비대칭 DGMOSFET의 상하단 산화막 두께비에 따른 문턱전압 및 전도중심의 변화 (Deviation of Threshold Voltage and Conduction Path for the Ratio of Top and Bottom Oxide Thickness of Asymmetric Double Gate MOSFET)
-
- 한국정보통신학회:학술대회논문집
- /
- 한국정보통신학회 2014년도 추계학술대회
- /
- pp.765-768
- /
- 2014