• 제목/요약/키워드: 전산 모사

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PVD 공정을 이용한 Si 양자점 형성 전산모사 (The Simulation of Si quantum Dot Formation in PVD Process)

  • 김윤성;정용재
    • 한국세라믹학회지
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    • 제39권5호
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    • pp.517-522
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    • 2002
  • 본 연구에서는 PVD 공정으로 Si 양자점 형성시 증착조건의 변화가 증착된 양자점 크기와 분포에 미치는 영향을 Monte Carlo법을 응용한 전산모사를 통하여 정량적으로 분석하였다. 전산모사시 PVD 공정에서 일반적으로 제어가 가능한 기판온도, 증착시간, 가스압력과 타겟-기판거리를 공정변수로 선택하였다. 계산 겨로가 증착속도가 0.05 nm/sec이고 기판온도 490${\circ}$, 증착시간 7 sec, 가스압력 3 mTorr, 타겟-기판거리가 8 cm일때 증착 밀도가 $1{\times}10^{12}cm^{-2}$인 Si 양자점 형성이 가능할 것으로 예측되었다.

탄소나노튜브/폴리에스터 복합재의 역학적 거동과 하중전달에 관한 분자 동역학 전산모사 : 그래프팅 가공의 영향 (Molecular Dynamics Study on Mechanical Behavior and Load Transfer of CNT/PET Nanocomposites : the Effects of Covalent Grafting)

  • 진주호;양승화
    • Composites Research
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    • 제30권3호
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    • pp.193-201
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    • 2017
  • 탄소나노튜브와 폴리에스터 계면 간 그래프팅이 나노복합재의 역학적 거동과 하중전달에 미치는 영향을 고찰하기 위해 분자동역학 전산모사를 수행하고 그 결과를 Mori-Tanaka 모델 예측해와 비교하였다. 각 방향으로의 인장과 전단 전산모사를 통해 응력-변형률 선도를 도출한 후, 가교 유무에 따른 탄성거동 변화를 관찰하였다. 또한 가로등방성 강성행렬을 방향 평균하여 나노튜브가 랜덤분포하는 경우의 등방성 영률과 전단계수를 구하였다. 그 결과 가로방향 영률과 전단계수는 그래프팅 가공에 의해 향상되었으나, 길이방향 영률의 경우 나노튜브의 물성감소로 인해 오히려 물성이 저하되었다. 나노튜브의 랜덤분포를 고려한 예측 결과에서는 그래프팅 가공에 의해 물성이 약간 감소하였다.

HPGe 검출기의 PENELOPE 전산모사에 의한 특성 분석 (A Germanium Detector Structure PENEL OPE Characteristic Analysis by Computer Simulation)

  • 장은성;장보석
    • 한국방사선학회논문지
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    • 제9권2호
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    • pp.73-77
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    • 2015
  • 검출기의 자세한 구조를 알고자 CT 스캐닝을 하였으며 크리스털 형상과 사층에 관한 세부적인 구조를 전산모사 계산법을 이용해 재현하였다. 낮은 에너지의 감마선에 대한 피크 효율이 거리가 작아질수록 감소, 보다 높은 에너지(400 keV) 아상에서의 전체 효율성은 검출기 코어를 조정함으로써 불확도를 줄일 수 있었다. PENELOPE 계산법을 이용해 얻은 공간적 의존성 사이에 적절한 일치점이 달성되었음을 확인 하였다. 이는 크리스털 코어, 모서리와 크리스털 코어의 라운딩을 설명해 주는 매개변수들을 조정함으로써 달성되었다.

초임계수 내에서 PCBs 완전산화반응의 전산모사에 관한 연구 (A Study on the Computer Simulation for the Complete Combustion Reaction of PCBs in Supercritical Water)

  • 조정호;김경숙;손순환;김영철
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제45권1호
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    • pp.46-51
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    • 2007
  • 본 연구에서는 전력 산업에서 발생하는 폐기물 중의 하나인 Poly Chlorinated Biphenyls(PCBs)를 함유한 절연유를 초임계수 내에서 완전산화반응을 통해서 제거하는 전산모사를 수행하였다. 절연유의 주성분을 노말 데칸으로 선정하였으며, 초임계수 내의 절연유의 함량은 3.0 wt%로 가정하였다. 초임계수 내에서의 물성 추산을 위해서 Peng-Robinson 상태방정식을 사용하였으며, 전산모사를 통해서 초임계수 내에서 3.0 wt%의 절연유 및 과잉 산소가 모두 용해되는 현상을 잘 설명할 수 있었다.

