• Title/Summary/Keyword: 이온전류

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Optimization for Higher Sensitive Measurements of FET-type Sensors (FET센서 감도 향상 측정을 위한 최적화)

  • Sohn, Young-Soo
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • v.26 no.1
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    • pp.116-119
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    • 2015
  • Field-effect transistor (FET)-based ion or biosensors have been intensively studied so far. Among many measurement methods, the variation of the drain current can be induced when ions or biomolecules are interacted with sensing membranes located on the gate insulator of FET. One of typical FET-type sensors is an ion-sensitive field-effect transistor (ISFET) utilized in this study. In ISFET, the voltage is usually applied to the reference electrode instead of the gate voltage. Firstly, the voltage applied to the reference electrode versus the drain current was observed, and the steepest slope in this graph was found. Using this point, the optimized condition was established for the larger variation of the drain current in the saturated region in response to the variation of the input in the dynamic range.

1.2KV AlGaN/GaN Schottky Barrier Diode Employing As+ Ion Implantation on $SiO_2$ Passivation layer (항복전압 향상을 위해 As+ 이온을 주입한 AlGaN/GaN 쇼트키 장벽 다이오드)

  • Kim, Min-Ki;Lim, Ji-Yong;Choi, Young-Hwan;Kim, Young-Shil;Seok, O-Gyun;Han, Min-Koo
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2009.07a
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    • pp.1229_1230
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    • 2009
  • $SiO_2$ 패시베이션 층에 As+ 이온을 주입한 1.2 kV급 AlGaN/GaN 쇼트키 장벽 다이오드( Schottky Barrier Diode, SBD )를 제작하였다. 주입된 As+ 이온들은 역방향 바이어스에서 공핍 영역의 곡률을 변화 시켰고, 이로 인해 항복 전압이 증가하고 누설 전류가 감소하였다. 제안된 소자의 항복전압이 1204 V 이었고, 기존 소자의 항복전압은 604 V 이었다. 캐소드 전압이 100 V일 때 제안된 소자의 누설전류는 21.2 nA/mm 이었고, 같은 조건에서 제안된 소자는 $80.3{\mu}A/mm$ 이었다. 주입된 As+ 양이온은 이차원 전자 가스( Two-Dimensional Electron Gas, 2DEG )에 전자를 유도했고, 채널의 농도가 미세하게 증가하였다. 따라서 순방향 전류가 증가하였다.

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Analysis of the Drain Current in Nonuniformly Doped Channel(NUDC) MOSFET's due to Pocket Ion Implantation (포켓 이온주입으로 비균질 채널도핑을 갖는 MOSFET소자의 드레인 전류 해석)

  • Koo, Hoe-Woo;Park, Joo-Seog;Lee, Kie-Young
    • Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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    • v.36D no.9
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    • pp.21-30
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    • 1999
  • Halo pocket implantation in MOSFETs, which is known to be an efficient method to provent the punchthrough and threshold voltage roll-off phenomena, decreases the drain current of MOSFET devices. Although the decrease of the drain current in halo structure MOSFET is usually explained in terms of the increase of the threshold voltage, more decrease in the drain current than is predicted by the increased threshold voltage has experimentally been observed. In this work, the effect of halo doping profile on the drain current degradation is investigated in terms of the field distribution along the channel. Effective mobility model of the halo MOSFETs due to pocket implantation is presented and the degradation of the mobility is shown to be effective in the further decrease of the drain current. Present model is shown to be in good agreement with experimental results.

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Ion Conductivity of Membrane in Proton Exchange Membrane Fuel Cell (고분자전해질 연료전지에서 고분자 막의 이온 전도도)

  • Hwang, Byungchan;Chung, Hoi-Bum;Lee, Moo-Seok;Lee, Dong-Hoon;Park, Kwonpil
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.54 no.5
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    • pp.593-597
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    • 2016
  • The effects of relative humidity, current density and temperature on the ionic conductivity were studied in PEMFC (Proton Exchange Membrane Fuel Cell). Water contents and water flux in the electrolyte membrane largely affected ion conductivity. The water flux was modelled and simulated by only electro-osmotic drag and back-diffusion of water. Ion conductivities were measured at membrane state out of cell and measured at MEA (Membrane and Electrode Assembly) state in condition of operation. The water contents in membrane increase as relative humidity increased in PEMFC, as a results of which ion conductivity increased. Current enhanced electro-osmotic drag and back diffusion and then water contents linearly increased. Enhancement of current density results in ion conductivity. Ion conductivity of about 40% increased as the temperature increased from $50^{\circ}C$ to $80^{\circ}C$.

