• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2003.02a
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• pp.118-119
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• 2003

휴대용 통신기기의 발달로 인해 실내 및 실외 환경에서 높은 성능을 발휘하는 LCD 소자가 요구되고 있다. 후면광원을 사용하는 투과형 LCD는 실내 혹은 어두운 곳에서 높은 휘도와 명암대비비를 가지는 반면 실외나 밝은 곳에서는 높은 휘도 및 명암대비비를 보일 수 없다. 그에 반해 반사형 LCD는 주변광을 광원으로 사용하므로 실외 혹은 밝은 곳에서의 전기광학 특성이 양호한 장점이 있지만 실내 및 어두운 곳에서의 사용이 제한된다. (중략)

• The Bulletin of The Korean Astronomical Society
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• v.37 no.2
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• pp.135.2-135.2
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• 2012

일반적으로 전자파챔버는 패러데이 케이지(Faraday Cage)라고 불리는 금속재질의 차폐구조물과 구조물 내부에서 발생할 수 있는 전자파의 반사를 억제하는 전파 흡수체로 구성되어 있다. 전자파 환경시험의 무결성을 유지하기 위해서는 챔버 내부에서 발생하는 전자기파가 외부로 나가는 것이 차단되어야 하며 역으로 챔버 외부에서 발생하는 전자기파도 챔버 내부로 유입되지 않도록 전자파챔버 차폐완결성이 유지되어야 한다. 이를 정량적으로 측정함으로서 전자파챔버의 차폐율(Shielding Effectiveness)이 정의될 수 있다. 이상적으로는 전자파챔버의 차폐구조물이 이음새 없이 완벽한 차폐완결성이 유지되어야 하나, 시험품의 이동을 위한 도어 및 외부 EGSE와 시험품간 전기적인 연결을 위한 포트 플레이트의 설치로 인해 완벽한 차폐완결성을 유지하는 것은 불가능하다. 따라서, 본 논문에서는 항공우주연구원에 설치된 전자파챔버의 일반 차폐면, 도어, 포트 플레이트에 대한 차폐율 측정을 통해 차폐율을 정량적으로 검증하였다. 또한, 본 측정 경험과 결과 분석은 전자파 챔버에서 이뤄지는 전자파환경시험의 신뢰성을 증진하고 향후 전자파 챔버 유지보수 및 대형 위성의 전자파 환경시험을 위한 대형 전자파 시험시설의 성능시험을 위해 활용될 수 있을 것이다.

• Journal of the Korean Ceramic Society
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• v.34 no.1
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• pp.79-87
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• 1997

Anti-reflective and anti-static double layered films were prepared on the VDT panel by sol-gel spin-coating method. Their electrical, opticla, and mechanical properties were investigated. The outer SiO2 film with low re-fractive index was coated over the inner ATO(Antimony-doped Tin Oxide)-SiO2 film which was prepared by mixing ATO sol with SiO2 at molar ratio of 68:32 to satisfy the interference condition of double layers. The heat treatment was conducted at 45$0^{\circ}C$ for 30 min where residual organics were completely removed. The sheet resistance of ATO single layer showed the minimum value of 6$\times$107$\Omega$/$\square$ at 3 mol% addition of Sb and that of SiO2/ATO-SiO2 increased slightly with increasing SiO2 mol% up to 30 mol%, and then increased steeply to the value of 3$\times$108$\Omega$/$\square$ at 32 mol%. The reflectance of double layered films was about 0.64% at the wavelength of 550nm and the transmittance increased about 3.20%. The hardness of double layered films was almost the same as that of uncoated VDT panel, 471.4kg.f/mm2.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2010.05a
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• pp.28.1-28.1
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• 2010

다양한 반도체 재료 중 ZnO는 3.2 eV의 넓은 밴드 갭을 통한 고효율의 단파장 전기광학 소자 응용 개발에 대한 연구가 진행중에 있으며, 60 meV의 넓은 엑시톤 결합 에너지로 인해 높은 기계적, 열적 안정성을 가진다. 또한 높은 투과성과 굴절율(n=2)을 가지며 이방성 성장을 통한 텍스처 코팅이 가능함으로 PV(photovoltaics)용 유전체 ARC(anti-reflection coating) 재료로 유망하다. 텍스처된 표면은 빛을 차단시키며, 광대역에서 반사를 억제 시킨다. 또한 나노 구조를 통한 나노 다공성 표면은 광대역에서 빛을 모으는 장점이 있으며 태양전지 효율을 극대화 시킬 수 있다. 본 연구에서는 저온 공정이 가능한 hydrothermal 방법으로 다양한 ZnO 나노 구조를 합성하였다. 사용된 합성 재료로 사용되는 zinc nitrate($Zn(NO_3)_2.6H_2O$), hexamethyltetramine(HMT, $C_6H_{12}N_4$)의 농도 및 합성 온도 변화를 통해 다양한 나노구조(나노선, 나노막대, 나노시트 등)의 형태 및 크기를 제어하였다. 이러한 구조적인 변화를 토대로 텍스처된 다공성 나노구조를 형성시키고, 그 형상과 크기 차이에 따른 AR 특성을 평가하였다. ZnO 나노 구조의 결정학적 특성은 XRD(x-ray diffractometer)를 이용하여 분석하였으며, SEM(scanning electron microscope)을 통해 나노 구조의 모양과 크기를 관찰하였다. 또한 UV-Vis spectrophotometer를 통해 나노 구조의 흡수도와 반사도를 측정하였다.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.11 no.10
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• pp.3853-3858
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• 2010

