$SF_6$ 플라즈마를 이용한 텅스템 실리사이등 식각공정에서의 미세 식각형성 특성에 관한 연구
(Experimental Study of Microscopic Etching Shapes in the RIE Processes of Tungsten Silicide Films Using $SF_6$ Plasma)
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- 한국진공학회지
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- 제4권1호
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- pp.91-103
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- 1995