Diffusion Coefficient of Ag(I) ion in the Concentrated Nitric Acid Solution (고농도 질산용액에서 Ag(I) 이온의 확산계수 측정)

  • Park Sang Yoon;Choi Wang Kyu;Lee Kune Woo;Moon Jei Kwon;Oh Won Zin
    • Journal of the Korean Electrochemical Society
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    • v.2 no.2
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    • pp.93-97
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    • 1999
  • From the anodic peak currents of cyclic voltammograms for Ag(I)/Ag(II) couple obtained with the variation of nitric acid concentration, Ag(I) concentration and solution temperature at a Pt electrode in concentrated nitric acid solutions, the diffusion coefficients of Ag(I) ion were evaluated to estimate the limiting current density of Ag(II)-mediated electrochemical oxidation (MEO) process, which has been effectively used for the complete destruction of hazardous organic materials. The results showed that, due to the water decomposition reaction which occurred simultaneously with the Ag(I) ion oxidation, background subtractions for the cyclic voltammograms were required to estimate the correct peak currents. The empirical relationship for the diffusion coefficient of Ag(I) was suggested as a function of solution viscosity and temperature.

Modulated Sputtering System (MSS)의 특성 분석 및 박막 증착

  • Kim, Dae-Cheol;Kim, Tae-Hwan;Kim, Yong-Hyeon;Han, Seung-Hui;Kim, Yeong-U
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.488-488
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    • 2013
  • 일반적으로 sputtering 방식을 이용한 박막 증착 방법은 장치가 간단하고 고품질의 박막이나 균일한 박막을 만들 수 있는 장점이 있어 널리 사용된다. 본 연구에서는 기존의 sputtering 방식에 Modulation technology를 적용하고자 한다. Modulation technology를 이용하여 전원의 pulse on 시에는 일반적인 sputter 방식으로 기판에 박막을 증착하고 pulse off 시에는 양의 전압을 인가하여 이온빔을 발생시킨 후 기판에 입사시키는 방식을 적용하여 박막 형성의 특성을 향상시키고자한다. 이는 고온의 heater 및 이온빔이나 레이저, 플라즈마 소스 등의 추가적인 에너지원의 장치가 필요 없이 고품질의 박막의 특성을 향상시키는 기대 효과가 있다. Modulated Sputtering System (MSS)에 인가되는 전압과 전류의 특성을 관찰하였으며 MSS에 인가하는 전압과 frequency, 그리고 duty cycle 변화에 따른 이온 에너지 분포를 에너지 분석기를 통해 측정하였다. 또한 Langmuir probe를 이용한 afterglow plasma 상태에서의 이온전류를 측정하였다. 그리고, MSS 이용하여 Ti 박막을 증착하였으며 박막의 특성을 분석하기 위하여 a-step, SEM, XRD, AFM을 이용하여 두께, 결정성장면, 표면 거칠기를 측정하였다. 측정 결과 기판에 입사되는 양이온의 에너지가 증가함에 따라 (002) 결정면 방향에서 (100) 결정면 방향으로 증착되고 표면 거칠기가 낮아짐을 측정하였다. 또한 Graphite 타겟을 이용한 carbon 박막을 증착하였으며 박막의 특성을 분석하기 위하여 Raman을 이용한 분석 결과 양이온의 에너지가 증가함에 따라 박막내의 sp3 함유량이 변화함을 측정하였다.

