
  • 웨스팅하우스는 공중화력통제 레이다, 전자전, 전자광학장치, 육.해.공레이다 감시체계, 선상지휘 및 통제 패키지들과 기뢰에 대한 방어수단인 수중 음파 탐지기와 어뢰를 포함한 대잠수함전 장비(ASW)들을 최초로 제작한 회사이다. 웨스팅하우스의 제품은 수중추진 및 발사체계로부터 위성 센서까지 망라한다. 또한 미국의 가장 중요기술상품인 "생산체계종합"의 선두주자이기도 하다. 세계10대 국제 군수제조 및 서비스업체로 꼽히고 있으며, 앞으로의 성장과 전망을 볼 때, 향후 매년 8.5 %이상의 매출 성장을 달성할 것이라 한다

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EMP simulation을 활용한 다층 박막의 평가 및 설계 (Evaluation and design of Multi-layered thin films with EMP simulation)

  • 김준식;장건익
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.312-312
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    • 2009
  • 본 연구에서는 Thermal evaporator(저항 가열 식 진공 증착법) 장비를 활용하여 ZnS/$Na_3AlF_6$/ZnS/Cu-$0.25\lambda$, ZnS/$CaF_2$/ZnS/Cu-$0.25\lambda$의 다층 박막을 glass 기판위에 증착하였다. 증착 전에 EMP(Essential Macleod Program)을 활용하여 광학적 특성을 simulation하였으며 다층 박막 제작 후 Spectrophotometer를 사용하여 반사율 및 색상을 CIE $L^*a^*b^*$ 좌표에 표시하여 고 굴절 물질에 따른 광학적 특성을 EMP simulation과 비교하였다. AES depth profile을 분석하여 막의 두께 및 층간 확산여부에 관하여 관측 하였다. 저굴절 물질을 Na3AlF6로 사용하였을 경우 simulation과 결과 값 모en purple 계통의 색상을 나타냈으며 CaF2를 사용하였을 경우 simulation은 purple 계통의 색상, 결과값은 red-yellow 계통의 색상으로 나타났다.

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