RF-Magnetron Sputtering 법의 공정변수 변화에 따른 ITO 박막 결정은 우선 배향 거동 (Preferred Orientation Behavior of ITO Thin Films Prepared by RF-Magnetron Sputtering Method with Various Process Parameters)
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- 한국세라믹학회:학술대회논문집
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- 한국세라믹학회 2003년도 춘계총회 및 연구발표회 초록집
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- pp.142.1-142
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- 2003