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Measurement of Ionization rate in Ne-Xe Mixture Gas and Ne Gas in AC-PDP

  • 조대식
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 1999.07a
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    • pp.238-238
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    • 1999
  • 현대 AC-PDP(Plasma Display Panel)의 유지전극 구조는 공면 전극구조를 가지고 있다. 공면 전극구조하에서 Ne-Xe 혼합가스에 대한 이온화율 측정을 시도하였다. 일정한 전극 간격을 가지고 있는 공면 전극 구조에서 암전류와 방전류를 측정함으로써 이온화율을 측정하였다. 본 실험의 결과를 통하여 압력으로 규격화된 전기장에 대하여 압력으로 규격화된 이온화율을 나타낼 수 있으며 단일 가스에 대한 이온화율과 혼합값에 대한 이온화율을 비교할 수 있으며 실제 PDP구조하에서의 이온화율을 적용할 수 있다.

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Measurement of Relativistic Electron Beam Propagation with Localized Plasma Channel

  • 최명철
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 1999.07a
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    • pp.242-242
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    • 1999
  • 상대론적 전자빔 발생장치(300kV, 40kA, 60ns)를 통하여 발생하는 전자빔은 진공 중에서 공간전하한계전류값을 갖게 되어 진행이 어렵다. 이런 전자빔의 전파특성을 향상시키기 위하여 여러 가지 방법들이 실험되어졌다. 본 실험실에서 수행한 실험은 전자빔의 진행해나가는 도파관 속에 국부적인 plasma channel을 형성시키고 이에 따른 전자빔의 전파율의 향상을 유도하였다. 이때 형성되는 높은 에너지의 이온빔을 관찰하고 이온 전류밀도에 따른 전자빔의 수송효율사이의 관계를 관찰하였다. 전류밀도의 증가는 여러 가지로 응용 될 수 있다. 자유전자레이저(Free Electron Laser)는 microwave로부터 가시광선 영역을 포함해 X-ray 영역까지의 coherent radiation을 발생시킬 수 있는 개념의 장치이다. 이 장치에서 전자빔의 전류밀도는 출력되는 전자기파의 power와 직접적으로 관계하여 고출력 microwave 발생장치를 구성할 수 있다. 이번 실험에서는 일정한 국부적으로 형성된 plasma에 따른 강렬한 상대론적 전자빔의 전파효율의 향상을 관찰하였다.

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입구에 스테인리스 스틸 망이 장착된 조합펌프의 배기속도

  • Kim, Se-Hyeon;Park, Jong-Do;Ha, Tae-Gyun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.148.2-148.2
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    • 2014
  • PLS-ll 빔 저장 시 photon absorber에서 튀어나온 광전자는 아래에 위치한 이온펌프의 전극에 흡수되어 컨트롤러에 허위전류를 인가해 부하를 준다. 전극을 향하는 광전자를 차단하기 위해 펌프 입구에 스테인리스 스틸 망을 장착한다. 장착 전 후의 이온펌프 전류 변화를 통해 전자의 차단 유무를 확인하고 펌프의 배기속도 변화를 측정해 이를 여러 가지 계산결과와 비교한다. 컨덕턴스 저하로 인한 실효 배기속도의 감소는 1% 이하로 예상되므로 장착된 스테인리스 스틸 망이 전체 조합펌프의 배기속도에는 큰 영향을 주지 않으며 안정적인 이온펌프 제어를 하게 할 것으로 기대한다.

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Characterization of Cold Hollow Cathode Ion Source by Modification of Electrode Structure (전극 구조 변화에 따른 Cold Hollow Cathode Ion Source의 특성 변화)

  • Seok, Jin-Woo;Chernysh, V.S.;Han, Sung;Beag, Young-Hwoan;Koh, Seok-Keun;Yoon, Ki-Hyun
    • Journal of the Korean Ceramic Society
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    • v.40 no.10
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    • pp.967-972
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    • 2003
  • The inner-diameter 5 cm cold hollow cathode ion source was designed for the high current density and the homogeneous beam profile of ion beam. The ion source consisted of a cylindrical cathode, a generation part of magnetic field, a plasma chamber, convex type ion optic system with two grid electrode, and DC power supply system. The cold hollow cathode ion sources were classified into standard type (I), electron output electrode modified type (II). The operation of the ion source was done with discharge current, ion beam potential and argon gas flow rate. The modification of electron output electrode resulted in uniform plasma generation and uniform area of ion beam was extended from 5 cm to 20 cm. Improved ion source was evaluated with beam uniformity, ion current, team extraction efficiency, and ionization efficiency.