Preferred Orientation Behavior of ITO Thin Films Prepared by RF-Magnetron Sputtering Method with Various Process Parameters

RF-Magnetron Sputtering 법의 공정변수 변화에 따른 ITO 박막 결정은 우선 배향 거동

  • 박주오 (경북대학교 무기재료공학과) ;
  • 이준형 (경북대학교 무기재료공학과) ;
  • 김정주 (경북대학교 무기재료공학과) ;
  • 조상희 (경북대학교 무기재료공학과) ;
  • 정우환 (호원대학교 전기전자정보공학부)
  • Published : 2003.04.18