This paper shows electrical analysis of the silicon solar cell according to the various ARC thickness using Medici program. we built a mesh structure of the solar cell that use ARC consisting of ITO(Indium-Tin-Oxide) transparent electrode, for the Medici modeling. About various oxide layer thickness of the ARC for 30 nm, 60 nm, 90 nm, changes of the I-V curve, Isc, Voc, transmittance and external collection efficiency performed according to wavelength of Incident ray. Simulation results show maximum power 22 mW/$cm^2$, fill factor 0.83 in condition of 60 nm ITO thickness.

• Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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• v.21 no.2
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• pp.99-103
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• 2008

To improve efficiency of solar cells, it is important to make a light trapping structure to reduce surface reflectance for increasing absorption of sun light within the solar cells. One of the promising methods that can reduce surface reflectance is isotropic texturing with acid solution based on hydrofluoric acid(HF), nitric acid($HNO_3$), and organic additives. Anisotropic texturing with alkali solution is not suitable for multicrystalline silicon wafers because of its different grain orientation. Isotropic texturing with acid solution can uniformly etch multicrystalline silicon wafers unrelated with grain orientation, so we can get low surface reflectance. In this paper, the acid texturing solution is made up of only HF and $HNO_3$ for easy controlling the concentration and low cost compared to acid solution with organic additives. $HNO_3$ concentration and dipping time were varied to find the condition of minimum surface reflectance. Textured surfaces were observed Scanning Electron Microscope(SEM) and surface reflectance were measured. The best result of arithmetic mean(wavelength from 400 nm to 1000 nm) reflectance with acid texturing is 4.64 % less than alkali texturing.

• Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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• 2006.05a
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• pp.108-113
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• 2006

야간 운전시 전조등의 밝기 변동에 대한 운전자의 인식 연구를 위하여 먼저 실내 실험실을 설계 및 구축하고 전조등의 순간적인 밝기 변동과 피험자의 뇌파 측정을 위한 시스템을 구축하였다. 실내 실험실의 설계를 위해 야간 운전시 전조등에 의한 운전자의 순응휘도를 먼저 결정한 후, 순응휘도를 바탕으로 실내 실험실의 바닥면, 수직벽, 측벽 등의 반사율을 계산하고, 실내 실험실의 수직벽 상에 출현할 장애물의 크기와 밝기를 계산하였다. 또한 피험자의 뇌파 측정을 위해서는 32개의 뇌파 측정 채널과 1개의 트리거 채널을 지니고 있는 WEEG-32를 사용하였고, 전조등의 순간적인 전압 변동을 위해서는 HP 6032-A를 사용하였다. 또한 HP 6032-A와 WEEG-32를 제어하기 위한 콘트롤러를 제작하였고 본 실험에 들어가기 전 예비실험을 행하여 실험 시간, 피험자 휴식 시간, 구체적 실험 순서, 전조등의 전압변화 패턴, 장애물 경로 등을 결정하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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• 2009.05a
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• pp.129-134
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• 2009

The actual conditions of school illumination was investigated. The illumination state was classified by the number of installed luminaires per 1 classroom. The illuminance state was measured and analyzed. The work surface illuminance was up to the standard, but the illuminance on blackboard was below standard when there was no local illumination. As a result of conducting a simulation based on the mesurement of the reflection factors of the classroom finishing materials and lamp replacement and lamp cleaning, nine luminaires for general lighting and local lighting for the blackboard were required, and the kind of design considered illumination maintenance was called for.

• Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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• v.23 no.6
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• pp.14-23
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• 2009

The actual conditions of school illumination was investigated. The illumination state was classified by the number of installed luminaires per 1 classroom. The illuminance was measured and analyzed. The work surface illuminance was up to the standard, but the illuminance on blackboard was below standard when there was no local lighting. As a result of conducting a simulation based on the measurement of the reflection factors of the classroom finishing materials and lamp replacement and lamp cleaning, nine luminaires for general lighting and local lighting for the blackboard were required, and a design considering illumination maintenance was called for.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2007.06a
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• pp.16-17
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• 2007

To improve efficiency of solar cells, it is important to make a light trapping structure to reduce surface reflectance for increasing absorption of sun light within the solar cells. One of the promising methods that can reduce surface reflectance is isotropic texturing with acid solution based on hydrofluoric acid(HF), nitric acid($HNO_3$), and organic additives. Anisotropic texturing with alkali solution is not suitable for multicrystalline silicon wafers because of its different grain orientation. Isotropic texturing with acid solution can uniformly etch multicrystalline silicon wafers unrelated with grain orientation, so we can get low surface reflectance. In this paper, the acid texturing solution is made up of only HF and $HNO_3$ for easy controling the concentration and low cost compared to acid solution with organic additives. $HNO_3$ concentration and dipping time were varied to find the condition of minimum surface reflectance. Textured surfaces were observed Scanning Electron Microscope(SEM) and surface reflectance were measured. The best result of arithmetic mean(wavelength from 400nm to 1000nm) reflectance with acid texturing is 4.64% less than alkali texturing.