• Title/Summary/Keyword: 전력밀도

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XFEL Pulse Modulator Test using High Precision High Voltage CCPS (고정밀 고전압 CCPS을 이용한 XFEL 200MW 펄스 모듈레이터 시험)

  • Park, S.S.;Kim, S.H.;Kwon, S.J.;Lee, H.S.;Kang, H.S.;Kim, D.S.;Shin, H.S.
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2014.07a
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    • pp.97-99
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    • 2014
  • 포항가속기 연구소에서 4세대 전자를 가속시키기 위하여 RF 공급원으로 사용하는 펄스 모듈레이터의 고전압 안정도는 50ppm 이하의 고전압이 요구된다. 200 MW 모듈레이터에 공급하기 위하여 개발된 고전압 CCPS사양은 50 kV, 120 kJ/sec, 2400mA, 20ppm이하이다. XFEL용 모듈레이터는 고정밀 고전압 CCPS를 적용하여 운전하였으며 모듈레이터 사양은 400kV, 500A, 8us, 60Hz, beam voltage stability 0.005(%)이다. 본 논문에서는 개발한 고정밀 고전압 CCPS를 사용하여 시험한 모듈레이터의 시험 결과에 대하여 발표하고자 한다.

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XFEL Pulse Modulator Test using High Precision High Voltage CCPS (고정밀 고전압 CCPS을 이용한 XFEL 200MW 펄스 모듈레이터 시험)

  • Park, S.S.;Kim, S.H.;Lee, H.S.;Kang, H.S.
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2015.07a
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    • pp.89-90
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    • 2015
  • 포항가속기 연구소에서 4세대 전자를 가속시키기 위하여 RF 공급원으로 사용하는 펄스 모듈레이터의 펄스전압 안정도는 50ppm 이하의 고전압이 요구된다. 200 MW 모듈레이터에 공급하기 위하여 개발된 고전압 CCPS사양은 50 kV, 120 kJ/sec, 2400mA, 20ppm이하이다. XFEL용 모듈레이터는 고정밀 고전압 CCPS를 적용하여 운전하였으며 모듈레이터 사양은 400kV, 500A, 8us, 60Hz, beam voltage stability 0.005(%)이다. 본 논문에서는 개발한 고정밀 고전압 CCPS를 사용하여 시험한 모듈레이터의 시험 결과에 대하여 발표하고자 한다.

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Analytical Proof of Equivalence of ISF, and Floquet Vector-Based Oscillator Phase Noise Theories (ISF와 Floquet 벡터에 기초한 발진기 위상잡음 이론의 등가성에 대한 해석적 증명)

  • Jeon, Man-Young
    • Journal of IKEEE
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    • v.17 no.4
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    • pp.559-563
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    • 2013
  • This paper analytically proves the equivalence between two main oscillator phase noise theories, which are based on the ISF, and Floquet vector, respectively. For this purpose, this study obtains the power spectral density matrix from the ISF-based phase noise theory. As a result, one can prove that the power spectral density matrix obtained from the ISF-based phase noise theory is essentially equivalent to the power spectral density matrix presented by the Floquet vector-based phase noise theory, which manifests the equivalence of the two main theories. This study is intended to provide deeper insight into the relations between the two main theories.

A rotor design according to drive in Spoke type motor (매입형 영구자석 동기전동기의 구동방식에 따른 회전자 형상 설계)

  • Pyo, Se-Ho;Lee, Hyun;Jang, Ki-Bong;Kim, Gyu-Tak
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2009.07a
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    • pp.720_721
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    • 2009
  • 일반적으로 BLDC 모터는 고효율 고토크의 특성을 가지고, 넓은 속도 범위에 걸쳐 높은 효율을 유지 하고 제어가 용이하므로 널리 사용 되고 있다. 이러한 BLDC 모터는 구동 원리에 의해서 역기전력의 파형이 구형파를 가지는 것이 유리하다. 또한 BLAC 모터는 효율, 역률, 전력밀도 및 토크 밀도가 높은 장점을 가지고 정현파 역기전력을 요구한다. 매입형 영구자석형 동기전동기 중 할박 구조로 인해서 자속을 집중 시키는 Spoke type 모터의 회전자 표면은 철심으로 이루어져 있기 때문에 회전자 표면의 형상을 Arc설계를 통해서 형상 최적화가 가능하다. 회전자 표면의 Arc 설계를 통해서 공극의 자속밀도 분포의 변화를 줄 수 있어 BLDC 구동 시 요구하는 구형파 역기저력 파형과 BLAC 구동 시 요구되는 정현파 역기저력 파형을 Arc 설계 각도에 따라 다르게 발생 시킬 수 있다. 이를 통해서 역기전력을 형태를 구형파와 정현파 형태를 가지도록 설계하여 BLDC와 BLAC 구동 시에 성능을 FEA를 통해서 비교 평가 하여, 구동 방식에 따른 Spoke type IPM 모터의 형상 설계방법을 제시한다.