스파크 플라스마 소결공정의 전산모사(2부 : 해석) (Computer aided simulation of spark plasma sintering process (Part 2 : analysis))

  • 금영탁;정상철;전종훈
    • 한국결정성장학회지
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    • 제16권1호
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    • pp.43-48
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    • 2006
  • 본 2부의 연구에서는 스파크 플라스마 소결의 온도분포, 상대밀도, 입자성장을 해석 하기 위하여 1부 연구의 시뮬레이션 이론을 바탕으로 스파크 플라스마 소결공정을 유한요소법(FEM)과 몬테카를로법(MCM)으로 전산모사하고 실험치와 비교한다. 전산모사를 통하여 소결체의 소결온도가 높을수록 입자성장이 커지고 밀도가 높아져 기계적 성질이 향상되고, 고상 소결에서 몬테카르로 단계가 증가할 수록 기공의 감소와 입자크기의 증대함을 보여 준다.

풀형 고속증식로의 과도 현상을 모사하는 Fast Running System Code개발 (Fast Running System Code Development to Simulate Transient Behavior of Pool-Type LMFBRs)

  • Youg Bum Lee;Soon Heung Chang;Mann Cho
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • 제17권1호
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    • pp.16-24
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    • 1985
  • 풀형 고속증식로에서의 과도 현상을 모사할 수 있는 전산 모델이 개발되었다. 이 전산 모델 SIM-FARP는 어떠한 펌프로의 전원 상실사고나 완전한 강제냉각 상실사고, 그리고 자연순환 과정 등을 모사할 수 있는 Fast Running Computer Code이다. 이에 따라 8개의 지배방정식이 유도되었으며, 이8개의 미분 방정식을 풀기 위해 Runge-Kutta의 수치해석방법이 사용되었다. 개발된 전산 프로그램은 두 가지 예제에 적용되었는데 이는 Super-Phenix-I에서의 펌프에의 전원상실사고 및 원자로가 정지되지 않는 상태에서의 외부전원 상실사고이다.

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역삼투압 분리막 연구에서의 분자 전산모사 응용 (Application of Molecular Simulation in Reverse Osmosis Membrane Research)

  • 이태경;남상용
    • 공업화학
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    • 제33권6호
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    • pp.551-556
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    • 2022
  • 분리막을 활용한 수처리 공정을 통해 얻어진 담수된 물은 전 세계적인 물 부족 문제를 해결해 줄 수 있는 유망한 기술로 많은 주목을 받고 있다. 오늘날 담수화에 가장 널리 활용되고 있는 역삼투압 분리막 기반 공정은 지구상에 풍부한 바닷물을 담수화하는 기술이기 때문에 산업적으로도 그 잠재성이 매우 풍부하다. 이러한 담수 공정 성능을 향상시키기 위해서는 분리막의 역삼투압 메커니즘을 원자/분자 수준에서 이해할 필요가 있다. 본 총설에서는 오늘날 소재 연구에 있어 중요한 역할을 담당하고 있는 분자 전산모사에 대한 소개와 함께 역삼투압 분리막 연구 개발에 있어 원자/분자 수준에서의 전산모사 역할을 소개하고자 한다.

CFD-ACE+를 이용한 ICP-nitriding system의 수치 모델링 (Numerical modeling of ICP-nitriding system using CFD-ACE+)

  • 주정훈
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.268-268
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    • 2009
  • 고밀도 유도 결합 플라즈마를 이용한 연료 전기 분리판용 질화 장치를 플라즈마를 모사할 수 있는 3차원 전산 유체 역학 프로그램인 CFD-ACE+를 이용하여 해석하였따. 내장형 안테나 타입의 유도 결합 플라즈마의 전자 온도, 밀도 균일성, 가스 유동, 얇은 기판이 촘촘히 적재 되었을 경우의 플라즈마 특성을 모사하였다.

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TiN ICP-CVD장치의 증착 성능 모델링 (Deposition Efficiency Modeling of TiN ICP-CVD system)

  • 손석재;주정훈
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2008년도 추계학술대회 초록집
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    • pp.88-89
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    • 2008
  • TiN ICP-CVD 공정에서의 펄스 직류인가는 동일한 전력공급 하에 보다 효과적이고 우수한성능의 증착능을 나타낸다. 이에 따른 공적 최적화를 위해 전산모사 프로그램을 이용하여 전자의 에너지 분포 모사가 공정에 미치는 영향을 조사하였다.

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