Deposition Efficiency Modeling of TiN ICP-CVD system

TiN ICP-CVD장치의 증착 성능 모델링

  • 손석재 (군산대학교 공과대학 신소재공학과) ;
  • 주정훈 (군산대학교 공과대학 신소재공학과)
  • Published : 2008.11.19

Abstract

TiN ICP-CVD 공정에서의 펄스 직류인가는 동일한 전력공급 하에 보다 효과적이고 우수한성능의 증착능을 나타낸다. 이에 따른 공적 최적화를 위해 전산모사 프로그램을 이용하여 전자의 에너지 분포 모사가 공정에 미치는 영향을 조사하였다.

Keywords