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A Study of High Accuracy Measurement for Grid Voltage (계통 전압의 고정밀 계측에 관한 연구)

  • Lee, Sang-Hyeok;Im, Sang-Gil;Lee, Sang-Hun;Kang, Feel-Soon;Cho, Su-Eog;park, Sung-Jun
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2011.07a
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    • pp.477-478
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    • 2011
  • 본 논문에서는 신재생 에너지를 전력 계통에 효율적으로 연계시키기 위한 요소 기술로 Filter 대신 DFT 기법을 사용한 고정밀 계측에 대해 제안한다. 일반적으로 Filter를 사용할 경우 원신호의 위상 지연, 크기 감소 같은 신호 왜곡으로 정확한 제어가 어려우나, 제안된 DFT 기법을 사용하면 기존 문제점을 해결 가능하다. 따라서 본 논문에서 제안된 DFT 기법은 PSIM을 이용한 시뮬레이션과 실험을 통해 제안된 알고리즘의 타당성과 우수성을 검증하였다.

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Effect of External Resistance on Electrical Properties of Two-Chamber type Microbial Fuel Cells (이형반응기 미생물연료전지의 전기적 특성에 미치는 외부저항의 영향)

  • Lee, Myoung-Eun;Jo, Se-Yeon;Chung, Jae-Woo;Song, Young-Chae;Woo, Jung-Hui;Yoo, Kyu-Seon;Lee, Chae-Young
    • Journal of Korean Society of Environmental Engineers
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    • v.33 no.3
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    • pp.167-173
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    • 2011
  • The Effects of external resistance on electrical properties such as current density, power density and coulombic efficiency were investigated in two-chamber type MFCs using a ferricyanide as reducing agent. A stable electricity was produced when a constant time elapsed after innoculation of mixed cultures into the anode compartment; voltages from 0.13 to 0.16 V was measured at $50{\Omega}$ of external resistance. When the external resistance was increased, the current density decreased and the power density rapidly increased and then slowly decreased. Big variation of electrical properties was observed in high-current density region due to the concentration loss related with substrate consumption in repeated experiments changing the external resistance. The maximum power density ($175.8mW/m^2$) and coulombic efficiency (46.1%) were obtained at $100{\Omega}$ of the external resistance which is nearest with the internal resistance ($134{\Omega}$) of MFC system.

UWB Pulse Generation Method for the FCC Emission Mask (FCC 방출 전력 마스크에 적합한 UWB 펄스 생성 방법)

  • Park, Jang-Woo;Cho, Sung-Eon;Cho, Kyung-Ryong
    • Journal of Advanced Navigation Technology
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    • v.10 no.4
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    • pp.333-341
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    • 2006
  • This paper analyzes the spectral power properties of various time hopping UWB signals and shows that the power spectral densities of the various signals could have to be determined by the PSD of the pulse used in the signal. The pulse design method by which the FCC emission mask can be utilized fully is proposed. The method combines the arbitrary derivative Gaussian pulse linearly. The coefficients of the linear combination are calculated by the LSE(Least Square Error) method. Various parameters such as the number of coefficients and the types of the basic pulses are considered when calculating the PSD and pulse shapes of the new pulses.

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Uniformity Control by Using Helium Gas in the Large Area Ferrite Side Type Inductively Coupled Plasma

  • Han, Deok-Seon;Bang, Jin-Yeong;Jeong, Jin-Uk
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2012.02a
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    • pp.517-517
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    • 2012
  • 높은 전력 효율과 간단한 매칭 네트워크의 구조 등 많은 장점을 갖고 있는 직경 560 mm 페라이트 챔버가 대면적 웨이퍼에 대응하기 위해 개발 되었다. 플라즈마 소스원이 챔버 외곽에 위치해 있는 구조적 특성으로 인하여 아르곤 가스 방전 시 플라즈마 밀도 분포는 챔버 중앙부가 낮게 나타나는 볼록한 모양으로 형성 되는데 헬륨 가스를 적절히 혼합할 시에 밀도 분포가 변화가 관찰된다. 헬륨 가스 혼합 비에 따라 플라즈마 밀도 분포는 균일도가 매우 높아 질 수 있으며 60% 이상의 혼합비에서는 중앙 부분의 밀도가 최대치로 역전되는 오목한 밀도 분포가 나타나기도 한다. 이는 헬륨 가스의 대표적인 특징인 가벼운 질량과 높은 이온화 에너지 등에 기인하는데 이러한 특징을 갖는 헬륨 가스를 주입하게 되면 전자의 energy relaxation length가 늘어나게 되며 ambipolar diffusion 계수가 증가하게 된다. 랑뮈어 프로브를 이용하여 측정된 플라즈마 밀도 분포 변화는 앞서 계산 된 energy relaxation length 및 ambipolar diffusion 계수들의 변화로 설명된다.

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The Development Status of Power Conversion Technology for Power Grid (전력계통용 전력변환기술 개발 현황)

  • Lee, Eun-Jae;Baek, Seung-Taek;Choi, Ho-Seok;Kim, Young-Woo;Shim, Jae-Hyeok;Song, Sang-Wook
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2019.07a
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    • pp.551-554
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    • 2019
  • 국내 전력 계통은 경제의 성장과 더불어 생활 수준의 향상에 따라 지속적인 증설과 발전이 이루어졌다. 전력설비의 밀도 측면에서 비추어보면 미국이나 일본 대비 적게는 2배에서 많게는 4배에 이르는 최고 수준의 설비 밀도를 보이고 있다. 또한 전체 전력 생산량의 40%이상이 수도권에서 소비되고 있지만 발전설비는 최대 전력 수요지인 수도권과 먼 해안에 인접한 지역에 편재되어 있기 때문에 발생하는 수요와 공급지의 불균형, 장거리 선로를 통한 전력 전송에서 야기되는 전력계통 운영 측면에서의 문제가 발생하게 된다. 최근 화두가 되고 있는 원전 축소, 노후 화력 발전소 정지, 송전선로 경과지에서의 건설 고압 송전선로 건설 반대 등의 요인으로 인하여 전력계통을 최대한 효율적이고 안정적으로 운영하여야 하는 대전제를 만족시키기 위한 방안으로 기존 AC 기반의 계통 설비에 전력변환기술을 기반으로 하는 DC 계통 및 FACTS 설비의 확대 적용하는 방안이 제시되고 있다. 본 논문에서는 다가올 MV급 이상의 전력변환설비의 개념 및 개발 현황에 대한 소개를 하고자 한다.

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Effect of RF Bias on Electron Energy Distributions and Plasma Parameters in Inductively Coupled Plasma (유도 결합 플라즈마에서 플라즈마 변수와 전자 에너지 분포에 대한 극판 전력 인가의 영향)

  • Lee, Hyo-Chang;Chung, Chin-Wook
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.21 no.3
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    • pp.121-129
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    • 2012
  • RF biased inductively coupled plasma (ICP) is widely used in semiconductor and display etch processes which are based on vacuum science. Up to now, researches on how rf-bias power affects have been focused on the controls of dc self-bias voltages. But, effect of RF bias on plasma parameters which give a crucial role in the processing result and device performance has been little studied. In this work, we studied the correlation between the RF bias and plasma parameters and the recent published results were included in this paper. Plasma density was changed with the RF bias power and this variation can be explained by simple global model. As the RF bias was applied to the ICP, increase in the electron temperature from the electron energy distribution was measured indicating electron heating. Plasma density uniformity was enhanced with the RF bias power. This study can be helpful for the control of the optimum discharge condition, as well as the basic understanding for correlation between the RF bias and plasma parameters.